TRUMPF Scientific Lasersのレーザ装置は、高出力/高エネルギーピコ秒/フェムト秒レーザパルスの生成に不可欠なツールです。この次世代の安定した光源からは、エネルギーが200 mJ以上の、又は電場振幅がごくわずかなレーザパルスが供給されます。仕様とオプションが豊富に用意されているため、お客様は常にカスタマイズ型システムを入手することができます。
協力企業とそれ以外のブランド
TRUMPFは、工作機械とレーザ技術の分野で製造ソリューションを開発・生産しているハイテク企業です。また、それ以外の関連企業も存在しており、各社はお客様の個別のニーズに特化して活動しています。例えばTRUMPFグループには材料加工向けの典型的なレーザ製品群に加えて、お客様固有のレーザ装置を研究用途向けに開発・製造している子会社が複数存在しています。
TRUMPF Scientific Lasers
ポートフォリオ
Amphos
AMPHOS (「Amplifying Photonics」) は、著名なフラウンホーファーレーザ技術研究所とアーヘン工科大学から分離して設立された企業であり、2018年にTRUMPFグループに加わりました。AMPHOSは高出力の超短パルスレーザーを、学術及び産業用途向けに開発・製造しています。
ポートフォリオ
Access Laser
Access Laser Co.は低出力領域のCO2レーザを製造しています。最も重要な使用領域は、マイクロチップ製造用EUVリソグラフィ向けのレーザです。そこでは低出力CO2レーザのレーザ光が光源として、TRUMPFのレーザ増幅器と共にEUV装置で使用されています。
ポートフォリオ
問い合わせ