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Générateurs de plasma CC pulsé | TRUMPF
Technologiebild DC gepulste Plasmageneratoren

Générateurs de plasma CC

Les générateurs de plasma CC pulsé de TRUMPF Hüttinger conviennent de manière idéale à une utilisation dans de nombreux processus réactifs. A la différence des générateurs à courant continu simples, les générateurs à courant continu pulsé permettent également de traiter les matières semi-conductrices ou non conductrices comme les oxydes. Les générateurs d'impulsions sont fréquemment utilisés pour les revêtements durs ainsi que pour les processus de décapage et de revêtement dans la fabrication des semi-conducteurs.

Générateur TruPlasma Highpulse Série 4000

TruPlasma Highpulse Série 4000 (G2)

Les blocs d'alimentation de processus de la gamme TruPlasma Highpulse Série 4000 (G2) permettent d'obtenir des revêtements en matière dure particulièrement résistants à la corrosion et à l'usure ; ils représentent le choix numéro un pour les applications HIPIMS. En combinaison avec des substrats polarisés, la gamme TruPlasma Highpulse Série 4000 (G2) peut également être utilisée pour des applications de semi-conducteurs, comme le comblement d'interstice, le prétraitement de surfaces et la gravure.

Générateur TruPlasma Highpulse Série 4000

TruPlasma Highpulse Série 4000

Les générateurs de la gamme TruPlasma Highpulse Série 4000 représentent le choix optimal pour les applications HIPIMS et produisent des revêtements de matière dure particulièrement résistants à la corrosion et à l'usure. En combinaison avec des substrats polarisés, la gamme TruPlasma Highpulse Série 4000 peut également être utilisée pour des applications de semi-conducteurs, comme la gravure, le prétraitement de surfaces et le remplissage de tranchée.

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC Série 4000 (G2)

La gamme TruPlasma DC Série 4000 (G2) associe l'excellente gestion d'arc de TRUMPF Hüttinger aux avantages de la technologie du courant continu pulsé. Vous obtenez ainsi de meilleurs résultats de revêtement, avec moins de défauts, pour une vitesse de déposition plus élevée. Résultat : des surfaces parfaites et un rendement soutenu.

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