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Plasmaanregungen

TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2)

Überlegene Beschichtungsresultate durch hochdichtes Plasma

Die erste Wahl für HiPIMS Anwendungen

Die Generatoren der TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) können in bestehenden Magnetron-Systemen ohne Modifikationen als Alternative zu DC-Sputtergeneratoren genutzt werden. Sie liefern besonders korrosionsbeständige und verschleißfeste Hartstoffbeschichtungen und sind daher die erste Wahl für High Power Impulse Magnetron Sputtering Anwendungen.

Einwandfreie Beschichtungsresultate

Einwandfreie Spitzenleistungen von bis zu 4 Megawatt erzeugen extreme Plasmadichten mit hohen Ionenflüssen.

Flexibel Einsetzbar

Die einfache Anpassung an vorhandene Kathodensysteme und Prozessbedingungen ermöglicht eine optimale Geräteeinbindung.

Die erste Wahl für HiPIMS Anwendungen

Als neueste Entwicklung bei gepulsten PVD-Sputterprozessen bietet HiPIMS besonders korrosionsbeständige und verschleißfeste Hartstoffbeschichtungen.

Für eine Vielzahl von Anwendungen

Auch im DC-Modus nutzbar, kein zusätzlicher Gleichstromgenerator notwendig.

Hartstoffbeschichtungen

Durch Aufbringung funktioneller Schichten erhalten stark beanspruchte Werkstücke eine erhöhte Randhärte und Haftreibung sowie eine bessere thermische und chemische Stabilität. Die Generatoren der TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) sorgen für einen äußerst stabilen Plasma-Prozess und somit für herausragende Schichtqualität.

Halbleiter/Photovoltaik

Im Photovoltaik- und Halbleiterbereich gibt es zahlreiche Anwendungsbereiche für maßgeschneiderte Prozessenergie. Die Generatoren der TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) können optimal an den jeweiligen Prozess angepasst werden und ermöglichen hervorragende Beschichtungsparameter und hohe Produktivität.

Glasbeschichtungen

Die großflächigen Beschichtungen von Architekturglas in einem PVD-Plasmaprozess stellen besonders hohe Ansprüche an die Prozessstromversorgung. Die Generatoren der TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) bieten die idealen Voraussetzungen für ein hochwertiges Beschichtungsergebnis.

Optimale Prozessergebnisse

Hohe Spitzenleistungen erzeugen hoch ionisiertes Plasma und ermöglichen hohe Ionenflüsse. Dadurch können sehr kohärente und dichte Filme ohne Tröpfchen erzielt werden. In Kombination mit polarisierten Substratkonfigurationen bieten die Generatoren der TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) überlegene Ergebnisse in Ätz-, Trench-filling Anwendungen.

Volldigitales Arc-Management

Einstellbare Pulsdauer und -frequenz, erweiterte Leistungsparameter und das volldigitale Arc-Management mit sehr geringer Arc-Energie ermöglichen tropfenfreies Sputtern, minimale Filmdefekte und garantieren hohe Schichtqualitäten und Abscheideraten.

Großartige Beschichtungen

Hohe Energie und hohe Spannungen von bis zu 2 kV ermöglichen die Herstellung von qualitativ hochwertigen Beschichtungen - sowohl in kleinen Labors als auch in großen industriellen Anlagen. Impulse von bis zu 5 ms und Frequenzen bis zu 10 kHz erhöhen die Abscheidungsrate und helfen so, die Gesamtbetriebskosten zu senken.

Hohe Prozessstabilität

Die Leistungsregelung mit einstellbarer Frequenz sorgt dafür, dass die Abscheidungsparameter auch bei anspruchsvollen reaktiven Prozessen konstant bleiben. So bleiben Prozesse über Stunden und Tage stabil, ohne dass ein Eingreifen notwendig ist.

Eine kompakte Einheit

Die Generatoren der TruPlasma Highpulse Serie sind eine Einheit in kompakter Größe. Sie benötigen keine externe Gleichstromversorgung, sind vollständig wassergekühlt und ermöglichen so das Arbeiten im Reinraum.

Verschiedene Optionen gewährleisten eine optimale Anpassung der Tru Plasma Highpulse Serie 4000 (G2) an Ihre Anwendung.

Arc-Management CompensateLine (CLC)

Das volldigitale Arc-Management mit sehr geringer Arc-Energie ermöglicht hohe Schichtqualitäten und Abscheideraten.

Reverse-Voltage

Dank breitem Frequenzspektrum und anpassbarer Reverse-Voltage können die Generatoren der TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) an eine Vielzahl von Prozessen angepasst werden. Die Reverse-Voltage verringert die Arc-Dichte und erhöht die Abscheidungsrate. Dies ist besonders nützlich für reaktive Prozesse.

PVD Power

Die bedienungsfreundliche, mehrsprachige Software PVD Power bietet Ihnen vielfältige Möglichkeiten der Bedienung, Konfiguration und Diagnose zur Optimierung der Prozessqualität und effektiven Fehlerbehebung: Anzeige von Ist-Werten aller relevanten Prozessparameter sowie von Warnungen und Alarmmeldungen, Vorgabe von Soll-Werten durch den Bediener und Aufzeichnung und Visualisierung wichtiger Betriebsparameter mit hoher zeitlicher Auflösung (Oszilloskop-Funktion).

Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.

PDF - 425 KB
HiPIMS - neue Möglichkeiten für die Industrie
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) ist das aktuellste PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition), das der Industrie zur Verfügung steht.

Highpulse

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