Ezen weboldal rendelkezésre bocsátásához és működéséhez sütiket használunk. Ha további célokra is használhatunk sütiket, akkor kérjük, kattintson ide. Információk a sütik deaktiválásához és az adatvédelemhez
TRUMPF Laser Amplifier nagy teljesítményű chipek gyártásához
TRUMPF Laser Amplifier nagy teljesítményű chipek gyártásához
CO2-lézer

TRUMPF Laser Amplifier

A lézerimpulzussal megadja az alapot a jövő mikrochipjeinek gyártásához.

EUV litográfia a digitális korszak elősegítője

Az EUV litográfia megnyeri a jövő mikrochipjeinek gyártási módszerének versenyét. A félvezető gyártás ágazatban sok éve keresték a költséghatékony és tömeggyártásra alkalmas eljárást, amellyel még kisebb struktúrák világíthatók le a szilícium lapkákra. Az ASML, a Zeiss és a TRUMPF partnerekként kifejlesztettek egy technológiát, hogy az extrém ultraibolya (EUV), 13,5 nanométeres hullámhosszú fény ipari használatra alkalmas legyen: egy csepp-generátor egy vákuumkamrában másodpercenként 50 000 apró óncseppet csepegtet. Ezen cseppek mindegyikét éri az 50 000 lézerimpulzus valamelyike, és plazmává alakítja azt. Ezáltal EUV fény jön létre, amelyet tükörrel a levilágítandó lapkára irányítanak. A plazmasugárzáshoz való lézerimpulzust egy a TRUMPF által kifejlesztett, impulzusos CO2 lézerrendszer adja – ez a TRUMPF Laser Amplifier.

Néhány wattól 40 kilowattra

A TRUMPF Laser Amplifier a lézerimpulzust szekvenciálisan több mint a 10 000-szeresére erősíti fel.

Hatékony és folyamatbiztos

Egy elő- és fő impulzus kibocsátása révén a Laser Amplifier teljes teljesítménye átvihető az óncseppre.

A CO2 lézer új alkalmazása

A nagy teljesítményű lézerrendszer alapja a CO2 lézer folyamatos hullámú üzemben. Ezzel a TRUMPF a technológia új alkalmazását teremti meg.

Specialistákból álló hatalmas hálózat

A TRUMPF, az ASML és a ZEISS sokéves szoros együttműködésben iparéretté tette az EUV technológiát.

457.329

Munkadarabok

... Laser Amplifier-t tartalmaz.

7 322

Méter

... a kábelek a rendszerbe be vannak építve.

17 090

Kiló

... az össztömeget jelenti.

A TRUMPF Laser Amplifier központi komponensei

Aktuális álláshirdetések

1

Systemingenieur (w/m/d) CO2-Lasersysteme EUV

Kutatás/fejlesztés | Ditzingen / Germany

2

System Engineer (f/m/d) for CO2 laser systems EUV

Kutatás/fejlesztés | Ditzingen / Germany

3

Leiter (w/m/d) Elektrokonstruktion EUV

Kutatás/fejlesztés | Ditzingen / Germany

Ezek a témák is érdekelhetik Önt

Kapcsolat
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Szerviz & kapcsolat

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Hungary. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Hungary
United States

Or, select a country or a region.