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TRUMPF erwirbt Mehrheitsanteile an amerikanischem Laserhersteller

Ditzingen, 04.10.2017 – TRUMPF hat 85 Prozent der Anteile an Access Laser Co. erworben. Das Unternehmen mit Sitz in Everett bei Seattle, USA stellt CO2-Laser im Low-Powerbereich her. Der wichtigste Einsatzbereich sind die Laser für die EUV-Lithographie zur Herstellung von Mikrochips. Dabei dienen die Low-Power-CO2-Laser mit ihrem Laserlicht als Strahlquelle, die zusammen mit den TRUMPF Laserverstärkern in EUV-Anlagen zum Einsatz kommen. TRUMPF integriert so ein wichtiges Unternehmen in der Lieferkette für die EUV-Technologie.

Peter Leibinger, Chief Technology Officer von TRUMPF, begrüßt den Zuwachs in der Unternehmensgruppe: „Access Laser ist einer der wichtigsten Partner in unserem EUV-Geschäft und ein hochinnovatives Laserunternehmen. Zusammen werden wir die Leistungsfähigkeit der EUV-Anlagen weiter erhöhen sowie zusätzliche Anwendungen und Kunden für die Low-Power- CO2-Laser erschließen.“

Die EUV-Technologie hat, nach einigen Jahren Entwicklungszeit, nun Industriereife erlangt und bescherte TRUMPF erhebliche Umsatzzuwächse im letzten Geschäftsjahr. Yong Zhang, Gründer und Präsident von Access Laser  sagt: „Access Laser ist seit seiner Gründung auf Innovation ausgerichtet. Das erfolgreiche Zusammenwirken von TRUMPF und Access Laser Technologien bei EUV zeigt großes Potenzial. Wir freuen uns darauf, weitere Synergien als Mitglied der TRUMPF Gruppe zu schaffen.“
Access Laser Co. wurde 1999 gegründet und beschäftigt rund 60 Mitarbeiter in den USA und China. Das Produktportfolio umfasst zum einen Präzisions-Laser mit einer geringen Leistung von 100 Milliwatt bis zu 50 Watt und Laser mit einer Spitzenleistung von bis zu 1 Kilowatt. Weitere Anwendungsbranchen sind die Medizintechnik, Elektronikindustrie und wissenschaftliche Anwendungen. Über den Kaufpreis wurde Stillschweigen vereinbart.


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Access Laser

Access Laser, mit Sitz in der Nähe von Seattle, ist nun ein Mitglied der TRUMPF Gruppe.

EUV System

Die Low-Power-CO2-Laser von Access Laser dienen mit ihrem Laserlicht als Strahlquelle, die zusammen mit den TRUMPF Laserverstärkern in EUV-Anlagen zum Einsatz kommen.

Ansprechpartner

Rainer Berghausen
Leiter Group Communications, Pressesprecher
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