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Artikelsammlung für EUV-Lithographie

La litografia EUV sotto la lente d'ingrandimento dei media

La radiazione ultravioletta estrema (EUV) per l'esposizione di wafer è senza dubbio il tema dominante per il futuro dell'industria dei chip. Non c'è da meravigliarsi se non soltanto la stampa specialistica, ma anche la stampa divulgativa si dedicano regolarmente a questo argomento e seguono lo sviluppo della tecnologia. In questa pagina presentiamo una raccolta di alcuni articoli nazionali e internazionali in evidenza.

Samsung produce chip a 7 nm con macchinari per esposizione EUV

In questo articolo, Heise.de informa che nell'autunno 2018 Samsung ha avviato nella sua prima fabbrica la produzione di chip a 7 nm, dove l'esposizione dei wafer viene eseguita con il sistema di litografia EUV di ASML. Fonte: www.heise.de
Autore: Nico Ernst
Data di pubblicazione: 10/2018
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Tempo fa

La relazione di bilancio TRUMPF 2017/2018 evidenzia come la predominanza della luce, e quindi anche il laser e la litografia EUV, rappresenti la base per le tecnologie del futuro, come l'intelligenza artificiale, la guida autonoma e le fabbriche interconnesse.

Fonte: relazione di bilancio TRUMPF esercizio 2017/2018
Autore: TRUMPF GmbH + Co. KG
Data di pubblicazione: 10/2018
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Disponibilità di scanner EUV salita all'85%

L'articolo pubblicato su golem.de annuncia che ASML ha apportato ai suoi sistemi NXW:3400B miglioramenti di entità tale da rendere accessibile una produzione in serie redditizia in termini di costi e tempo grazie alla radiazione ultravioletta estrema. Fonte: www.golem.de
Autore: Marc Sauter
Data di pubblicazione: 07/2018
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Il segreto della generazione EUV

In questo articolo LaserFocusWorld delinea lo sviluppo ultraventennale della tecnologia EUV e descrive i numerosi ostacoli e le sfide che sono stati superati per arrivare al successo del 2015.

Fonte: LaserFocusWorld
Autore: Andreas Thoss
Data di pubblicazione: 11/2017
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TRUMPF consolida la catena di fornitura per la litografia EUV con l'affare Access Laser

Questa relazione della rivista specializzata "Produktion" si occupa dell'acquisizione della maggioranza di Access da parte di TRUMPF. Quale produttore di laser a CO2 low power, Access Laser è uno dei più importanti partner di TRUMPF nel settore EUV. Fonte: www.optics.org
Autore: n.d.
Data di pubblicazione: 10/2017
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TRUMPF intende riplasmare l'industria dei chip

Lo Stuttgarter Zeitung relaziona su come TRUMPF con il suo amplificatore laser sia diventata fornitore dell'industria dei semiconduttori e abbia fondato una nuova affiliata dedicata a questo ramo del business. Fonte: Stuttgarter Zeitung
Autore: Michael Heller
Data di pubblicazione: 05/2017
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La EUV è entrata nella produzione di IC

L'articolo del settimanale per l'elettronica "Markt&Technik" riepiloga le cifre relative al fatturato e alle vendite attuali e previste da ASML, a dimostrazione del fatto che oggi la litografia EUV è giunta definitivamente al punto d'arrivo in questo settore. Fonte: Markt&Technik
Autore: Heinz Arnold
Data di pubblicazione: 07/2017
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