プラズマジェネレータ

TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) シリーズのプロセス電力供給装置では、柔軟に構成可能な出力信号及び洗練されたアーク管理により、ソーラーセルや半導体の製造、装飾的で耐摩耗性の膜のコーティング、並びに建築用ガラスのコーティングの際に、極めて優れた結果が得られます。最新世代のジェネレータは、反応性スパッタリング、PVDやPECVDなど難度の高いプラズマプロセスに理想的です。

TruPlasma MF 7000 (G2) シリーズの中周波ジェネレータでは常にプロセスを制御可能 – その結果、要件の高い大面積のコーティング用途でも卓越したコーティング品質と最高の生産性を得ることができます。ピーク効率は90 %を超える電力供給を備えた最新世代のジェネレータは、運転中も優れた経済性を確保できます。

HIPIMSアプリケーションに打って付けのTruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズのプロセス電力供給装置では、硬い材料のコーティングにおいて、特に高い耐腐食性及び耐摩耗性が得られます。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズは、分極した基板と組み合わせることで、トレンチフィリング、表面の前処理やエッチングなどの半導体アプリケーションにも使用できます。

TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズは、TRUMPF Hüttingerの優れたアーク処理とDCパルステクノロジーの利点を兼ね備えています。このため、コーティングの仕上がりがさらに向上し、損傷を少なくすると同時に高い蒸着率を実現します。その結果、鮮やかな表面と高い生産能力を得ることができます。

直流ジェネレータの新世代であるTruPlasma DC 3000 (G2) シリーズは、多数の直流スパッタリングプロセスに適しています。先進的なアーク管理と内蔵されている水冷装置を特長とする直流ジェネレータは、低コストな選択肢としてパルス直流ジェネレータの代わりに使用することもできます。極めてコパクトな構造であるため、既存のアプリケーションに簡単に統合できます。

TruPlasma Arc 3000シリーズのジェネレータは、硬い材料のコーティングや装飾的なコーティングで特に威力を発揮します。コンパクトなサイズと空冷により、貴重な有効面積の最適活用が保証され、新規または既存のシステムへの統合が簡単になります。

空冷式高周波ジェネレータTruPlasma RF 1001 Airからは、最大1000 Wの高精度で再現性のある高周波電力が供給され、100 mW単位の極めて精緻な設定が可能であるため、多種多様なプラズマアプリケーションに適しています。半導体、ソーラーセルやディスプレイの製造などの用途を問わず、TRUMPF Hüttingerの特許取得済み技術と最新のプロセス機能により、常に最高の稼働率と最善の加工結果が保証されます。

プロセスの最大出力を引き出す: TruPlasma VHF 3000シリーズのジェネレータは、難度の高いプロセス要件を満たす、革新的なプラットフォームコンセプトに基づいています。VHFジェネレータは、モジュール式で水冷のみによる構造であるため、最も狭い空間でも出力を最大80 kWまで拡大できます。

プラズマプロセスを最適に管理するためには、高周波ジェネレータの出力インピーダンスを正確に整合させることが極めて重要です。これは、ジェネレータとプロセスとの間を結ぶTruPlasma Match 1000 (G2/13) シリーズのマッチボックスによって行われます。この方法により、プロセス電力供給の全体的なソリューションであるTRUMPF RFシステムを構築することができます。