Společnost TRUMPF používá soubory cookie, aby mohla nabídnout velké množství služeb, pro jejich další vylepšování a pro zobrazení reklamy našich návštěvníkům v souladu s jejich zájmy.
Při zpracování vašich údajů může (dočasně) dojít k předání vašich údajů mimo EHP, např. do USA (čl. 49 odst. 1 písm. a nařízení GDPR), kde neexistuje vysoká evropská úroveň ochrany údajů, takže údaje mohou podléhat přístupu ze strany úřadů za účelem kontroly a dohledu, proti němuž nemusí být vymahatelná účinná právní ochrana ani dotčená práva.
Kliknutím na „Souhlas“ vyjadřujete souhlas s použitím souborů cookie pro stránky trumpf.com, mytrumpf.com včetně jejich podstránek. Přitom souhlasíte i s předáváním svých osobních údajů příjemcům ve třetích zemích, pro které neexistuje žádné rozhodnutí o odpovídající ochraně Evropské komise.
Svá nastavení souborů cookie můžete kdykoliv upravit nebo odvolat v nastavení soukromí.
Další podrobnosti najdete v Prohlášení o ochraně osobních údajů
Můžete svůj prohlížeč nastavit podle svých přání tak, že instalace souborů cookie bude obecně zakázána. V jednotlivém případu můžete pak rozhodnout o přijetí souborů cookie nebo soubory cookie v zásadě akceptovat nebo odmítnout.
Pokud jste nám výslovně udělili souhlas se zpracováním svých osobních údajů, je zaškrtnutonásledující zaškrtávací políčko. Tento souhlas můžete odvolat na této stránce tak, že odstraníte zaškrtnutí v následujícím zaškrtávacím políčku. Upozorňujeme vás, že zákonnost zpracování prováděného na základě souhlasu nebude až do odvolání dotčena.
Pokud zaškrtnete následující zaškrtávací políčko, vyjadřujete souhlas s použitím souborů cookie pro stránky trumpf.com, mytrumpf.com včetně jejich podstránek, jakož i s případným předáním vašich osobních údajů do třetí země.
Další podrobnosti najdete v Prohlášení o ochraně osobních údajů
Extrémní ultrafialové záření (EUV) pro osvětlení waferu je bezpochyby tématem budoucnosti v čipovém průmyslu. Není proto divu, že se tímto tématem pravidelně zabývá odborný, ale i popularizační tisk a probíhá vývoj technologie. Na této straně najdete přehled několika nejvýznamnějších národních a mezinárodních článků.
Autor Marc Sauter v tomto článku na Golem.de uvádí, že společnost Samsung Foundry dokončila vývoj 5nm metody s extrémním ultrafialovým zářením (EUV) a od této chvíle přijímá od zákazníků zakázky. Díky této nové metodě lze zvýšit hustotu tranzistorů o 25 % a čipy zároveň mají o 20 % nižší spotřebu energie, resp. o 10 % vyšší výpočetní výkon.
Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 04/2019
Odkaz: na článek
Web Heise.de v tomto článku informuje o tom, že Samsung zahájil na podzim 2018 výrobu ve své první 7nm továrně, kde osvětluje wafery pomocí EUV litografického systému společnosti ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek
Obchodní zpráva společnosti TRUMPF 2017/2018 vysvětluje, jak vytváří ovládání světla – a tím i laser a EUV litografie – základ pro budoucí technologie, jako jsou umělá inteligence, nezávislá jízda a továrny propojené do sítě.
Zdroj: Obchodní zpráva TRUMPF GJ 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek
Článek na webu golem.de oznamuje, že společnost ASML vylepšila své systémy NXW:3400B natolik, že se reálně přiblížila cenově a časově efektivní sériová výroba s extrémním ultrafialovým zářením. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 07/2018
Odkaz: na článek
LaserFocusWorld v tomto článku zachycuje více než dvacetiletý vývoj EUV technologie a popisuje četné překážky a výzvy, se kterými bylo nutné se vypořádat až do průlomu v roce 2015.
Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Datum vydání: 11/2017
Odkaz: na článek
Tato zpráva v odborném časopise "Produktion" se zabývá převzetím většinového podílu ve společnosti Access společností TRUMPF. Jako výrobce nízkovýkonových CO2 laserů je společnost Access Laser jedním z nejdůležitějších partnerů společnosti TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Datum vydání: 10/2017
Odkaz: na článek
Noviny "Stuttgarter Zeitung" informují, jak vstoupila společnost TRUMPF se svým produktem Laser Amplifier jako dodavatel do polovodičového průmyslu a pro svůj obchod založila novou dceřinou společnost. Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Datum vydání: 05/2017
Odkaz: na článek
Článek v týdeníku pro elektroniku "Markt&Technik" shrnuje aktuální a plánované ukazatele obratu a odbytu společnosti ASML, které dokládají, že EUV litografie nyní konečně vstoupila do průmyslu. Zdroj: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Datum vydání: 07/2017
Odkaz: na článek
