Potencia de pulsos ultracortos de 1 kW para micromecanizado industrial de grandes superficies
La TruMicro 9010 es el láser de pulsos ultracortos industrial más potente. Proporciona una potencia de cresta de 10 GW y alcanza una potencia de salida media de 1 kW con una tasa de repetición de 100 kHz. Mientras que la potencia de cresta comparable suele limitarse a aplicaciones científicas con una tasa de repetición baja, TRUMPF lleva esta tecnología a la producción industrial. La combinación de módulo láser Slab y la célula Multi-Pass garantizan una alta flexibilidad con tasas de repetición de 100 kHz (10 mJ) a 50 MHz (20 µJ) con el modo Burst. Una función Burst GHz basada en software amplía el espectro de aplicación. Los parámetros rayo permanecen estables y reproducibles en toda la zona. La enorme energía puede distribuirse a superficies más grandes. Esto permite una mayor productividad con una calidad constante.
Potencia de salida sin precedentes de 1 kW con una energía de pulsado de 10 mJ y una longitud de pulso inferior a 1 ps.
Con el mando del láser más rápido y Advanced Pulse on Demand, la TruMicro Serie 9000 ofrece un control total sobre cada pulso.
Sobre la base de componentes probados, el sistema proporciona unos parámetros rayo robustos y estables para una alta precisión y la máxima fiabilidad constantes en el uso industrial.
La alta energía de pulsado permite procesos de mecanizado más rápidos sin perder calidad.
Placa de demostración para células de combustible
Escalada de la productividad de procesos de pulso ultracorto como el estructurado por láser, el taladrado, la ablación y la limpieza.
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TruMicro 9010
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| Paramentros láser | |
| Potencia media de salida | 1000 W |
| Calidad del haz (M²) | < 1,3 |
| Longitud de onda | 1030 nm |
| Duración del impulso | 1 - 20 ps |
| Energía máx. de impulso | 10 mJ bei 100 kHz |
| Forma constructiva | |
| Dimensiones del cabezal láser (Ancho x Alto x Profundo) | 1200 mm x 1680 mm x 600 mm |
| Dimensiones del aparato de alimentación (Ancho x Alto x Profundo) | 1250 mm x 1726 mm x 670 mm |
| Montaje | |
| Temperatura ambiente | 15 °C - 35 °C |
TruControl
TruControl es el sistema de mando rápido y de manejo sencillo para los láseres de estado sólido TRUMPF. Regula la potencia del láser en tiempo real para lograr resultados reproducibles. TruControl administra, controla y visualiza la asignación de interfaces. De este modo, usted se beneficia de una arquitectura de control unitaria para todas las tecnologías láser. Los láseres incorporan interfaces para el control de sistemas ópticos inteligentes TRUMPF, tales como el sistema óptico de enfoque controlado CFO o el sistema óptico de enfoque programable PFO. La programación de la óptica para el procesado se realiza cómodamente a través del mando del láser. Además, gracias al soporte remoto de TRUMPF obtendrá ayuda en cuestión de segundos. Esto permite evitar o preparar perfectamente intervenciones de asistencia técnica, aumentando así la disponibilidad del dispositivo láser.
Deje que nuestros algoritmos y expertos de TRUMPF supervisen externamente sus láseres. Nos ponemos en contacto con usted de forma proactiva ante los primeros signos de anomalías. Así se evitan estados de inactividad imprevistos en su producción.
Para un resultado óptimo del proceso es importante la definición precisa de los pulsos individuales del láser en términos de tiempo. La amplificación lineal Slab permite ajustar el tiempo exacto y la energía de pulsado para cada una de las pulsaciones. Especialmente en combinación con un escáner, esta función puede proporcionar pulsaciones equidistantes en la pieza incluso durante la aceleración o la desaceleración.
La integración perfecta de muchas máquinas de TRUMPF en su entorno de software propio es simple y sin complicaciones. Tanto si se trata de una integración en Oseon como de una conexión a Monitoring y Analyse Tools, para cada combinación ponemos a su disposición la solución adecuada. También es posible la conexión a los sistemas de programa de terceros con nuestras interfaces basadas en el estándar OPC UA.
Escáner
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