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Hochfrequenzgeneratoren TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006
Hochfrequenzgeneratoren TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006
Plasmaanregungen
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Serie 3000

HF-Technologie ohne Kompromisse

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    Garanten für exzellente Prozessergebnisse

    Mit diesen HF-Generatoren gehen Sie auf Nummer sicher: Die TruPlasma RF Serie 3000 zeichnet sich durch eine robuste Bauweise und hohe Effizienz aus. Damit ist sie bestens geeignet für stabile, reproduzierbare Plasmaprozesse, wie sie beispielsweise bei der Herstellung von Flachbildschirmen, Solarzellen oder Halbleitern zur Anwendung kommen. In tausenden von Anwendungen weltweit installiert, garantieren diese Generatoren eine hohe Produktivität und herausragende Prozessergebnisse.

    Effizienz und Wirtschaftlichkeit

    Wirkungsgrade bis zu 80 % ermöglichen eine Reduktion der Energiekosten um bis zu 50 %.

    Exzellentes RF-Arc-Management

    Sichere Führung auch von anspruchsvollen und neuartigen Prozessen.

    Hohe Robustheit und Prozessstabilität

    CombineLine-Technologie: zuverlässiger Schutz gegen reflektierte Leistungen bei Fehlanpassung.

    Maximale Flexibilität

    Kontinuierliche oder gepulste Leistungsabgabe, daher sehr vielseitig einsetzbar.

    Ideal geeignet für Ätz- und Beschichtungsprozesse

    Ätz- und Beschichtungsprozesse

    Die Hochfrequenzgeneratoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich insbesondere für Ätz- und Beschichtungsprozesse, z.B. Plasmaätzen, reaktives Ionenätzen, ALD und PECVD.

    Ideal zur Beschichtung von Metallwerkstücken

    Beschichtung von Metallwerkstücken

    Mittels Plasmaprozessen kann sowohl Material auf Oberflächen aufgebracht als auch abgetragen werden, beispielsweise bei der Beschichtung von Metallwerkstücken mit einer Verschleißschutzschicht oder bei der Strukturierung elektronischer Bauelemente mittels Plasmaätzen oder Fotolack-Plasmaveraschung.

    Stromversorgung der Spitzenklasse zur Beschichtung von Flachbildschirmen

    Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen

    Die HF-Generatoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich ideal für Plasmaprozesse wie RIE, ALD, PECVD und RF-Sputtern. Diese Verfahren kommen unter anderem bei der Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen zur Anwendung.

    RF Ausgang          
    Ausgangsleistung 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
    Nennleistung 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
    Nennlastimpedanz 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω
    Ausgangsfrequenz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
    Netzanschlussdaten          
    Netzspannung 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V
    Netzfrequenz 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz 50/60 Hz 50/60 Hz
    Netzaufnahmeleistung 16,6 kVA 28,1 kVA 33,3 kVA 80 kVA 100 kVA
    Leistungsfaktor 0,93 0,93 0,93 - -
    Kommunikationsschnittstellen          
    Sync Schnittstellen Ja Ja Ja Ja Ja
    Analog/Digital Ja Ja Ja Ja Ja
    RS 232 / RS 485 Ja Ja Ja Ja Ja
    PROFIBUS Ja Ja Ja Ja Ja
    EtherCAT Ja Ja Ja Nein Nein
    DeviceNet Ja Ja Ja Ja Ja
    Gehäuse          
    Gewicht 57 kg 117 kg 117 kg 1000 kg 1200 kg
    Schutzart IP 20 20 20 54 54
    Kühlungsanforderungen          
    Max. Wasserdruck 7 bar 7 bar 7 bar 6 bar 6 bar
    Min. Druckdifferenz 2 bar 2 bar 2 bar 2,5 bar 2,5 bar
    Min. Durchflussmenge 10 l/min 20 l/min 20 l/min 46 l/min 56 l/min
    Temperatur Kühlmedium 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1
    Allgemein          
    Gesamtwirkungsgrad 78 % 75 % 75 % - -
    Zertifikate / Standards SEMI F47,CE, RoHs SEMI F47,CE, RoHs SEMI F47,CE, RoHs CE, SEMI F47 CE, SEMI F47
    Umgebungsbedingungen          
    Außentemperatur 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
    Luftfeuchte 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    Barometrischer Druck 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    Technisches Datenblatt

    Die technischen Daten aller Produktvarianten als Download.

