Pro zajištění funkčnosti této webové prezentace používáme cookies. Pokud nám chcete povolit použití cookies i pro další účely, klikněte zde. Informace o deaktivaci cookies a ochraně osobních údajů
Řešení vysokofrekvenčního systému: matchbox pro maximální procesní stabilitu
Řešení vysokofrekvenčního systému: matchbox pro maximální procesní stabilitu
Excitace plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Match série 1000 (G2/13)

Inteligentní přizpůsobení pomocí měření v reálném čase

Jednotné řešení vysokofrekvenčního systému

Nové matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13) představují ideální doplněk vysokofrekvenčních generátorů od TRUMPF Hüttinger. Díky inteligentnímu algoritmu přizpůsobení a digitální řídicí platformě vzniká jednotné řešení, v němž všechny komponenty optimálně spolupůsobí: TRUMPF RF systém.

Inteligentní algoritmus přizpůsobení

Rychlé, stabilní a opakovatelné přizpůsobení impedance 50 ohmům dokonce i v kritických procesech.

Optimální souhra celkového systému

Pokrokový software a vylepšená komunikace mezi generátorem a matchboxem.

Měření vysokofrekvenčního výkonu v reálném čase

Rychlé sledování systému při každé změně impedance matchboxu a zátěže.

Uzavřený regulační okruh

Optimální kontrola procesních parametrů a včasné rozpoznání elektrického oblouku.

Uživatelsky přívětivá procesní kontrola

Grafická ovládací plocha a efektivní nástroje (Smithův diagram, osciloskop v reálném čase).

Řešení vysokofrekvenčního systému: matchbox pro maximální procesní stabilitu

Výroba polovodičů, solárních článků a plochých obrazovek

Při výrobě polovodičů, solárních článků a plochých obrazovek jsou rozhodující stabilní plazmové procesy. Ve spojení s vysokofrekvenčními generátory TRUMPF Hüttinger nabízí matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13) komplexní řešení pro maximální procesní stabilitu a produktivitu.

Podpora u povlakování tvrdých materiálů: matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13)

Nanášení vrstev s tvrdými materiály a odolných vůči opotřebení

Nanášením funkčních vrstev získávají silně namáhané obrobky vyšší mechanickou tvrdost a lepší tepelnou a chemickou stabilitu. Matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13) zajišťují v souladu s vysokofrekvenčním generátorem TRUMPF Hüttinger dokonalou kvalitu vrstvy.

Ideálně vhodné pro velkoplošné povlakování: matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13)

Odstranění a povlakování povrchů

Matchboxy TruPlasma Match série 1000 (G2/13) lze použít ve všech obvyklých plazmových procesech k povlakování nebo odstranění povrchů, např. plazmové leptání, reaktivní iontové leptání, ALD, PECVD, vysokofrekvenční naprašování nebo plazmové spalování fotocitlivého materiálu. V souladu s vysokofrekvenčním generátorem TRUMPF Hüttinger je docíleno optimálních výsledků procesu.

- / -
RF výstup        
Výstupní výkon 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Jmenovitý výkon 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Výstupní frekvece 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Data připojení k síti        
Síťové napětí (±10%) 23,5 V - 24,5 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 23,5 V - 24,5 V
Síťová frekvence 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz 50 Hz - 60 Hz
Komunikační rozhraní        
Rozhraní Sync Ano Ano Ano Ano
Analogový/digitální Ano Ano Ano Ano
RS 232 / RS 485 Ano Ano Ano Ano
PROFIBUS Ano Ano Ano Ano
EtherCAT Ano Ano Ano Ano
DeviceNet Ne Ne Ne Ne
Skříň        
Hmotnost 8 kg 27 kg 30 kg 15 kg
Krytí IP 21 21 21 21
Požadavky na chlazení        
Max. tlak vody - 6 bar 6 bar -
Min. tlakový rozdíl - 1,5 bar 1,5 bar -
Min. průtokové množství - 3,5 l/min 5 l/min -
Teplota chladiva - 10 °C - 30 °C 1 10 °C - 30 °C 1 -
Všeobecně        
Certifikáty / standardy CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47
Podmínky prostředí        
Venkovní teplota 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C
Vlhkost vzduchu 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 %
Barometrický tlak 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa
PDF <1MB
Technický datový list

Technické údaje všech produktových variant jako soubory ke stažení.

Vždy zaručen plný dodávaný výkon vysokofrekvenčního generátoru

Vždy dokonalá procesní kontrola

Matchbox vždy zajišťuje rychlé a přímé přizpůsobení impedance 50 ohmům, tím je vždy zaručen plný dodávaný výkon vysokofrekvenčního generátoru do procesu. Bezproblémová komunikace mezi matchboxem a generátorem umožňuje optimální sledování procesu a včasnou identifikaci elektrického oblouku.

Uživatelsky přívětivý software TruControl Power

Přehled všech parametrů

Měření vysokofrekvenčního vstupního a výstupního výkonu v reálném čase signalizuje dynamické změny impedance, senzory chlazení umožňují spolehlivou předpověď ztrátového výkonu. Díky grafickému ovládacímu softwaru s komplexními možnostmi zobrazení (Smithův diagram, osciloskop v reálném čase) máte přehled o všech relevantních procesních parametrech.

