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Building of TRUMPF subsidiary in Freiburg Germany

1990年にTRUMPFの一員となったHÜTTINGER

企業同士が結び付くことが運命づけられている場合があります。企業文化が似ているからかもしれません。相互のビジネス領域が補完し合うからかもしれません。あるいは、同じビジョンを共有しているからかもしれません。その一例がTRUMPF HüttingerとTRUMPFです。レーザ/機械製造分野のリーディングカンパニーが、代表的なプロセスエネルギー装置メーカーと出会いました。この「特別な関係」のキーポイントは、TRUMPF Hüttingerが同社の最高の強みである柔軟性、革新力、そして迅速な決断力を最初から維持して、継続的に成長を遂げられたことにありました。TRUMPF Hüttingerが立てた持続目標は、長期間にわたる密接な顧客関係がなければ達成できません。これをTRUMPF Hüttingerでは、信頼の生成 (ジェネレート) と呼んでいます!

 

事業分野

Plasma excitation
プラズマ

マイクロチップ、フラットスクリーンやソーラーセルなどは、全てが革新的なプラズマ技術の賜物です。材料の成膜と剥離を的確に行って初めて、ナノメートルレベルの薄い膜が必要条件であるハイテク製品が実現します。しかしプラズマなしにプラズマ技術は成立しません。TRUMPF Hüttingerのジェネレータでは、幅広い範囲の出力と周波数が提供されており、プラズマの確実な点火と安定した燃焼が保証されます。

Typisches Anwendungsgebiet der TruHeat MF Serie 3000 5000 7000: Epitaxie
誘導加熱

誘導加熱は難度の高い熱処理に適したソリューションであり、あらゆる加熱方法の中で最も高い効率を誇ります。誘導加熱では温度の範囲に関して制限がほとんどないため、ユーザーは自分の希望に合わせて極めて柔軟に温度を設定することができます。TRUMPF Hüttingerのジェネレータは誘導硬化や封印などの典型的なプロセスだけでなく、結晶育成などの特殊アプリケーションにも使用可能です。

Inverters for battery systems
バッテリーシステム用インバータ

インバータはモジュール構造になっているため、キロワットからメガワットに至るまで、様々な出力クラスの蓄電ソリューションに使用することができます。革新的な技術コンセプトにより、バッテリーシステムの運転時に最適な作動点と最高の効率を、エネルギー供給装置から工業用アプリケーション、そしてメイン蓄電システムに至るまで、あらゆる使用領域で実現します。

CO-2-Laser excitation
CO2レーザ励起

二酸化炭素を活性媒体として使用するCO2レーザは、工業用アプリケーションで広く普及しています。密度の高い光線や光パルスにより、極めて硬い材質であっても即座に溶解または気化させることができます。CO2レーザが光を放出するには、エネルギー供給による励起が必要です。TRUMPFのCO2レーザに必要なエネルギーは、TRUMPF Hüttingerの高出力型高周波ジェネレータから供給されます。

製品とサービス

フラットスクリーン、半導体及びソーラーセルの製造、建築用ガラスへの機能膜の蒸着、誘導加熱による包装の封止やツールの硬化などの用途を問わず、成熟した多種多様なプロセス用製品と質の高いサービスをお客様に提供しています。

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headquarters building of TRUMPF in Ditzingen Germany
企業プロフィール

当社の企業プロフィールでは、数字、データ、動画を利用して、TRUMPFグループに関する情報を簡潔にご紹介しています。

historical picture of the Stuttgart machine shop Julius Geiger GmbH
歴史

TRUMPFは1923年に機械工場として設立され、グローバルなハイテク企業に発展しました。当社の歴史をご覧ください。

A stack of TRUMPF annual reports
年次報告書

当社の年次報告書は、オンラインで閲覧するか、あるいは印刷物として注文することができます。こちらより最新の報告書と過去5年間のアーカイブをご覧いただけます。

問い合わせ

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