Extrémní ultrafialové záření (EUV) pro osvětlení waferu je bezpochyby tématem budoucnosti v čipovém průmyslu. Není proto divu, že se tímto tématem pravidelně zabývá odborný, ale i popularizační tisk a probíhá vývoj technologie. Na této straně najdete přehled několika nejvýznamnějších národních a mezinárodních článků.

5nm EUV proces společnosti Samsung je připraven

Autor Marc Sauter v tomto článku na Golem.de uvádí, že společnost Samsung Foundry dokončila vývoj 5nm metody s extrémním ultrafialovým zářením (EUV) a od této chvíle přijímá od zákazníků zakázky. Díky této nové metodě lze zvýšit hustotu tranzistorů o 25 % a čipy zároveň mají o 20 % nižší spotřebu energie, resp. o 10 % vyšší výpočetní výkon.

Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 04/2019
Odkaz: na článek

Samsung vyrábí 7nm čipy za pomoci EUV osvětlení

Web Heise.de v tomto článku informuje o tom, že Samsung zahájil na podzim 2018 výrobu ve své první 7nm továrně, kde osvětluje wafery pomocí EUV litografického systému společnosti ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek

Náskok v čase

Obchodní zpráva společnosti TRUMPF 2017/2018 vysvětluje, jak vytváří ovládání světla – a tím i laser a EUV litografie – základ pro budoucí technologie, jako jsou umělá inteligence, nezávislá jízda a továrny propojené do sítě.

Zdroj: Obchodní zpráva TRUMPF GJ 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Datum vydání: 10/2018
Odkaz: na článek

Disponibilita EUV skenerů se zvýšila na 85 procent

Článek na webu golem.de oznamuje, že společnost ASML vylepšila své systémy NXW:3400B natolik, že se reálně přiblížila cenově a časově efektivní sériová výroba s extrémním ultrafialovým zářením. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Datum vydání: 07/2018
Odkaz: na článek

The secret of EUV generation

LaserFocusWorld v tomto článku zachycuje více než dvacetiletý vývoj EUV technologie a popisuje četné překážky a výzvy, se kterými bylo nutné se vypořádat až do průlomu v roce 2015.

Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Datum vydání: 11/2017
Odkaz: na článek

TRUMPF consolidates EUV lithography supply chain with Access Laser deal

Tato zpráva v odborném časopise "Produktion" se zabývá převzetím většinového podílu ve společnosti Access společností TRUMPF. Jako výrobce nízkovýkonových CO₂ laserů je společnost Access Laser jedním z nejdůležitějších partnerů společnosti TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Datum vydání: 10/2017
Odkaz: na článek

TRUMPF chce udělat revoluci v čipovém průmyslu

Noviny "Stuttgarter Zeitung" informují, jak vstoupila společnost TRUMPF se svým produktem Laser Amplifier jako dodavatel do polovodičového průmyslu a pro svůj obchod založila novou dceřinou společnost. Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Datum vydání: 05/2017
Odkaz: na článek

EUV vstoupila do IC výroby

Článek v týdeníku pro elektroniku "Markt&Technik" shrnuje aktuální a plánované ukazatele obratu a odbytu společnosti ASML, které dokládají, že EUV litografie nyní konečně vstoupila do průmyslu. Zdroj: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Datum vydání: 07/2017
Odkaz: na článek

Také by vás mohla zajímat tato témata

TRUMPF Laser Amplifier

TRUMPF Laser Amplifier dodává laserové impulsy, základ pro výrobu budoucích mikročipů. Zjistěte více o technologicky vyspělém CO₂ laserovém zařízení.

K produktu

Čipy vyrobené pomocí TRUMPF Laser Amplifier

EUV litografie

Bez extrémně ultrafialového světla – žádné moderní počítačové čipy. Jakou roli hrají vysoce výkonné CO₂ laserové systémy při výrobě polovodičových struktur si přečtěte zde.

Další podrobnosti

CO2 laser

TruFlow CO2 laser firmy TRUMPF je extrémně spolehlivý i v případě robustnějšího řezání a svařování v továrnách po celém světě.

Další podrobnosti