Utilizamos cookies para la preparación y operatividad de esta página web. Para permitirnos usar las cookies para otros fines, haga clic aquí. Información sobre la desactivación de las cookies y la protección de datos
Solución de sistema RF: matchbox para la mayor estabilidad de proceso
Solución de sistema RF: matchbox para la mayor estabilidad de proceso
Excitaciones de plasma
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

Apareamiento inteligente mediante medida de tiempo real

Solución de sistema RF integral

Las nuevas matchboxes de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) representan el suplemento perfecto para los generadores de AF de TRUMPF Hüttinger. Gracias a los algoritmos de apareamiento inteligentes y a la plataforma de mando digital para la observación de proceso se origina una solución global en la que interactúan todos los componentes de manera óptima: el sistema RF TRUMPF.

Algoritmo de apareamiento inteligente

Adaptación de la impedancia rápida, estable y reproducible a 50 ohmios, incluso en procesos críticos.

Interacción óptima del sistema completo

Software avanzado y comunicación mejorada entre el generador y la matchbox.

Medición de tiempo real de la potencia de RF

Rápido seguimiento del sistema en cada cambio en la impedancia de la matchbox y la carga.

Circuito regulador cerrado

Supervisión óptima de los parámetros de proceso y detección temprana de arco.

Control del proceso de manejo sencillo

Interfaz de usuario gráfica y herramientas efectivas (carta de Smith, osciloscopio a tiempo real).

Solución de sistema RF: matchbox para la mayor estabilidad de proceso

Producción de semiconductores, células solares y pantallas planas

Los procesos de plasma estables son cruciales en la producción de semiconductores, células solares y pantallas planas. Junto con los generadores de AF de TRUMPF Hüttinger, las redes de adaptación de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) ofrecen una solución global para la más alta estabilidad de procesos y productividad.

Soporte en recubrimientos de material duro: las matchboxes de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

Aplicación de capas de material duro y de capas protectoras al desgaste

Con la aplicación de capas funcionales, las piezas de trabajo sometidas a grandes esfuerzos gozan de una mayor resistencia mecánica, así como una mejor estabilidad térmica y química. Las redes de adaptación de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) garantizan, en combinación con un generador AF de TRUMPF Hüttinger, una perfecta calidad de revestimiento.

Ideales para el recubrimiento de grandes superficies: las matchboxes de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

Abrasión y recubrimiento de superficies

Las redes de adaptación de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) se pueden utilizar en todos los procesos de plasma habituales para recubrimiento o la abrasión de superficies como, por ejemplo, el grabado de plasma, el grabado por iones reactivo, ALD, PECVD, el grabado por pulverización RF o la incineración de plasma con fotorresina. En combinación con un generador de AF de TRUMPF Hüttinger, se consiguen los resultados de procesos óptimos.

- / -
Salida de AF        
Potencia de salida 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Potencia nominal 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Frecuencia de salida 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Datos de conexión de red        
Tensión de red (±10%) 23,5 V - 24,5 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 23,5 V - 24,5 V
Frecuencia de la red 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz 50 Hz - 60 Hz
Interfaces de comunicación        
Interfaces Sync
Analógico/digital
RS 232 / RS 485
PROFIBUS
EtherCAT
DeviceNet No No No No
Carcasa        
Peso 8 kg 27 kg 30 kg 15 kg
Tipo de protección IP 21 21 21 21
Requisitos de refrigeración        
Presión máx. del agua - 6 bar 6 bar -
Diferencia mín. de presión - 1,5 bar 1,5 bar -
Caudal mínimo - 3,5 l/min 5 l/min -
Temperatura del refrigerante - 10 °C - 30 °C 1 10 °C - 30 °C 1 -
General        
Certificados/estándares CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47
Condiciones del entorno        
Temperatura exterior 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C
Humedad del aire 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 %
Presión barométrica 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa
PDF <1MB
Ficha de datos técnicos

Los datos técnicos de todas las variantes de producto para descargar.

Garantiza siempre la potencia suministrada total del generador de AF en el proceso

Control del proceso perfecto en todo momento

La matchbox proporciona en todo momento una adaptación rápida y directa de la impedancia a 50 ohmios, por lo que siempre garantiza la potencia suministrada total del generador de AF en el proceso. La comunicación continua entre la matchbox y el generador permite una observación del proceso perfecta y una detección temprana de arco.

Software de manejo sencillo TruControl Power

Todos los parámetros a la vista

La medición de tiempo real de la potencia de salida y de entrada de AF indica las modificaciones de impedancia dinámicas y, los sensores de refrigeración permiten una previsión fiable de la pérdida de potencia. Gracias al software de mando gráfico con complejas opciones de visualización (diagrama de Smith, osciloscopio a tiempo real) tendrá todos los parámetros de proceso siempre a la vista.

