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プラズマコーティング | TRUMPF
建築用ガラス
建築用ガラス

プラズマコーティング

極薄膜の生成

釉薬としてのコーティング技術は、最古の文明の利器の一つです。今日では、装飾的な保護膜やハードコーティングは日々の生活で欠かせないものになっています。マイクロエレクトロニクス部品の製造においても、薄膜の形成と剥離は主要な役割を果たしています。 最新のコーティングは主に真空プロセスで形成されており、物理蒸着 (PVD) とも呼ばれる物理気相成長か、化学蒸着 (CVD) とも呼ばれる化学気相成長が採用されています。コーティングするには、適切な原料を励起する必要があります。その方法としては加熱による熱励起などが挙げられ、それは例えば蒸着の際に行われます。しかし数多くのアプリケーションでは、励起用に電離気体すなわちプラズマを使用しなければなりません。それを発生させるには、適切な電力供給装置が必要になります。 プラズマコーティングでの最も重要な手法は、プラズマ化学コーティング、すわなちプラズマ化学蒸着 (PECVD) とマグネトロンスパッタリングです。後者には要件の高いバリエーションとして反応性スパッタリングが存在しており、この方法は誘電性絶縁保護膜の形成用に使用されています。それに加えて新種の用途が拓けていますが、それにはインパルス法である高出力インパルスマグネトロンスパッタリング (HiPIMS) が特に役立っています。

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Dr. Jan Peter Engelstädter
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