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TruPulse nano | TRUMPF
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短パルス及び超短パルスレーザ

TruPulse nano

ナノ秒加工で比類のない多才性

幅広い用途に対応可能な多才性

GTWave及びPulseTuneテクノロジを搭載した当社のパルスファイバレーザーTruPulse nanoは、TRUMPFのポートフォリオで最も多才な産業用レーザーの一つです。ナノ秒レベルのパルス持続時間で動作するこのレーザーは、様々な産業用途で使用されています。ユーザーは比類のない柔軟性を享受することができます。それに加えて、完全にメンテナンスフリーであるため、ユーザーは時間と費用の掛かるメンテナンス計画を気にすることなく、加工結果に集中することができます。

フレキシビリティー

持続性のあるマーキングが、速度と精度の高い非接触工法で生み出されます。それに加えて、レーザーマーキングでは消耗品が不要であり、マーキングがコンピュータで生成されるため、極めて高い柔軟性が得られます。

革新的な技術

当社のPulseTune対応型レーザーによって、新しいレベルに引き上げられたマイクロ加工用の拡張機能を活用すれば、パルスナノ秒テクノロジの頂点に達することができます。このレーザーでは、OEMインテグレーターはパルス幅とピーク出力を極めて柔軟に制御することができます。比類のないPulseTune機能の効果で、市場トップクラスのパルス周波数が可能になると同時に、ピーク出力の一定維持が実現します。

高い多様性

選択可能な波形は最大で48種類に及びます。各用途に合わせて主要なパルス特性を完璧に最適化することができるため、プロセス品質と生産性が向上します。

メンテナンス不要

パルスファイバレーザーはメンテナンスフリーで動作します。そのため、ユーザーは時間の掛かるメンテナンス計画を気にすることなく、常に加工結果に集中することができます。

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ナノ秒溶接

当社のレーザーは、材質、板厚や異種金属の組み合わせに左右されることなく多才な能力を発揮するため、燃料電池セルやバッテリーから医療機器製造用の細いワイヤに至るまで、様々な製品を溶接することができます。当社の特許取得済みのナノ秒溶接プロセスでは、薄い金属部品のほぼあらゆる組み合わせを接合することが可能です。それには、高反射性及び導電性の金属も含まれます。

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穴開け

レーザー穴開けでは、レーザー光線を特定領域に繰り返しパルス照射します。そして、穴開けの対象となる部材が一層毎に蒸発して溶融し、最終的には穴が開きます。レーザー穴開けの長所は高い精度が得られることにありますが、この精度は出力密度と光線の持続時間の監視を通して入念に制御することが可能です。

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切断

レーザー光線は極めて簡単にプログラミング可能であるため、様々な板厚や材質を正確に切断することができます。それには、銅、銀やアルミニウムなどの反射性金属も含めた金属だけでなく、黄銅、タングステン、鋼、錫やチタンも属します。また、ダイヤモンドなどの宝石、セラミック、グラファイト複合材料、シリコンや様々な種類のプラスチックも加工可能です。ユーザーが出力密度、光線の持続時間と入熱をいつでも完全に制御できるため、極めて複雑な形状であっても高精度で切断することが可能です。

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マーキングとエングレービング

マーキングでは加工品の表面だけが処理されるのに対して、刻印では深いマーキングが施されます。レーザーを使用して、ほぼあらゆる材質に黒色の、一部の材質では色付きのマーキングを施すことができます。レーザーマーキングは、セラミック、プラスチック、金属、LED、ゴムやグラファイト複合材料などで使用されています。

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表面層剥離

レーザーでは、金属の層を、又はエレクトロニクス製品での半導体やマイクロプロセッサなどでの産業化合物を正確に剥離することができます。

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クリーニング

通常レーザークリーニングでは、高いパルス周波数、短いパルス持続時間と高いピーク出力が使用されますが、これはパルスナノ秒レーザーに打って付けです。ここでの目標は、基材を損傷せずに、表面の残留物と汚染された層を除去することにあります。レーザークリーニングは低価格で環境にやさしい使用方法であり、世界中の産業界で定着しています。

