Pro přípravu této funkce používáme cookies. Pokud smíme použít cookies i pro další účely, klikněte prosím sem. Informace k deaktivaci cookies a ochraně osobních údajů
Soubor článků pro EUV litografii

V zájmu médií: EUV litografie

Extrémní ultrafialové záření (EUV) pro osvětlení waferu je bezpochyby tématem budoucnosti v čipovém průmyslu. Není proto divu, že se tímto tématem pravidelně zabývá odborný, ale i popularizační tisk a probíhá vývoj technologie. Na této straně najdete přehled několika nejvýznamnějších národních a mezinárodních článků.

5nm EUV proces společnosti Samsung je připraven

Autor Marc Sauter v tomto článku na Golem.de uvádí, že společnost Samsung Foundry dokončila vývoj 5nm metody s extrémním ultrafialovým zářením (EUV) a od této chvíle přijímá od zákazníků zakázky. Díky této nové metodě lze zvýšit hustotu tranzistorů o 25 % a čipy zároveň mají o 20 % nižší spotřebu energie, resp. o 10 % vyšší výpočetní výkon.

Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 04/2019
Odkaz: na článek

Samsung vyrábí 7nm čipy za pomoci EUV osvětlení

Web Heise.de v tomto článku informuje o tom, že Samsung zahájil na podzim 2018 výrobu ve své první 7nm továrně, kde osvětluje wafery pomocí EUV litografického systému společnosti ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek

Náskok v čase

Obchodní zpráva společnosti TRUMPF 2017/2018 vysvětluje, jak vytváří ovládání světla – a tím i laser a EUV litografie – základ pro budoucí technologie, jako jsou umělá inteligence, nezávislá jízda a továrny propojené do sítě.

Zdroj: Obchodní zpráva TRUMPF GJ 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek

Disponibilita EUV skenerů se zvýšila na 85 procent

Článek na webu golem.de oznamuje, že společnost ASML vylepšila své systémy NXW:3400B natolik, že se reálně přiblížila cenově a časově efektivní sériová výroba s extrémním ultrafialovým zářením. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 07/2018
Odkaz: na článek

The secret of EUV generation

LaserFocusWorld v tomto článku zachycuje více než dvacetiletý vývoj EUV technologie a popisuje četné překážky a výzvy, se kterými bylo nutné se vypořádat až do průlomu v roce 2015.

Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Datum vydání: 11/2017
Odkaz: na článek

TRUMPF consolidates EUV lithography supply chain with Access Laser deal

Tato zpráva v odborném časopise "Produktion" se zabývá převzetím většinového podílu ve společnosti Access společností TRUMPF. Jako výrobce nízkovýkonových CO2 laserů je společnost Access Laser jedním z nejdůležitějších partnerů společnosti TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Datum vydání: 10/2017
Odkaz: na článek

TRUMPF chce udělat revoluci v čipovém průmyslu

Noviny "Stuttgarter Zeitung" informují, jak vstoupila společnost TRUMPF se svým produktem Laser Amplifier jako dodavatel do polovodičového průmyslu a pro svůj obchod založila novou dceřinou společnost. Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Datum vydání: 05/2017
Odkaz: na článek

EUV vstoupila do IC výroby

Článek v týdeníku pro elektroniku "Markt&Technik" shrnuje aktuální a plánované ukazatele obratu a odbytu společnosti ASML, které dokládají, že EUV litografie nyní konečně vstoupila do průmyslu. Zdroj: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Datum vydání: 07/2017
Odkaz: na článek

Také by vás mohla zajímat tato témata

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Servis a kontakt

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Czech Republic. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Czech Republic
United States

Or, select a country or a region.