You have selected Česko. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?
Můžete svůj prohlížeč nastavit podle svých přání tak, že instalace souborů cookie bude obecně zakázána. V jednotlivém případu můžete pak rozhodnout o přijetí souborů cookie nebo soubory cookie v zásadě akceptovat nebo odmítnout.
Pokud jste nám výslovně udělili souhlas se zpracováním svých osobních údajů, můžete tento souhlas odvolat na této stránce tak, že odstraníte zaškrtnutí v následujícím zaškrtávacím políčku. Upozorňujeme vás, že zákonnost zpracování prováděného na základě souhlasu nebude až do odvolání dotčena.
Zaškrtnutím následujícího zaškrtávacího políčka vyjadřujete souhlas s použitím souborů cookie pro stránky trumpf.com, mytrumpf.com včetně jejich podstránek.
Další podrobnosti najdete v Prohlášení o ochraně osobních údajů
Nabídka
Zavřít
Zavřít
Zavřít
Extrémní ultrafialové záření (EUV) pro osvětlení waferu je bezpochyby tématem budoucnosti v čipovém průmyslu. Není proto divu, že se tímto tématem pravidelně zabývá odborný, ale i popularizační tisk a probíhá vývoj technologie. Na této straně najdete přehled několika nejvýznamnějších národních a mezinárodních článků.
Autor Marc Sauter v tomto článku na Golem.de uvádí, že společnost Samsung Foundry dokončila vývoj 5nm metody s extrémním ultrafialovým zářením (EUV) a od této chvíle přijímá od zákazníků zakázky. Díky této nové metodě lze zvýšit hustotu tranzistorů o 25 % a čipy zároveň mají o 20 % nižší spotřebu energie, resp. o 10 % vyšší výpočetní výkon.
Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 04/2019
Odkaz: na článek
Web Heise.de v tomto článku informuje o tom, že Samsung zahájil na podzim 2018 výrobu ve své první 7nm továrně, kde osvětluje wafery pomocí EUV litografického systému společnosti ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek
Obchodní zpráva společnosti TRUMPF 2017/2018 vysvětluje, jak vytváří ovládání světla – a tím i laser a EUV litografie – základ pro budoucí technologie, jako jsou umělá inteligence, nezávislá jízda a továrny propojené do sítě.
Zdroj: Obchodní zpráva TRUMPF GJ 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek
Článek na webu golem.de oznamuje, že společnost ASML vylepšila své systémy NXW:3400B natolik, že se reálně přiblížila cenově a časově efektivní sériová výroba s extrémním ultrafialovým zářením. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 07/2018
Odkaz: na článek
LaserFocusWorld v tomto článku zachycuje více než dvacetiletý vývoj EUV technologie a popisuje četné překážky a výzvy, se kterými bylo nutné se vypořádat až do průlomu v roce 2015.
Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Datum vydání: 11/2017
Odkaz: na článek
Tato zpráva v odborném časopise "Produktion" se zabývá převzetím většinového podílu ve společnosti Access společností TRUMPF. Jako výrobce nízkovýkonových CO2 laserů je společnost Access Laser jedním z nejdůležitějších partnerů společnosti TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Datum vydání: 10/2017
Odkaz: na článek
Noviny "Stuttgarter Zeitung" informují, jak vstoupila společnost TRUMPF se svým produktem Laser Amplifier jako dodavatel do polovodičového průmyslu a pro svůj obchod založila novou dceřinou společnost. Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Datum vydání: 05/2017
Odkaz: na článek
Článek v týdeníku pro elektroniku "Markt&Technik" shrnuje aktuální a plánované ukazatele obratu a odbytu společnosti ASML, které dokládají, že EUV litografie nyní konečně vstoupila do průmyslu. Zdroj: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Datum vydání: 07/2017
Odkaz: na článek