TruPlasma RF_systémový port

TRUMPF SystemPort

SystemPort umožňuje uzavřený regulovaný oběh pomocí měření RF signálu přímo na vstupu a výstupu matchboxu. RF generátor má k dispozici veškeré naměřené hodnoty. Díky tomu lze lépe monitorovat procesní parametry, chránit matchbox a zaručit včasnou identifikaci elektrického oblouku. Kompletní RF systém lze řídit pomocí jednoho generátorového rozhraní.

Různé možnosti umožňují optimální přizpůsobení TRUMPF RF systému vaší aplikaci.

Měření vysokofrekvenčních proudů

Vysoce přesné měření AC pro zjištění odchylek plazmatu, umístěné do matchboxu v blízkosti procesu, přímo u komory.

Správa elektrického oblouku

Promyšlená správa elektrického oblouku je ideálním modulem pro optimální kontrolu plazmového procesu. Cílená identifikace elektrického oblouku zaručuje maximální produktivitu a zároveň chrání výrobek a zařízení.

Rozhraní

Jako volitelná rozhraní jsou k dispozici analogové/digitální, PROFIBUS a EtherCAT. Standardní rozhraní jsou EtherNet, SystemPort a RS232/485.

Uživatelsky přívětivý software TruControl Power

TruControl Power

Uživatelsky přívětivý řídicí software TruControl Power umožňuje pohodlné uvedení do provozu a bezpečnou kontrolu vysokofrekvenčního generátoru, příp. celého TRUMPF RF systému za provozu.

Uživatelsky přívětivý software TruControl Power

Grafický ovládací software

Komplexní grafická znázornění umožňují rozsáhlou kontrolu všech relevantních procesních parametrů. Impedance zátěže a matchboxu jsou vizualizovány prostřednictvím Smithova diagramu, vysokofrekvenční vstupní a výstupní výkon včetně kmitočtové a fázové polohy pomocí osciloskopu v reálném čase.

TRUMPF RF systém, sestávající z vysokofrekvenčního generátoru a matchboxu, tvoří dokonale přizpůsobený kompletní systém pro nejlepší výsledky procesu.

Uživatelsky přívětivý software TruControl Power
Grafický ovládací software

Komplexní grafická znázornění umožňují rozsáhlou kontrolu všech relevantních procesních parametrů. Impedance zátěže a matchboxu jsou vizualizovány prostřednictvím Smithova diagramu, vysokofrekvenční vstupní a výstupní výkon včetně kmitočtové a fázové polohy pomocí osciloskopu v reálném čase.

Master oscilátor pro stabilizaci kritických synchronních plazmových procesů
Master oscilátory

Pomocí master oscilátorů je možné stabilizovat a optimalizovat kritické synchronní plazmové procesy. Integrovaný digitální frekvenční a fázový syntetizátor zajišťuje vysokou frekvenční a fázovou stabilitu a umožňuje nastavení fázové polohy s velmi malou velikostí kroku. Lze vybrat různá provedení master oscilátorů pro frekvenci 13,56 MHz a různé kombinace frekvencí.

VF přepínač pro použití vysokofrekvenčního generátoru ve flexibilních plazmových systémech
VF přepínač

VF přepínač dovoluje vícenásobné použití vysokofrekvenčního generátoru na různých plazmových procesních stanicích, například pro elektrické napájení postupných procesů nebo v systémech s různými napájecími body. K dispozici jsou různé VF přepínače ve dvou výkonových třídách a s 2, 3 nebo 4 výstupy.

Koaxiální kabely pro přenos specifikovaného výkonu
Koaxiální kabely

Pro přenos vysokofrekvenčního výkonu nabízí TRUMPF Hüttinger koaxiální kabely, které jsou speciálně vytvořeny pro provoz v 50ohmových systémech.

Generátor a matchbox: dokonale přizpůsobené systémové řešení

Optimální ovládání plazmového procesu

Plazmové procesy se chovají jako komplexní, proměnlivé zatížení, ke kterému je nutné generátorem neustále dovádět elektrické napájení. To činí aktivní přizpůsobovací sítě, tzv. matchboxy, které zajišťují vždy přesné přizpůsobení optimální impedanci 50 ohmů. Tak vzniká dokonale přizpůsobené systémové řešení, systém TRUMPF RF. Pomocí různých rozhraní, mj. EtherCAT, můžete generátor a matchbox velmi jednoduše integrovat do svého stávajícího procesního prostředí a díky inteligentnímu spojení matchboxu a generátoru, tak zvaného SystemPort, dosáhnout optimalizovaného systémového řešení.

V závislosti na zemi se může tento produktový sortiment a tyto údaje lišit. Změny techniky, výbavy, ceny a nabídky příslušenstvi jsou vyhrazeny. Pro zjištění dostupnosti výrobku ve vaší zemi prosím kontaktujte vašeho místního partnera.

Poznámky pod čarou
  • Teplota chladicí vody musí být vyšší než rosný bod teploty prostředí, aby se zabránilo kondenzaci.

Také by vás mohla zajímat tato témata

Servis a kontakt

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Czech Republic . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Czech Republic
United States

Or select a country or region.