Avec les plasmas à couplage inductif (ICP), des températures allant jusqu'à 10 000° C peuvent être atteintes à la pression atmosphérique. Dans ce processus, le gaz doit être passé au quatrième état de matière. Au& commencement, une source d'allumage - thermique ou à haute tension& - est nécessaire. Cela génère les premiers porteurs de charge libres, qui sont ensuite accélérés à haute tension dans le champ magnétique de l'inducteur et conduisent à une ionisation du gaz avec un effet boule de neige. Il en résulte un plasma électriquement conducteur qui peut être chauffé davantage par induction.
Les gaz courants du plasma sont l'argon, l'azote, l'hydrogène et l'oxygène ainsi que leurs mélanges. Les principales applications sont la sphéroïdisation de particules métalliques, l'activation de surfaces de verre, le nettoyage (raffinage) de masses fondues de silicium, la production de composés métallo-céramiques et la spectroscopie. Les générateurs à technologie à base de tubes de TRUMPF Hüttinger fournissent de manière fiable des puissances allant jusqu'à 120 kW à des fréquences de 2& - 3 MHz pour cette application.