Utilizamos cookies para la preparación y operatividad de esta página web. Para permitirnos usar las cookies para otros fines, haga clic aquí. Información sobre la desactivación de las cookies y la protección de datos
Generadores de alta frecuencia TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006
Generadores de alta frecuencia TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006
Excitaciones de plasma
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Serie 3000

Tecnología de AF sin compromiso

Garantía de resultados de proceso excelentes

Con este generador de AF va siempre sobre seguro: la TruPlasma RF Serie 3000 destaca por un diseño robusto y una alta eficiencia. Por ello, es el más adecuado para procesos de plasma estables y reproducibles, como los que se emplean, por ejemplo, para la fabricación de pantallas planas, células solares o semiconductores. En miles de aplicaciones instaladas en todo el mundo, estos generadores garantizan una alta productividad y unos excelentes resultados de proceso.

Eficiencia y rentabilidad

Los grados de rendimiento de hasta el 80 % permiten una reducción de los costes energéticos de hasta el 50 %.

Gestión de arco RF excelente

Desarrollo seguro incluso de procesos exigentes y novedosos.

Alta robustez y estabilidad de proceso

Tecnología CombineLine: protección fiable contra potencias reflejadas en caso de maladaptación.

Flexibilidad máxima

Emisión de potencia continua o por impulsos que confiere gran versatilidad.

Ideal para procesos de aplicación de capas y de grabado

Procesos de aplicación de capas y de grabado

Los generadores de alta frecuencia de la TruPlasma RF Serie 3000 son aptos, especialmente, para procesos de grabado y de aplicación de capa como, por ejemplo, el grabado de plasma, grabado iónico reactivo, ALD y PECVD.

Ideal para el recubrimiento de piezas de metal

Recubrimiento de piezas de metal

Mediante procesos de plasma es posible tanto aplicar material sobre superficies como eliminarlo, por ejemplo, en el recubrimiento de piezas de trabajo metálicas con una capa protectora contra el desgaste o para la estructuración de componentes electrónicos mediante ataque por plasma o calcinación por plasma de resina fotorresistente.

Excelente alimentación eléctrica para el recubrimiento de pantallas planas

Recubrimiento de pantallas planas y células solares

Los generadores de AF de la TruPlasma RF Serie 3000 están perfectamente indicados para procesos de plasma tales como RIE, ALD, PECVD y pulverización catódica por radiofrecuencia. Estos procesos se utilizan, entre otras cosas, para el recubrimiento de pantallas planas y células solares.

- / -
Salida de AF          
Potencia de salida 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
Potencia nominal 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
Impedancia de la carga nominal 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω
Frecuencia de salida 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Datos de conexión de red          
Tensión de red 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V
Frecuencia de la red 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz 50/60 Hz 50/60 Hz
Potencia de red del portaútiles 16,6 kVA 28,1 kVA 33,3 kVA 80 kVA 100 kVA
Factor de potencia 0,93 0,93 0,93 - -
Interfaces de comunicación          
Interfaces Sync
Analógico/digital
RS 232 / RS 485
PROFIBUS
EtherCAT No No
DeviceNet
Carcasa          
Peso 57 kg 117 kg 117 kg 1000 kg 1200 kg
Tipo de protección IP 20 20 20 54 54
Requisitos de refrigeración          
Presión máx. del agua 7 bar 7 bar 7 bar 6 bar 6 bar
Diferencia mín. de presión 2 bar 2 bar 2 bar 2,5 bar 2,5 bar
Caudal mínimo 10 l/min 20 l/min 20 l/min 46 l/min 56 l/min
Temperatura del refrigerante 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1
General          
Grado de rendimiento total 78 % 75 % 75 % - -
Certificados/estándares SEMI F47, CE, RoHs SEMI F47, CE, RoHs SEMI F47, CE, RoHs CE, SEMI F47 CE, SEMI F47
Condiciones del entorno          
Temperatura exterior 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
Humedad del aire 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
Presión barométrica 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa
PDF <1MB
Ficha de datos técnicos

Los datos técnicos de todas las variantes de producto para descargar.

Tecnología CombineLine integrada

Alta eficiencia y estabilidad de proceso

Reducción a la mitad de la pérdida de potencia y disminución de los gastos de agua de refrigeración mediante un grado de rendimiento excelente: así minimizará sus costes de servicio. El diseño robusto de los generadores permite tiempos de funcionamiento más largos incluso en procesos críticos y, por lo tanto, tasas de recubrimiento más altas. Las oscilaciones de plasma se pueden evitar eficazmente con la tecnología CombineLine con impedancia de salida real de 50 ohmios: así se consiguen procesos completamente estables.