    Integrierte CombineLine-Technologie

    Höchste Effizienz und Prozessstabilität

    Halbierung der Verlustleistung und Senkung des Kühlwasseraufwands durch den exzellenten Wirkungsgrad – so minimieren Sie Ihre Betriebskosten. Die sehr robuste Bauweise der Generatoren erlaubt längere Betriebszeiten selbst bei kritischen Prozessen und damit höhere Beschichtungsraten. Plasmaschwankungen werden wirksam verhindert durch die CombineLine-Technologie mit echter 50-Ohm-Ausgangsimpedanz – so werden absolut stabile Prozesse ermöglicht.

    Hochfrequenzgenerator TruPlasma RF 3012

    Sicherheit unter allen Umständen

    Die robuste Bauweise sorgt für maximale Zuverlässigkeit und Produktivität Ihres Prozesses. Ein 100 %-Fehlanpassungsschutz gewährleistet einen sicheren Betrieb auch bei kritischen Lasten. Die wahlweise kontinuierliche oder gepulste Leistungsabgabe unterstützt eine große Bandbreite von Prozessanforderungen. Weltweit sind bereits über 20.000 Einheiten installiert – mehr als von jeder anderen Plasma-Stromversorgung.

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    Der SystemPort ermöglicht einen geschlossenen Regelkreislauf durch das Messen des RF-Signals direkt am Eingang und Ausgang der Matchbox. Dem RF-Generator stehen sämtliche Messwerte zur Verfügung. Somit können Prozessparameter besser überwacht, die Matchbox geschützt und eine frühzeitige Arc-Erkennung gewährleistet werden. Das komplette RF-System kann also über eine einzelne Generatorschnittstelle gesteuert werden.

    Verschiedene Optionen ermöglichen Ihnen eine optimale Anpassung des HF-Generators an Ihre Anwendung.

    Arc-Management

    Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und die Anlage.

    Bedienungsfreundliche Software TruControl Power

    TruControl Power

    Die anwenderfreundliche Steuerungssoftware TruControl Power ermöglicht eine komfortable Inbetriebnahme und sichere Überwachung des HF-Generators bzw. des gesamten TRUMPF RF-Systems im laufenden Prozess.

    Alle Komponenten des TRUMPF RF-Systems sind optimal aufeinander abgestimmt.

    RF-Systemlösung: Matchbox für höchste Prozessstabilität
    TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

    TruPlasma Match Anpassnetzwerke sorgen für einen optimalen Leistungstransfer vom Generator in die Plasmaentladung. Der Betrieb der Matchbox kann eigenständig oder über eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, erfolgen.

    Masteroszillator zur Stabilisierung kritischer synchroner Plasmaprozesse
    Masteroszillatoren

    Mittels Masteroszillatoren lassen sich kritische synchrone Plasmaprozesse stabilisieren und optimieren. Ein integrierter digitaler Frequenz- und Phasensynthesizer sorgt für eine hohe Frequenz- und Phasenstabilität und ermöglicht die Einstellung der Phasenlage mit sehr kleiner Schrittweite. Es stehen verschiedene Ausführung von Masteroszillatoren für die Frequenz 13,56 MHz sowie verschiedene Frequenzkombinationen zur Auswahl.

    HF-Umschalter zur Nutzung eines HF-Generators an flexiblen Plasmasystemen
    HF-Umschalter

    Ein HF-Umschalter erlaubt die Mehrfachnutzung eines HF-Generators an verschiedenen Plasma-Prozessstationen, beispielsweise zur Stromversorgung sequenzieller Prozesse oder an Systemen mit verschiedenen Einspeisepunkten. Es sind verschiedene HF-Umschalter in zwei Leistungsklassen sowie mit 2, 3 oder 4 Ausgängen verfügbar.

    Koaxialkabel zur Übertragung der spezifizierten Leistung
    Koaxialkabel

    Für die HF-Leistungsübertragung bietet TRUMPF Hüttinger Koaxialkabel an, die speziell für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen ausgelegt sind.

    Generator und Matchbox: eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung

    Perfekt aufeinander abgestimmt: Generator und Matchbox

    Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.

    Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.

    Fußnoten
    • Die Kühlwassertemperatur muss den Taupunkt der Raumtemperatur überschreiten, um Kondensation zu vermeiden.

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    Klaus Nock
    Sales Plasma
    Fax: +49 761 89711150
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    Downloads

    Broschüre TruPlasma RF Serie 3000
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    Broschüre TruPlasma RF System
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