Questo sito web utilizza cookie per il funzionamento. Proseguendo nella navigazione in questo sito, senza modificare le impostazioni dei cookie, si accetta l'uso dei cookie.
Visual Elektronik

Elettronica

Nel progresso compiuto dalla microelettronica, velocità ed efficienza maggiori e dimensioni più contenute sono state possibili soltanto grazie alla tecnologia laser.

Due tra le più importanti particolarità del settore dell'elettronica sono la continua tendenza alla miniaturizzazione e le grandi dimensioni dei lotti. Grazie alla precisione che non conosce ancora rivali e alle buone opportunità di automazione, la tecnologia laser è in grado di offrire soluzioni industriali capaci di soddisfare questi requisiti. I laser TRUMPF svolgono un ruolo fondamentale nella produzione di chip per computer di ultima generazione. Il laser permette inoltre di realizzare numerose altre procedure, come il taglio e la foratura di wafer di silicio, circuiti stampati o interi moduli elettronici. I generatori TRUMPF Hüttinger forniscono inoltre energia di processo affidabile e precisa per i processi di rivestimento e incisione nella produzione di wafer di silicio.

I chip ad alte prestazioni del futuro

TruFlow Laser-Amplifier für EUV-Anwendungen

Lo sviluppo della microelettronica, che rappresenta il terreno su cui crescono i computer e gli smartphone di oggi, sarebbe impensabile senza la tecnologia laser. I chip di logica e memoria contengono strutture dell'ordine di grandezza dei nanometri, che possono essere prodotti soltanto con la luce generata dai complessi processi di irradiazione laser. L'approccio tradizionale con irradiazione laser UV dei laser a eccimeri si sta rivelando sempre più limitato. In futuro le strutture più piccole potranno essere create soltanto con lunghezze d'onda più corte, nel campo dell'ultravioletto estremo (EUV). Per generare questo fascio, è però necessario un processo innovativo, nel quale il laser a CO2 ad alta potenza spara minuscole gocce di zinco per generare un plasma luminoso. Una parte del fascio di plasma, con una lunghezza d'onda di 13,5 nm, può quindi essere utilizzato per illuminare i chip: è la litografia EUV. Per molti anni e con particolare dedizione a questo processo, TRUMPF ha collaborato con ASML, il maggiore produttore di sistemi di litografia, e con lo specialista in sistemi ottici Zeiss, arrivando a sviluppare il primo sistema laser a CO2 del mondo. I prodotti TRUMPF vengono inoltre utilizzati nei processi di rivestimento e incisione di wafer di silicio. In futuro dunque troveremo un pezzo della tecnologia TRUMPF in numerosi chip ad alte prestazioni.

Lavorazione di precisione a freddo di chip, pacchetti e circuiti stampati

Laserbohren einer Leiterplatte mit einem Laser der TruMicro Serie 5000.

Dopo i requisiti di luce e struttura dei circuiti sui wafer di silicio, nella catena di processo dell'elettronica si incontra quello della separazione in chip isolati. Per ottenere luci di taglio il più piccole possibile e un'elevata qualità dei bordi, ma anche per impedire che i chip sensibili vengano danneggiati dagli influssi termici, per la separazione vengono utilizzati laser a impulsi ultrabrevi di TRUMPF. Questi permettono di lavorare il materiale senza influssi termici indesiderati e di ottenere la massima precisione data appunto dalla lavorazione laser. Questi laser sono idonei anche per il taglio di moduli sensibili (System-in-Package), per la lavorazione di circuiti stampati in più materiali e per forare silicio e vetro con tecnologia microvia. In questo settore i laser TRUMPF sono inoltre utilizzati per l'asportazione mirata di strati, per il taglio di film e per la marcatura.

Cristallogenesi

Zone Floating Process

La crescita sintetica dei cristalli è la base su cui si fonda la produzione dei semiconduttori: ovvero la base dell'intera tecnologia della comunicazione e dei media. Con questa tecnica, strati monocristallini crescono su un substrato monocristallino dello stesso materiale, mantenendo così inalterata la disposizione cristallografica. Questo processo viene utilizzato tra l'altro nella produzione di LED. I generatori a induzione di TRUMPF Hüttinger permettono una distribuzione omogenea e stabile della temperatura grazie a una regolazione rapida e precisa dei parametri iniziali.

Contatto

Management dei settori
e-mail
Assistenza e contatto