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レーザーパラメータ                   
平均最大出力 20 W 20 W 30 W 50 W 100 W 20 W 30 W 50 W 50 W 70 W 70 W 100 W 130 W 200 W 20 W 20 W 70 W 200 W
最大パルスピーク出力 > 7 kW > 7 kW > 7 kW > 7 kW > 7 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 12 kW > 12 kW > 20 kW > 50 kW
ビーム品質 (M²) < 1.3 < 1.3 < 1.3 < 1.3 < 1.3 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.8 1.8 3 < 5
波長 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm 1062 nm ± 3 nm
最大パルス エネルギー > 0.6 mJ > 0.6 mJ > 0.6 mJ > 0.6 mJ > 1 mJ > 1 mJ > 1 mJ > 1 mJ > 1 mJ > 1 mJ > 1 mJ > 1.3 mJ > 1.5 mJ > 1.5 mJ > 1 mJ > 0.8 mJ > 1.25 mJ > 5 mJ
Pulsdauerbereich 3 ns - 500 ns 10 ns - 240 ns 10 ns - 240 ns 11 ns - 220 ns 4 ns - 2000 ns 3 ns - 500 ns 26 ns - 250 ns 6 ns - 500 ns 26 ns - 250 ns 9 ns - 500 ns 28 ns - 260 ns 4 ns - 2000 ns 3 ns - 2000 ns 10 ns - 220 ns 2 ns - 500 ns 10 ns - 250 ns 12 ns - 2000 ns
パルス繰り返し周波数 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 500 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 500 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 500 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 4000 kHz
シャフトの長さ範囲 1059 nm - 1065 nm
プラス継続領域 9 ns - 2000 ns
構成                   
寸法(幅 x 高 x 奥行) 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 377 mm x 249 mm x 115 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 377 mm x 249 mm x 95 mm 377 mm x 249 mm x 95 mm 377 mm x 249 mm x 115 mm 423 mm x 417 mm x 133 mm 423 mm x 417 mm x 133 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 377 mm x 249 mm x 95 mm 473 mm x 417 mm x 133 mm
設置状況                   
周辺温度 0 °C - 45 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 42 °C 5 °C - 40 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 40 °C 0 °C - 40 °C 0 °C - 40 °C 0 °C - 40 °C 0 °C - 40 °C 10 °C - 45 °C 10 °C - 40 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 40 °C 10 °C - 40 °C
ビーム品質に関するオプション

Sタイプ (シングルモード M2<1.3): 極小のスポット径 (<20マイクロメートル) が生み出され、高い出力安定性と深い焦点深度が得られます。小さい構造サイズが必要な用途に理想的です。

Zタイプ (M2 <1.6): 高めのピーク出力とパルスエネルギーが得られる一方で、スポット径の増大はごくわずかであり、焦点深度も良好です。

Lタイプ (ローモード M2 1.6 - 2.0): スポットと目印が少し大きめの一般的なマーキング用途向けです。肉眼でマーキングを見分けることができます。

Hタイプ (ハイモード M2 ​​2.5 - 3.5): 高いパルスエネルギーとピーク出力が得られ、スポット径は更に大きくなります。幅の広いラインに、また文字を塗りつぶすか広い領域をカバーする用途に理想的です。

Mタイプ – マルチモード (M2 4.0 - 6.0): パルスエネルギーが最も高く、パルス持続時間が長めのタイプです。溶接とクリーニングに理想的です。

PulseTuneシリーズ

当社のPulseTuneシリーズの範囲内にある複数の製品の中から、ご自分の要件に合った製品をお選びください。


エントリーモデルであるRMシリーズ (Reduced Mode) には、パルスオプションの一部と、基本的なソフトウェア/ハードウェアインターフェースが備わっています。このモデルでは2種類のPulseTune波形が利用可能であり、パルス周波数は最大500 kHzに制限されています。
HSシリーズ (High Specification) のモデルのメリットは、PulseTuneテクノロジ、可変選択可能なパルス持続時間と事前設定済みの25種類の波形です。制御性能の向上と連続波機能の調整の効果で、更に高い加工精度が得られます。パルス周波数は最大1 MHzとなっています。
EPシリーズ (Extended Performance) では、最適化された最大48種類のPulseTune波形から選択することができます。これは当社で最も多才なファイバレーザー装置であり、制御性能の向上と連続波機能の調整の恩恵が受けられます。それに加えて、パルスエネルギーとピーク出力も更にもう一段高められています。パルス持続時間の範囲は3-2000 ns、パルス周波数は最大4 MHzとなっています。

国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。

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