Pro přípravu této funkce používáme cookies. Pokud smíme použít cookies i pro další účely, klikněte prosím sem. Informace k deaktivaci cookies a ochraně osobních údajů
TRUMPF Laser Amplifier pro výrobu vysoce výkonných čipů
TRUMPF Laser Amplifier pro výrobu vysoce výkonných čipů
CO2 laser

TRUMPF Laser Amplifier

Díky laserovému impulzu poskytuje základ pro výrobu budoucích mikročipů.

EUV litografie jako průkopník digitální epochy

EUV litografie vyhrává souboj o výrobní metodu pro budoucí mikročipy. Mnoho let hledal polovodičový průmysl cenově efektivní metodu vhodnou pro sériovou výrobu, pomocí které by bylo možné osvítit ještě menší struktury na křemíkových waferech. Společnosti ASML, Zeiss a TRUMPF společně vyvinuly technologii vytváření extrémně ultrafialového světla (EUV) s vlnovou délkou 13,5 nm pro průmyslové použití: generátor kapiček vystřeluje ve vakuové komoře 50 000 nejmenších kapek cínu za sekundu. Každá z těchto kapek je zasažena jedním z 50 000 laserových impulzů a následně přeměněna na plazma. Tak vzniká EUV světlo, které je pomocí zrcadla odkloněno na wafer za účelem jeho osvětlení. Laserový impulz pro vyzařování plazmatu poskytuje pulzní laserové zařízení CO2 vyvinuté společností TRUMPF – TRUMPF Laser Amplifier.

Z několika wattů na 40 kilowattů

TRUMPF Laser Amplifier postupně zesiluje laserový impulz na více než 10 000násobek.

Efektivně a procesně spolehlivě

Díky vyzařování předimpulzu a hlavního impulzu lze kompletní výkon zařízení Laser Amplifier přenést na kapku cínu.

Nové využití CO2 laserů

Základem vysoce výkonného laserového systému je CO2 laser v kontinuálním režimu. Společnost TRUMPF díky tomu vytváří nové využití této technologie.

Velká síť specialistů

V průběhu dlouholeté úzké spolupráce dovedly společnosti TRUMPF, ASML a ZEISS technologii EUV do fáze připravenosti pro průmyslové použití.

457.329

Díly

… obsahuje zařízení Laser Amplifier.

7 322

Metr

… kabely jsou zabudovány do systému.

17 090

Kilo

… činí celkovou hmotnost.

Hlavní komponenty zařízení TRUMPF Laser Amplifier

Aktuální nabídka volných pozic

1

Entwicklungsingenieur (w/m/d) CO2- Lasersysteme

Výzkum/vývoj, Výroba / management kvality | Ditzingen / Germany

2

Projektingenieur (w/m/d)

Výzkum/vývoj, Výroba / management kvality | Ditzingen / Germany

3

Systemingenieur (w/m/d) CO2-Lasersysteme

Výzkum/vývoj | Ditzingen / Germany

Také by vás mohla zajímat tato témata

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Servis a kontakt

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Czech Republic. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Czech Republic
United States

Or, select a country or a region.