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RF-Systemlösung : Matchbox für höchste Prozessstabilität
RF-Systemlösung : Matchbox für höchste Prozessstabilität
Plasmaanregungen
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

Intelligentes Matching durch Echtzeitmessung

RF-Systemlösung aus einem Guss

Die neuen Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) stellen die ideale Ergänzung zu HF-Generatoren von TRUMPF Hüttinger dar. Dank des intelligenten Matching-Algorithmus und der digitalen Steuerplattform zur Prozessüberwachung entsteht eine ganzheitliche Lösung, in der alle Komponenten optimal zusammenwirken – das TRUMPF RF-System.

Intelligenter Matching-Algorithmus

Schnelle, stabile und reproduzierbare Impedanzanpassung an 50 Ohm selbst in kritischen Prozessen.

Optimales Zusammenspiel des Gesamtsystems

Fortschrittliche Software und verbesserte Kommunikation zwischen Generator und Matchbox.

Echtzeitmessung der HF-Leistung

Schnelle Nachführung des Systems bei jeder Impedanzveränderung von Matchbox und Last.

Geschlossener Regelkreislauf

Optimale Überwachung der Prozessparameter sowie frühzeitige Arc-Erkennung.

Benutzerfreundliche Prozesskontrolle

Grafische Bedienoberfläche und effektive Tools (Smith-Diagramm, Echtzeit-Oszilloskop).

RF-Systemlösung : Matchbox für höchste Prozessstabilität

Herstellung von Halbleitern, Solarzellen und Flachbildschirmen

Bei der Herstellung von Halbleitern, Solarzellen und Flachbildschirmen sind stabile Plasmaprozesse entscheidend. Im Verbund mit den TRUMPF Hüttinger HF-Generatoren bieten die Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) eine ganzheitliche Lösung für höchste Prozessstabilität und Produktivität.

Unterstützen bei Hartsoffbeschichtungen: Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

Aufbringung von Hartstoff- und Verschleißschutzschichten

Durch Aufbringung funktioneller Schichten erhalten stark beanspruchte Werkstücke eine erhöhte mechanische Härte sowie eine bessere thermische und chemische Stabilität. Die Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) stellen im Zusammenspiel mit einem HF-Generator von TRUMPF Hüttinger eine perfekte Schichtqualität sicher.

Ideal geeignet für großflächige Beschichtung: Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

Abtragung und Beschichtung von Oberflächen

Die Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) können in allen üblichen Plasmaprozessen zur Beschichtung oder Abtragung von Oberflächen eingesetzt werden – beispielsweise Plasmaätzen, reaktives Ionenätzen, ALD, PECVD, RF-Sputtering oder Fotolack-Plasmaveraschung. Im Zusammenspiel mit einem HF-Generator von TRUMPF Hüttinger werden dabei optimale Prozessergebnisse erzielt.

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RF Ausgang        
Ausgangsleistung 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Nennleistung 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Ausgangsfrequenz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Netzanschlussdaten        
Netzspannung (±10%) 23,5 V - 24,5 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 23,5 V - 24,5 V
Netzfrequenz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz 50 Hz - 60 Hz
Kommunikationsschnittstellen        
Sync Schnittstellen Ja Ja Ja Ja
Analog/Digital Ja Ja Ja Ja
RS 232 / RS 485 Ja Ja Ja Ja
PROFIBUS Ja Ja Ja Ja
EtherCAT Ja Ja Ja Ja
DeviceNet Nein Nein Nein Nein
Gehäuse        
Gewicht 8 kg 27 kg 30 kg 15 kg
Schutzart IP 21 21 21 21
Kühlungsanforderungen        
Max. Wasserdruck - 6 bar 6 bar -
Min. Druckdifferenz - 1,5 bar 1,5 bar -
Min. Durchflussmenge - 3,5 l/min 5 l/min -
Temperatur Kühlmedium - 10 °C - 30 °C 1 10 °C - 30 °C 1 -
Allgemein        
Zertifikate / Standards CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47
Umgebungsbedingungen        
Außentemperatur 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C
Luftfeuchte 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 %
Barometrischer Druck 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa
PDF <1MB
Technisches Datenblatt

Die technischen Daten aller Produktvarianten als Download.

Garantiert stets die volle Leistungsabgabe des HF-Generators

Perfekte Prozesskontrolle zu jeder Zeit

Die Matchbox sorgt jederzeit für eine schnelle und direkte Impedanzanpassung an 50 Ohm – so ist stets die volle Leistungsabgabe des HF-Generators in den Prozess garantiert. Die nahtlose Kommunikation zwischen Matchbox und Generator ermöglicht eine optimale Prozessüberwachung und frühzeitige Arc-Erkennung.

