HÜTTINGER es TRUMPF. Desde 1990.

Los microchips, pantallas planas y células solares – todos ellos son productos de la innovadora tecnología de plasma. Muchos productos de alta tecnología solo son posibles con el procedimiento de deposición y abrasión selectiva, cuyo requisito previo son las capas finas al nivel de nanómetros. Pero ninguna tecnología de plasma es posible sin el plasma. Los generadores de TRUMPF Hüttinger disponen de una amplia gama de potencias y frecuencias y garantizan que el plasma se inflame de modo seguro y arda de manera estable.

El calentamiento inductivo es la solución para los tratamientos térmicos exigentes, ya que es el procedimiento de calentamiento más eficiente de todos. El usuario tiene absoluta flexibilidad en lo que se refiere a las temperaturas que desee, ya que en el calentamiento inductivo su gama de posibilidades es prácticamente ilimitada. Los generadores TRUMPF Hüttinger prestan servicio tanto en procesos tradicionales como el endurecimiento o el sellado inductivo como también en aplicaciones especiales, tales como la obtención de cristales monocristalinos.

Gracias al principio modular, se pueden utilizar onduladores en soluciones de almacenamiento de muy diferentes clases de potencia,  desde el orden de kilovatios hasta el de megavatios . Este concepto tecnológico innovador permite operar su sistema de baterías en un punto de trabajo óptimo con la máxima eficiencia en cada ámbito de aplicación: desde el suministro de energía o las aplicaciones industriales hasta los sistemas de almacenamiento doméstico.

En las aplicaciones industriales está muy extendido el láser de CO2, que utiliza como medio láser el dióxido de carbono. Sus intensos rayos de luz o pulsos de luz pueden fundir o vaporizar incluso materiales muy duros en un instante. Para que el láser de CO2 pueda emitir luz, tiene que ser estimulado mediante el suministro de energía. La energía necesaria para los láseres de CO2 de TRUMPF es suministrada por los potentes generadores HF de TRUMPF Hüttinger.