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Hochfrequenzgenerator TruPlasma RF 3006
Hochfrequenzgenerator TruPlasma RF 3006
Plasmaanregungen
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13)

Stabile Prozesse für höchste Produktivität

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    HF-Generatoren der neuen Generation

    Bei der Beschichtung oder Strukturierung von Oberflächen kommt es entscheidend auf eine stabile und reproduzierbare Plasmastromversorgung an. Hierfür bieten die mit moderner Leistungselektronik ausgestatteten HF-Generatoren der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) die besten Voraussetzungen: Dank ihrer stabilen Ausgangsleistung und hohen Regelgenauigkeit sichern sie Ihnen beste Ergebnisse bei zugleich hoher Produktivität.

    Hohe Genauigkeit und Reproduzierbarkeit

    CombineLine-Technologie: optimale Prozessleistung dank echter 50-Ohm-Ausgangsimpedanz.

    Unabhängigkeit von der HF-Kabellänge

    Keine Kabellängenanpassung mehr notwendig – ein absolutes Novum im HF-Bereich!

    Robustheit und Sicherheit

    CombineLine-Technologie: zuverlässiger Schutz gegen reflektierte Leistung bei Fehlanpassung.

    Effizienz und Wirtschaftlichkeit

    Wirkungsgrade bis zu 80 % ermöglichen eine Reduktion der Energiekosten um bis zu 50 %.

    Lüfterloses Kühlkonzept

    Keine Erwärmung oder Verunreinigung der Umgebungsluft, daher Betrieb im Reinraum möglich.

    HF-Generator TruPlasma RF 3006

    Ideal zur Beschichtung von Flachbildschirmen

    Die HF-Generatoren der TruPlasma Serie RF 1000 / 3000 (G2/13) eignen sich ideal für Plasmaprozesse wie RIE, ALD, PECVD und RF-Sputtern. Diese Verfahren kommen unter anderem bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und mikromechanischen Systemen (MEMS) sowie bei der Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen zur Anwendung.

    Solarzellenherstellung

    Typisches Anwendungsgebiet: die Solarindustrie

    Typische Anwendungsgebiete der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) sind anspruchsvolle PECVD-, Ätz- und HF-Sputterprozesse in der Solarindustrie.

    Ideal geeignet für Ätz- und Beschichtungsprozesse

    Halbleiterherstellung

    Bei der Herstellung von Halbleitern kommen unterschiedliche Plasmaprozesse zum Einsatz, von Abtragungsprozessen durch Trockenätzen bis zum Zonenziehen bei der Herstellung von Reinsilizium. Die Generatoren der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) bieten alle Voraussetzungen für eine stabile und optimal an den jeweiligen Prozess angepasste Stromversorgung, sodass Sie exzellente, reproduzierbare Ergebnisse erzielen.

    TruPlasma RF 1002
    TruPlasma RF 1003
    RF Ausgang    
    Ausgangsleistung 2 kW 3 kW
    Nennleistung 2 kW 3 kW
    Nennlastimpedanz 50 Ω 50 Ω
    Ausgangsfrequenz 13560 kHz 13560 kHz
    Netzanschlussdaten    
    Netzspannung 200 V V - 480 V 200 V V - 480 V
    Netzfrequenz 50-60 Hz 50-60 Hz
    Netzaufnahmeleistung 3,1 kVA 4,3 kVA
    Leistungsfaktor 0,95 0,95
    Kommunikationsschnittstellen    
    Sync Schnittstellen Ja Ja
    Analog/Digital Ja Ja
    RS 232 / RS 485 Ja Ja
    PROFIBUS Ja Ja
    EtherCAT Ja Ja
    DeviceNet Ja Ja
    Gehäuse    
    Gewicht 18 kg 18 kg
    Schutzart IP 30 30
    Kühlungsanforderungen    
    Max. Wasserdruck 7 bar 7 bar
    Min. Druckdifferenz 1,1 bar 1,1 bar
    Min. Durchflussmenge 4 l/min 4 l/min
    Temperatur Kühlmedium 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1
    Allgemein    
    Gesamtwirkungsgrad 80 % 80 %
    Zertifikate / Standards Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs
    Umgebungsbedingungen    
    Außentemperatur 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
    Luftfeuchte 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    Barometrischer Druck 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa

    PDF <1MB
    Technisches Datenblatt

    Die technischen Daten aller Produktvarianten als Download.