Bedienungsfreundliche Software TruControl Power

Alle Parameter im Blick

Die Echtzeitmessung der HF-Ein- und -Ausgangsleistung signalisiert dynamische Impedanzänderungen, Kühlungssensoren ermöglichen eine zuverlässige Vorhersage der Verlustleistung. Dank der grafischen Bediensoftware mit komplexen Darstellungsoptionen (Smith-Chart, Echtzeit-Oszilloskop) haben Sie alle relevanten Prozessparameter stets im Blick.

TruPlasma RF_Systemport

TRUMPF SystemPort

Der SystemPort ermöglicht einen geschlossenen Regelkreislauf durch das Messen des RF-Signals direkt am Eingang und Ausgang der Matchbox. Dem RF-Generator stehen sämtliche Messwerte zur Verfügung. Somit können Prozessparameter besser überwacht, die Matchbox geschützt und eine frühzeitige Arc-Erkennung gewährleistet werden. Das komplette RF-System kann also über eine einzelne Generatorschnittstelle gesteuert werden.

Verschiedene Optionen ermöglichen Ihnen die optimale Anpassung des TRUMPF RF-Systems an Ihre Anwendung.

HF-Strommessung

Hochgenaue AC Strommessung zur Detektion von Plasmaanomalien, platziert in der Matchbox nah am Prozess, direkt an der Kammer.

Arc-Management

Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und die Anlage.

Schnittstellen

Als optionale Schnittstellen stehen Analog/Digital, PROFIBUS und EtherCAT zur Verfügung. Standard sind EtherNet, SystemPort und RS232/485.

Bedienungsfreundliche Software TruControl Power

TruControl Power

Die anwenderfreundliche Steuerungssoftware TruControl Power ermöglicht eine komfortable Inbetriebnahme und sichere Überwachung des HF-Generators bzw. des gesamten TRUMPF RF-Systems im laufenden Prozess.

Bedienungsfreundliche Software TruControl Power

Grafische Bediensoftware

Komplexe grafische Darstellungen ermöglichen eine umfassende Kontrolle aller relevanten Prozessparameter. Last- und Matchbox-Impedanz werden mittels eines Smith-Diagramms, die HF-Ein- und -Ausgangsleistung inklusive Frequenz- und Phasenlage mit Hilfe eines Echtzeit-Oszilloskops visualisiert.

Das TRUMPF RF-System, bestehend aus HF-Generator und Matchbox, bildet ein perfekt aufeinander abgestimmtes Gesamtsystem für beste Prozessergebnisse.

Bedienungsfreundliche Software TruControl Power
Grafische Bediensoftware

Komplexe grafische Darstellungen ermöglichen eine umfassende Kontrolle aller relevanten Prozessparameter. Last- und Matchbox-Impedanz werden mittels eines Smith-Diagramms, die HF-Ein- und -Ausgangsleistung inklusive Frequenz- und Phasenlage mit Hilfe eines Echtzeit-Oszilloskops visualisiert.

Masteroszillator zur Stabilisierung kritischer synchroner Plasmaprozesse
Masteroszillatoren

Mittels Masteroszillatoren lassen sich kritische synchrone Plasmaprozesse stabilisieren und optimieren. Ein integrierter digitaler Frequenz- und Phasensynthesizer sorgt für eine hohe Frequenz- und Phasenstabilität und ermöglicht die Einstellung der Phasenlage mit sehr kleiner Schrittweite. Es stehen verschiedene Ausführung von Masteroszillatoren für die Frequenz 13,56 MHz sowie verschiedene Frequenzkombinationen zur Auswahl.

HF-Umschalter zur Nutzung eines HF-Generators an flexiblen Plasmasystemen
HF-Umschalter

Ein HF-Umschalter erlaubt die Mehrfachnutzung eines HF-Generators an verschiedenen Plasma-Prozessstationen, beispielsweise zur Stromversorgung sequenzieller Prozesse oder an Systemen mit verschiedenen Einspeisepunkten. Es sind verschiedene HF-Umschalter in zwei Leistungsklassen sowie mit 2, 3 oder 4 Ausgängen verfügbar.

Koaxialkabel zur Übertragung der spezifizierten Leistung
Koaxialkabel

Für die HF-Leistungsübertragung bietet TRUMPF Hüttinger Koaxialkabel an, die speziell für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen ausgelegt sind.

Generator und Matchbox: eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung

Optimale Beherrschung des Plasmaprozesses

Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.

Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.

Fußnoten
  • Die Kühlwassertemperatur muss den Taupunkt der Raumtemperatur überschreiten, um Kondensation zu vermeiden.

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Kontakt

Klaus Nock
Sales Plasma
Fax +49 761 89711150
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Broschüre TruPlasma RF System
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