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Technologiebild DC gepulste Plasmageneratoren

DC-Plasmageneratoren

DC-gepulste Plasmageneratoren von TRUMPF Hüttinger eignen sich ideal für den Einsatz in zahlreichen reaktiven Prozessen. Gepulster Gleichstrom erlaubt es, im Unterschied zu einfachen Gleichstromgeneratoren, auch halb- und nichtleitende Materialien, beispielsweise Oxide, zu verarbeiten. Häufige Anwendungen der Pulsgeneratoren sind die Hartstoffbeschichtung sowie Ätz- und Beschichtungsprozesse in der Halbleiterherstellung.

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC Serie 4000 (G2)

Die TruPlasma DC Serie 4000 (G2) vereint die exzellente Arc-Behandlung von TRUMPF Hüttinger mit den Vorzügen der DC-Pulstechnologie. So erzielen Sie bessere Beschichtungsergebnisse mit weniger Defekten bei zugleich höherer Abscheidungsrate. Das Ergebnis sind brillante Oberflächen und eine hohe Produktionsleistung.

Gepulster Generator der TruPlasma DC Serie 4000

TruPlasma DC Serie 4000

Die Generatoren der TruPlasma DC Serie 4000 sind die erste Wahl für anspruchsvolle Plasmaprozesse. Über einen breiten Lastanpassungsbereich liefern sie volle Leistung. Somit qualifizieren sie sich für High-Tech Sputter-Anwendungen sowie zusätzliche Standard- oder gepulste DC-Plasmaanwendungen. Sie verfügen wie auch die nicht-gepulsten Generatoren über ein hervorragendes Arc-Management.

Generator der TruPlasma Highpulse Serie 4000

TruPlasma Highpulse Serie 4000

Die Generatoren der TruPlasma Highpulse Serie 4000 sind die erste Wahl für HIPIMS-Anwendungen und liefern besonders korrosionsbeständige und verschleißfeste Hartstoffbeschichtungen. In Kombination mit polarisierten Substraten kann die TruPlasma Highpulse Serie 4000 auch Halbleiterapplikationen bedienen, z.B. Ätzen, Vorbehandlung von Oberflächen und Trench-Filling.

Bias Generator mit stabilem Spannungs- und schnellem Arc-Management

TruPlasma Bias Serie 4000

Die TruPlasma Bias Serie 4000 ist eine Produktfamilie modernster gepulster DC-Bias-Generatoren. Pulsfrequenzen bis zu 100 kHz sowie kontinuierlicher Bias-Output sind möglich.
Jedes Gerät der Serie verfügt über zwei Arbeitsmodi: einen Hochspannungsmodus mit 1200 Volt für Substrat-Ätzprozesse, sowie einen Niedrigspannungsmodus mit 300 Volt für Bias-unterstützte Beschichtungsprozesse, die z.B. in der Halbleitertechnik oder der Hartstoffbeschichtung zum Einsatz kommen.

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