Samsung、5 nm EUVプロセスの準備完了
Golem.deに掲載されているこの記事で筆者のマーク・ザウターは、Samsung Foundryが極端紫外線 (EUV) による5 nmプロセスの開発を完了させ、受注を開始したと伝えています。新しいプロセスではトランジスタ密度を25 %高めると同時に、チップの消費電力を20 %低下させ、計算能力を10 %向上させることができます。
出典: www.golem.de
筆者: マーク・ザウター
発行日: 2019年4月
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メディアに映っている姿: EUVリソグラフィ
ウェーハ露光用の極端紫外線 (EUV) がチップ産業における将来のテーマであることは、疑いのない事実です。従って、専門メディアだけでなく一般メディアもこのテーマを定期的に取り上げて、この技術の動向を追っているのは、当然であると言えます。このページには、国内外のハイライト記事がいくつかまとめられています。
Samsung、EUV露光で7ナノメートルチップを製造
Heise.deに掲載されているこの記事では、Samsungが2018年秋に同社初の7 nm工場で生産を開始し、ASMLのEUVリソグラフィシステムを使用してウェーハ露光を行っていることが報じられています。 出典: www.heise.de
筆者: ニコ・エルンスト
発行日: 2018年10月
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時代の先取り
TRUMPF 2017/2018年度年次報告書では、レーザーとEUVリソグラフィも含めて、光の制御が人工知能、自動運転や工場のネットワーク化などの将来の技術の基盤となることが紹介されています。
出典: TRUMPF 2017/2018年度年次報告書
筆者: TRUMPF GmbH + Co. KG
発行日: 2018年10月
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EUVスキャナーの稼働率が85パーセントに上昇
golem.deの記事は、ASMLが同社のNXW:3400Bシステムを大幅に改善したことで、極端紫外線による費用効率と時間効率の高い連続生産の実現が間近になると予告しています。 出典: www.golem.de
筆者: マーク・ザウター
発行日: 2018年7月
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EUV生成の秘訣
LaserFocusWorldのこの記事は20年を超えるEUV技術開発の歴史を辿って、多数のハードルと課題が克服され、2015年の大躍進に至った過程を紹介しています。
出典: LaserFocusWorld
筆者: アンドレアス・トス
発行日: 2017年11月
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TRUMPF、Access Laserとの資本提携でEUVリソグラフィのサプライチェーンを強化
専門誌「Produktion」に掲載されているこのレポートでは、TRUMPFがAccess株の過半数を取得したことが取り上げられています。低出力CO2レーザーのメーカーであるAccess Laserは、TRUMPFのEUV事業における最も重要なパートナーの一社です。 出典: www.optics.org
筆者: 不明
発行日: 2017年10月
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TRUMPF、チップ産業に本格的に参入する意向
シュトゥットガルト新聞で、TRUMPFがレーザー増幅器のサプライヤーとして半導体業界に参入し、その事業のために新しい子会社を設立したことが報じられました。 出典: シュトゥットガルト新聞
筆者: ミヒャエル・ヘラー
発行日: 2017年5月
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IC製造で当たり前になったEUV
エレクトロニクス分野の週刊誌「Markt&Technik」に掲載されたこの記事では、ASMLの売上高と販売数の最新実績と見込みが紹介されていますが、これらの数字は、EUVリソグラフィがエレクトロニクス業界で完全に当たり前になっていることを証明しています。 出典: Markt&Technik
筆者: ハインツ・アーノルド
発行日: 2017年7月
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