Generadores de plasma MF
Los generadores de plasma MF de TRUMPF Hüttinger se utilizan sobre todo en los sistemas de doble cátodo como, por ejemplo, en la pulverización catódica dual por magnetrón. Gracias a su alta potencia de salida y estabilidad de proceso, los generadores de frecuencia media son aptos para efectuar revestimientos de grandes superficies de vidrio para arquitectura con altas tasas de separación y también para aplicar capas homogéneas ultrafinas en semiconductores o células solares. Gracias a su excelente precisión y productividad, nuestros sistemas de alimentación eléctrica para procesos MF son la solución ideal para numerosas aplicaciones de excitación plasmática.