Innovativ, modular, skalierbar: Die neue Generatorplattform von TRUMPF Hüttinger
Die Generatoren der TruPlasma VHF Serie 3000 basieren auf einem innovativen Plattform-Konzept, das höchste Leistungsdichten ermöglicht und anspruchsvollste Prozessanforderungen erfüllt. Der modulare und rein wassergekühlte Aufbau ermöglicht eine Skalierung der Ausgangsleistung auf bis zu 80 kW. Darüber hinaus überzeugen die kompakten VHF-Generatoren durch hohe Wirtschaftlichkeit und ein robustes Design.
Zu den vorhandenen Single und Multi-Level Pulsing bietet dies die beste Plasmaprozesskontrolle.
Dadurch sehr flexible Steuerung des Generator-Zündverhaltens möglich.
Automatische Frequenzanpassung für ein optimales Zusammenspiel zwischen Generator und Matchbox.
Exzellente, reproduzierbare Prozessergebnisse dank hochgenauer digitaler Frequenzmodulation.
Keine Längenanpassung des HF-Kabels bei Prozessänderungen erforderlich, daher kurze Rüstzeiten.
Zuverlässige Funktion des Generators auch bei Fehlanpassung dank CombineLine-Technologie.
Herstellung von Solarzellen
Im Bereich der Photovoltaik gibt es zahlreiche Einsatzgebiete für maßgeschneiderte Prozessenergie. Hierbei kommen verschiedene Plasmaprozesse für den Materialauftrag und -abtrag zum Einsatz, z.B. Sputter-, PECVD- und Ätzprozesse. Die Generatoren der TruPlasma VHF Serie 3000 lassen sich optimal an den jeweiligen Prozess anpassen, wobei das schnelle Arc-Management eine stabile Beherrschung des Plasmas ermöglicht. Somit sind exzellente Prozessergebnisse und eine hohe Produktivität garantiert.
Halbleiterherstellung
Bei der Herstellung von Halbleitern kommen unterschiedliche Plasmaprozesse zum Einsatz, von Abtragungsprozessen durch Trockenätzen bis zum Zonenziehen bei der Herstellung von Reinsilizium. Die Generatoren der TruPlasma VHF Serie 3000 bieten alle Voraussetzungen für eine stabile und optimal an den jeweiligen Prozess angepasste Stromversorgung, sodass Sie exzellente, reproduzierbare Ergebnisse erzielen.
Ideal zur Beschichtung von Flachbildschirmen
Die Generatoren der TruPlasma VHF Serie 3000 eignen sich ideal für Plasmaprozesse wie RIE, ALD, PECVD und RF-Sputtern. Diese Verfahren kommen unter anderem bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und mikromechanischen Systemen (MEMS) sowie bei der Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen zur Anwendung.
Flexible Anpassung an den Prozess
Das modulare Plattform-Konzept der TruPlasma VHF Serie 3000 ermöglicht eine Skalierung der Ausgangsleitung auf bis zu 80 kW. Dank der implementierten CombineLine-Technologie verhält sich der Generator auch bei einer Fehlanpassung sehr robust. Sein weiter Frequenzbereich sowie die variable Netzspannung und Kabellänge erlauben eine flexible Anpassung an unterschiedliche Anwendungen und Einsatzländer.
Höchste Effizienz und Wirtschaftlichkeit
Die HF-Generatoren der TruPlasma VHF Serie 3000 sind vollständig in modernster Halbleitertechnik mit LDMOS-Leistungstransistoren aufgebaut. Die hochintegrierte planare Aufbautechnik ermöglicht höchste Leistungsdichten bei zugleich hoher Energieeffizienz und entsprechend verringerter Kühlleistung. Dadurch bietet diese Familie eine in diesem Frequenzbereich bisher unerreichte Wirtschaftlichkeit und reduziert die im Markt üblichen Betriebskosten.
TRUMPF SystemPort
Der SystemPort ermöglicht einen geschlossenen Regelkreislauf durch das Messen des RF-Signals direkt am Eingang und Ausgang der Matchbox. Dem RF-Generator stehen sämtliche Messwerte zur Verfügung. Somit können Prozessparameter besser überwacht, die Matchbox geschützt und eine frühzeitige Arc-Erkennung gewährleistet werden. Das komplette RF-System kann also über eine einzelne Generatorschnittstelle gesteuert werden.
Verschiedene Optionen ermöglichen Ihnen die optimale Anpassung des VHF-Generators an Ihre Anwendung.
Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und Ihre Anlage.
Flexible Pulsformung: Die Form des Ausgangssignals kann beliebig an die jeweiligen Prozessanforderungen angepasst werden.
Die patentierte Auto Freuquency Tuning Lösung ermöglicht eine simultane und schnelle Frequenzanpassung und garantiert ein optimales Zusammenspiel zwischen Generator und Matchbox. Durch diese patentierte Technik ist ein lokales Minimum kein Hindernis mehr: das RF-System wird zum Optimum geführt und daher beste Prozessergebnisse und hohe Reproduzierbarkeit ermöglicht.
TruControl Power
Die anwenderfreundliche Steuerungssoftware TruControl Power ermöglicht eine komfortable Inbetriebnahme und sichere Überwachung des HF-Generators bzw. des gesamten TRUMPF RF-Systems im laufenden Prozess.
Durch Auswahl geeigneter Systemkomponenten können Sie den VHF-Generator optimal an die Anforderungen Ihrer Anwendung anpassen.
TruPlasma Match Anpassnetzwerke sorgen für einen optimalen Leistungstransfer vom Generator in die Plasmaentladung. Der Betrieb der Matchbox kann eigenständig oder über eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, erfolgen.
Dieser besteht aus Adapter für Wasseranschlüsse, Set für HARTING AC Versorgung, Jumper für Interlock-Funktion, Adapter von LEMO EPL auf BNC female (für Clock and Pulse sync Stecker).
Mittels Masteroszillatoren lassen sich kritische synchrone Plasmaprozesse stabilisieren und optimieren. Ein integrierter digitaler Frequenz- und Phasensynthesizer sorgt für eine hohe Frequenz- und Phasenstabilität und ermöglicht die Einstellung der Phasenlage mit sehr kleiner Schrittweite. Es stehen verschiedene Ausführung von Masteroszillatoren für die Frequenz 13,56 MHz sowie verschiedene Frequenzkombinationen zur Auswahl.
Ein HF-Umschalter erlaubt die Mehrfachnutzung eines HF-Generators an verschiedenen Plasma-Prozessstationen, beispielsweise zur Stromversorgung sequenzieller Prozesse oder an Systemen mit verschiedenen Einspeisepunkten. Es sind verschiedene HF-Umschalter in zwei Leistungsklassen sowie mit 2, 3 oder 4 Ausgängen verfügbar.
Für die HF-Leistungsübertragung bietet TRUMPF Hüttinger Koaxialkabel an, die speziell für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen ausgelegt sind.
Perfekt aufeinander abgestimmt: das TRUMPF RF-System
Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.
Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.
LDMOS
Precision in Processing