Generador de alta frecuencia TruPlasma RF 3012

Seguridad en todo momento

El diseño robusto proporciona una eficacia y productividad máximas de su proceso. La protección absoluta contra una adaptación errónea garantiza un funcionamiento seguro incluso con cargas críticas. La potencia de salida continua o de pulso opcional satisface una gran diversidad de requerimientos al proceso. Se han instalado más de 20 000 unidades en todo el mundo, más que de cualquier otra alimentación eléctrica de plasma.

TruPlasma RF_Systemport

TRUMPF SystemPort

La SystemPort posibilita un circuito regulador cerrado mediante la medición de la señal RF directamente en la entrada y la salida de la matchbox. El generador RF tiene disponibles todos los valores de medición. Así, pueden vigilarse mejor los parámetros de proceso, protegerse la matchbox y garantizarse una detección de arco temprana. El sistema RF completo también puede controlarse mediante una sola interfaz de generador.

Diversas opciones le permiten adaptar perfectamente el generador de AF a su aplicación.

Gestión de arco

La sofisticada gestión de arco es el módulo ideal para el mejor control del proceso de plasma. Una detección de arco selectiva garantiza la máxima productividad posible y protege al mismo tiempo el producto y la instalación.

Software de manejo sencillo TruControl Power

TruControl Power

El software de mando TruControl Power, de fácil manejo, permite una puesta en funcionamiento confortable y una supervisión segura del generador de AF o del sistema RF TRUMPF durante el proceso en marcha.

Todos los componentes del sistema RF TRUMPF están perfectamente armonizados entre sí.

Solución de sistema RF: matchbox para la mayor estabilidad de proceso
TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

Las redes de adaptación de TruPlasma Match proporcionan una transferencia óptima de potencia desde el generador a la descarga de plasma. La matchbox puede funcionar de forma autónoma o a través de una conexión inteligente entre generador y matchbox, la llamada SystemPort.

Oscilador maestro para la estabilización de procesos de plasma sincrónicos críticos
Osciladores maestros

Mediante osciladores maestros es posible estabilizar y optimizar procesos de plasma sincrónicos críticos. Un sintetizador de frecuencia y fase digital integrado asegura una elevada estabilidad de frecuencia y de fase y, además permite ajustar la posición de fase con una amplitud de secuencia muy pequeña. Hay disponibles diversos modelos de osciladores maestros para la frecuencia de 13,56 MHz, así como diferentes combinaciones de frecuencias.

Conmutador de AF para utilizar un generador de AF en sistemas de plasma flexibles
Conmutador de AF

Un conmutador de AF permite la utilización múltiple de un generador de AF en diferentes estaciones de proceso de plasma, por ejemplo, para la alimentación eléctrica de procesos secuenciales o en sistemas con distintos puntos de alimentación. Están disponibles diversos conmutadores de AF en dos categorías de potencia, así como con 2, 3 o 4 salidas.

Cable coaxial para la transferencia de la potencia especificada
Cables coaxiales

Para la transmisión de potencia de AF, TRUMPF Hüttinger ofrece cables coaxiales especialmente diseñados para el funcionamiento en sistemas de 50 ohmios.

Generador y matchbox: una solución de sistema perfectamente armonizada

Perfectamente armonizados entre sí: generador y matchbox

Los procesos de plasma se comportan como una carga compleja y variable, cuya alimentación eléctrica debe ser seguida continuamente a través del generador. Esto lo realizan que las redes de adaptación, llamadas matchboxes, que en todo momento garantizan una adaptación precisa a la impedancia óptima de 50 ohmios. De este modo surge una solución de sistema perfectamente armonizada entre sí: el sistema TRUMPF RF. Mediante diversas interfaces como EtherCAT, es posible integrar el generador y la matchbox de forma fácil en los entornos de proceso existentes y, con una conexión inteligente entre generador y matchbox, la llamada SystemPort, lograr una solución de sistema optimizada.

Dependiendo del país, es posible que existan diferencias con respecto a esta gama de productos y a estos datos. Nos reservamos el derecho a realizar modificaciones en la técnica, equipamiento, precio y oferta de accesorios. Póngase en comunicación con su persona de contacto en su zona para saber si el producto está disponible en su país.

Notas a pie de página
  • La temperatura del agua de refrigeración debe superar el punto de rocío de la temperatura ambiente para evitar la condensación.

Estos temas también podrían interesarle

Contacto

Klaus Nock
Ventas de plasma
Fax +49 761 89711150
Correo electrónico

Descargas

Folleto TruPlasma RF Serie 3000
Folleto TruPlasma RF Serie 3000
pdf - 1 MB
Folleto TruPlasma RF System
pdf - 6 MB
Servicio técnico y contacto