HF-Generatoren der neuen Generation
Bei der Beschichtung oder Strukturierung von Oberflächen kommt es entscheidend auf eine stabile und reproduzierbare Plasmastromversorgung an. Hierfür bieten die mit moderner Leistungselektronik ausgestatteten HF-Generatoren der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) die besten Voraussetzungen: Dank ihrer stabilen Ausgangsleistung und hohen Regelgenauigkeit sichern sie Ihnen beste Ergebnisse bei zugleich hoher Produktivität.
CombineLine-Technologie: optimale Prozessleistung dank echter 50-Ohm-Ausgangsimpedanz.
Keine Kabellängenanpassung mehr notwendig – ein absolutes Novum im HF-Bereich!
CombineLine-Technologie: zuverlässiger Schutz gegen reflektierte Leistung bei Fehlanpassung.
Wirkungsgrade bis zu 80 % ermöglichen eine Reduktion der Energiekosten um bis zu 50 %.
Keine Erwärmung oder Verunreinigung der Umgebungsluft, daher Betrieb im Reinraum möglich.
Ideal zur Beschichtung von Flachbildschirmen
Die HF-Generatoren der TruPlasma Serie RF 1000 / 3000 (G2/13) eignen sich ideal für Plasmaprozesse wie RIE, ALD, PECVD und RF-Sputtern. Diese Verfahren kommen unter anderem bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und mikromechanischen Systemen (MEMS) sowie bei der Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen zur Anwendung.
Typisches Anwendungsgebiet: die Solarindustrie
Typische Anwendungsgebiete der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) sind anspruchsvolle PECVD-, Ätz- und HF-Sputterprozesse in der Solarindustrie.
Halbleiterherstellung
Bei der Herstellung von Halbleitern kommen unterschiedliche Plasmaprozesse zum Einsatz, von Abtragungsprozessen durch Trockenätzen bis zum Zonenziehen bei der Herstellung von Reinsilizium. Die Generatoren der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) bieten alle Voraussetzungen für eine stabile und optimal an den jeweiligen Prozess angepasste Stromversorgung, sodass Sie exzellente, reproduzierbare Ergebnisse erzielen.
|
TruPlasma RF 1000-2/13
|
TruPlasma RF 1000-3/13
|
|
|---|---|---|
| RF Ausgang | ||
| Ausgangsleistung | 2 kW | 3 kW |
| Nennleistung | 2 kW | 3 kW |
| Nennlastimpedanz | 50 Ω | 50 Ω |
| Ausgangsfrequenz | 13,56 MHz | 13,56 MHz |
| Netzanschlussdaten | ||
| Netzspannung | 200 - 480 V | 200 - 480 V |
| Netzfrequenz | 50-60 Hz | 50-60 Hz |
| Netzaufnahmeleistung | 3,1 kVA | 4,3 kVA |
| Leistungsfaktor | 0,95 | 0,95 |
| Kommunikationsschnittstellen | ||
| Sync Schnittstellen | Ja | Ja |
| Analog/Digital | Ja | Ja |
| RS 232 / RS 485 | Ja | Ja |
| PROFIBUS | Ja | Ja |
| EtherCAT | Ja | Ja |
| DeviceNet | Ja | Ja |
| Gehäuse | ||
| Gewicht | 18 kg | 18 kg |
| Schutzart IP | 30 | 30 |
| Kühlungsanforderungen | ||
| Max. Wasserdruck | 7 bar | 7 bar |
| Min. Druckdifferenz | 1,1 bar | 1,1 bar |
| Min. Durchflussmenge | 4 l/min | 4 l/min |
| Temperatur Kühlmedium | 5 °C - 35 °C 1 | 5 °C - 35 °C 1 |
| Allgemein | ||
| Gesamtwirkungsgrad | 80 % | 80 % |
| Zertifikate / Standards | Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs | Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs |
| Umgebungsbedingungen | ||
| Außentemperatur | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C |
| Luftfeuchte | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
| Barometrischer Druck | 79,5 kPa - 106 kPa | 79,5 kPa - 106 kPa |
Die technischen Daten aller Produktvarianten als Download.