    Integrierte CombineLine-Technologie

    Optimale Anpassung an Ihren Prozess

    Das intelligente Echtzeit-Matching der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) sorgt für eine schnelle und direkte Impedanzanpassung an 50 Ohm. Plasmaschwankungen und Verunreinigungen werden durch die patentierte CombineLine-Technologie zuverlässig verhindert, das lüfterlose Kühlkonzept senkt die Ausfallrate, erhöht die Effizienz und ermöglicht den Einsatz im Reinraum.

    HF-Generator für Parallelschwingkreise

    Maximale Effizienz und Flexibilität

    Dank höchster Wirkungsgrade von bis zu 80 % senken Sie Ihre Energiekosten im Vergleich zu herkömmlichen Generatoren um bis zu 50 %. Die zahlreichen verfügbaren Schnittstellen (konfigurierbare Analogschnittstelle, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) vereinfachen die Integration in bestehende Anlagen, technische Anpassungen sind dank der integrierten Ultra-Weitbereichsnetzteile (200-480 VAC) nicht notwendig. Die trotz hoher Leistungsdichte kompakte Bauform (19-Zoll- bzw. ½-19 Zoll-Einschub) erlaubt eine platzsparende Integration in jede Produktionsanlage.

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    Der SystemPort ermöglicht einen geschlossenen Regelkreislauf durch das Messen des RF-Signals direkt am Eingang und Ausgang der Matchbox. Dem RF-Generator stehen sämtliche Messwerte zur Verfügung. Somit können Prozessparameter besser überwacht, die Matchbox geschützt und eine frühzeitige Arc-Erkennung gewährleistet werden. Das komplette RF-System kann also über eine einzelne Generatorschnittstelle gesteuert werden.

    Verschiedene Optionen ermöglichen Ihnen eine optimale Anpassung des HF-Generators an Ihre Anwendung.

    HF-Arc-Management

    Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und die Anlage.

    Auto Frequency Tuning

    Die patentierte Auto Freuquency Tuning Lösung ermöglicht eine simultane und schnelle Frequenzanpassung und garantiert ein optimales Zusammenspiel zwischen Generator und Matchbox. Durch diese patentierte Technik ist ein lokales Minimum kein Hindernis mehr: das RF-System wird zum Optimum geführt und daher beste Prozessergebnisse und hohe Reproduzierbarkeit ermöglicht.

    Alle Komponenten des TRUMPF RF-Systems sind optimal aufeinander abgestimmt.

    RF-Systemlösung : Matchbox für höchste Prozessstabilität
    Matchbox der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

    TruPlasma Match Anpassnetzwerke sorgen für einen optimalen Leistungstransfer vom Generator in die Plasmaentladung. Der Betrieb der Matchbox kann eigenständig oder über eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, erfolgen.

    Masteroszillator zur Stabilisierung kritischer synchroner Plasmaprozesse
    Masteroszillatoren

    Mittels Masteroszillatoren lassen sich kritische synchrone Plasmaprozesse stabilisieren und optimieren. Ein integrierter digitaler Frequenz- und Phasensynthesizer sorgt für eine hohe Frequenz- und Phasenstabilität und ermöglicht die Einstellung der Phasenlage mit sehr kleiner Schrittweite. Es stehen verschiedene Ausführung von Masteroszillatoren für die Frequenz 13,56 MHz sowie verschiedene Frequenzkombinationen zur Auswahl.

    HF-Umschalter zur Nutzung eines HF-Generators an flexiblen Plasmasystemen
    HF-Umschalter

    Ein HF-Umschalter erlaubt die Mehrfachnutzung eines HF-Generators an verschiedenen Plasma-Prozessstationen, beispielsweise zur Stromversorgung sequenzieller Prozesse oder an Systemen mit verschiedenen Einspeisepunkten. Es sind verschiedene HF-Umschalter in zwei Leistungsklassen sowie mit 2, 3 oder 4 Ausgängen verfügbar.

    Koaxialkabel zur Übertragung der spezifizierten Leistung
    Koaxialkabel

    Für die HF-Leistungsübertragung bietet TRUMPF Hüttinger Koaxialkabel an, die speziell für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen ausgelegt sind.

    Generator und Matchbox: eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung

    Perfekt aufeinander abgestimmt: das TRUMPF RF-System

    Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.

    Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.

    Fußnoten
    • Die Kühlwassertemperatur muss den Taupunkt der Raumtemperatur überschreiten, um Kondensation zu vermeiden.

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    Kontakt

    Klaus Nock
    Sales Plasma
    Fax: +49 761 89711150
    E-Mail

    Downloads

    Broschüre TruPlasma RF Serie 1000 3000
    pdf - 333 KB
    Broschüre TruPlasma RF System
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    Whitepaper Autofrequency Tuning
    pdf - 1 MB
    Whitepaper Precision in Processing
    pdf - 2 MB
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