TruPlasma RF_Systemport

TRUMPF SystemPort

La SystemPort posibilita un circuito regulador cerrado mediante la medición de la señal RF directamente en la entrada y la salida de la matchbox. El generador RF tiene disponibles todos los valores de medición. Así, pueden vigilarse mejor los parámetros de proceso, protegerse la matchbox y garantizarse una detección de arco temprana. El sistema RF completo también puede controlarse mediante una sola interfaz de generador.

Diversas opciones le permiten una adaptación perfecta del sistema RF TRUMPF a su aplicación.

Medición de corriente de AF

Medición de corriente CA de alta precisión para la detección de anomalías de plasma, ubicada en la matchbox, cerca del proceso, directamente en la cámara.

Gestión de arco

La sofisticada gestión de arco es el módulo ideal para el mejor control del proceso de plasma. Una detección de arco selectiva garantiza la máxima productividad posible y protege al mismo tiempo el producto y la instalación.

Interfaces

Como interfaces opcionales están disponibles análogica/digital, PROFIBUS y EtherCAT. Las estándares son EtherNet, SystemPort y RS232/485.

Software de manejo sencillo TruControl Power

TruControl Power

El software de mando TruControl Power, de fácil manejo, permite una puesta en funcionamiento confortable y una supervisión segura del generador AF o del sistema RF TRUMPF completo a lo largo del proceso.

Software de manejo sencillo TruControl Power

Software de mando gráfico

Las visualizaciones gráficas complejas permiten un control completo de todos los parámetros de proceso relevantes. La impedancia de carga y de red de adaptación se visualiza mediante unos diagramas de Smith, y la potencia de salida y de entrada de AF, incluida la posición de fase y frecuencia, con ayuda de un osciloscopio a tiempo real.

El sistema RF TRUMPF, que consta de un generador de AF y una red de adaptación, conforma un sistema completo perfectamente equilibrado para conseguir los mejores resultados de proceso.

Software de manejo sencillo TruControl Power
Software de mando gráfico

Las visualizaciones gráficas complejas permiten un control completo de todos los parámetros de proceso relevantes. La impedancia de carga y de red de adaptación se visualiza mediante unos diagramas de Smith, y la potencia de salida y de entrada de AF, incluida la posición de fase y frecuencia, con ayuda de un osciloscopio a tiempo real.

Oscilador maestro para la estabilización de procesos de plasma sincrónicos críticos
Osciladores maestros

Mediante osciladores maestros es posible estabilizar y optimizar procesos de plasma sincrónicos críticos. Un sintetizador de frecuencia y fase digital integrado asegura una elevada estabilidad de frecuencia y de fase y, además permite ajustar la posición de fase con una amplitud de secuencia muy pequeña. Hay disponibles diversos modelos de osciladores maestros para la frecuencia de 13,56 MHz, así como diferentes combinaciones de frecuencias.

Conmutador de AF para utilizar un generador de AF en sistemas de plasma flexibles
Conmutador de AF

Un conmutador de AF permite la utilización múltiple de un generador de AF en diferentes estaciones de proceso de plasma, por ejemplo, para la alimentación eléctrica de procesos secuenciales o en sistemas con distintos puntos de alimentación. Están disponibles diversos conmutadores de AF en dos categorías de potencia, así como con 2, 3 o 4 salidas.

Cable coaxial para la transferencia de la potencia especificada
Cables coaxiales

Para la transmisión de potencia de AF, TRUMPF Hüttinger ofrece cables coaxiales especialmente diseñados para el funcionamiento en sistemas de 50 ohmios.

Generador y matchbox: una solución de sistema perfectamente armonizada

Control perfecto de los procesos de plasma

Los procesos de plasma se comportan como una carga compleja y variable, cuya alimentación eléctrica debe ser seguida continuamente a través del generador. Esto lo realizan que las redes de adaptación, llamadas matchboxes, que en todo momento garantizan una adaptación precisa a la impedancia óptima de 50 ohmios. De este modo surge una solución de sistema perfectamente armonizada entre sí: el sistema TRUMPF RF. Mediante diversas interfaces como EtherCAT, es posible integrar el generador y la matchbox de forma fácil en los entornos de proceso existentes y, con una conexión inteligente entre generador y matchbox, la llamada SystemPort, lograr una solución de sistema optimizada.

Dependiendo del país, es posible que existan diferencias con respecto a esta gama de productos y a estos datos. Nos reservamos el derecho a realizar modificaciones en la técnica, equipamiento, precio y oferta de accesorios. Póngase en comunicación con su persona de contacto en su zona para saber si el producto está disponible en su país.

Notas a pie de página
  • La temperatura del agua de refrigeración debe superar el punto de rocío de la temperatura ambiente para evitar la condensación.

Estos temas también podrían interesarle

Contacto

Klaus Nock
Ventas de plasma
Fax +49 761 89711150
Correo electrónico

Descargas

Folleto TruPlasma RF System
Folleto TruPlasma RF System
pdf - 6 MB
Servicio técnico y contacto

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Spain . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Spain
United States

Or select a country or region.