Optimale Anpassung an Ihren Prozess
Das intelligente Echtzeit-Matching der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) sorgt für eine schnelle und direkte Impedanzanpassung an 50 Ohm. Plasmaschwankungen und Verunreinigungen werden durch die patentierte CombineLine-Technologie zuverlässig verhindert, das lüfterlose Kühlkonzept senkt die Ausfallrate, erhöht die Effizienz und ermöglicht den Einsatz im Reinraum.
Maximale Effizienz und Flexibilität
Dank höchster Wirkungsgrade von bis zu 80 % senken Sie Ihre Energiekosten im Vergleich zu herkömmlichen Generatoren um bis zu 50 %. Die zahlreichen verfügbaren Schnittstellen (konfigurierbare Analogschnittstelle, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) vereinfachen die Integration in bestehende Anlagen, technische Anpassungen sind dank der integrierten Ultra-Weitbereichsnetzteile (200-480 VAC) nicht notwendig. Die trotz hoher Leistungsdichte kompakte Bauform (19-Zoll- bzw. ½-19 Zoll-Einschub) erlaubt eine platzsparende Integration in jede Produktionsanlage.
TRUMPF SystemPort
Der SystemPort ermöglicht einen geschlossenen Regelkreislauf durch das Messen des RF-Signals direkt am Eingang und Ausgang der Matchbox. Dem RF-Generator stehen sämtliche Messwerte zur Verfügung. Somit können Prozessparameter besser überwacht, die Matchbox geschützt und eine frühzeitige Arc-Erkennung gewährleistet werden. Das komplette RF-System kann also über eine einzelne Generatorschnittstelle gesteuert werden.
Verschiedene Optionen ermöglichen Ihnen eine optimale Anpassung des HF-Generators an Ihre Anwendung.
Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und die Anlage.
Die patentierte Auto Freuquency Tuning Lösung ermöglicht eine simultane und schnelle Frequenzanpassung und garantiert ein optimales Zusammenspiel zwischen Generator und Matchbox. Durch diese patentierte Technik ist ein lokales Minimum kein Hindernis mehr: das RF-System wird zum Optimum geführt und daher beste Prozessergebnisse und hohe Reproduzierbarkeit ermöglicht.
Alle Komponenten des TRUMPF RF-Systems sind optimal aufeinander abgestimmt.
TruPlasma Match Anpassnetzwerke sorgen für einen optimalen Leistungstransfer vom Generator in die Plasmaentladung. Der Betrieb der Matchbox kann eigenständig oder über eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, erfolgen.
Mittels Masteroszillatoren lassen sich kritische synchrone Plasmaprozesse stabilisieren und optimieren. Ein integrierter digitaler Frequenz- und Phasensynthesizer sorgt für eine hohe Frequenz- und Phasenstabilität und ermöglicht die Einstellung der Phasenlage mit sehr kleiner Schrittweite. Es stehen verschiedene Ausführung von Masteroszillatoren für die Frequenz 13,56 MHz sowie verschiedene Frequenzkombinationen zur Auswahl.
Ein HF-Umschalter erlaubt die Mehrfachnutzung eines HF-Generators an verschiedenen Plasma-Prozessstationen, beispielsweise zur Stromversorgung sequenzieller Prozesse oder an Systemen mit verschiedenen Einspeisepunkten. Es sind verschiedene HF-Umschalter in zwei Leistungsklassen sowie mit 2, 3 oder 4 Ausgängen verfügbar.
Für die HF-Leistungsübertragung bietet TRUMPF Hüttinger Koaxialkabel an, die speziell für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen ausgelegt sind.
Perfekt aufeinander abgestimmt: das TRUMPF RF-System
Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.
Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.
Fußnoten-
Die Kühlwassertemperatur muss den Taupunkt der Raumtemperatur überschreiten, um Kondensation zu vermeiden.
Autofrequency Tuning
Precision in Processing
