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TruPlasma DC 4040 (G2)
TruPlasma DC 4040 (G2)
プラズマ励起
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズ

輝かしい表面を生み出すパルスプロセス

難度の高いプロセスを見事に処理

TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズは、難度の高い材料の反応性直流スパッタリング専用に開発されました。パルス直流で作動するこのジェネレータは、最高の膜品質及び生産性が同時に求められる重要なPVDとPECVDプロセスで、特に優れた実績を残しています。コンパクトな直流プロセス電力供給は、パルス運転とバイアス運転の両方で使用可能であるため、2台の装置を1つのハウジングに融合したのと同等の効果が得られます!

高いコーティング品質と生産性

デジタル信号処理は安定したプロセスを保証し、アークに関連した時間ロスを最小限に抑えます。

難度の高いプロセスでも最高の結果を保証

迅速なアーク処理と直流パルス技術との組み合わせにより、基板の損傷が低下します。

簡単なプロセス調整

周波数範囲が幅広く調整可能な逆電圧により実現。

コンパクトで強靭な構造

内蔵型の水冷却装置により、スペースを節約しメンテナンス作業を軽減。

硬い材料のコーティング

硬い材料のコーティング

機能膜の成膜により、強い負荷にさらされる製品の縁の硬さ及び付着摩擦が高まり、熱安定性と化学的安定性が向上します。TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズのパルスジェネレータでは、安定したプラズマプロセスとそれに伴う最適な膜品質を保証します。

最も薄い金属コーティングの塗布に理想的

金属被覆

PVDプロセスにより、極めて薄い金属層を様々な材料に成膜させて、材料の外観的及び電気的なプロパティを最適化することができます。プロセスパラメータに最適に適合された電力供給により、完全に均一で欠陥のない膜の成膜が可能になります。

ソーラーセル製造

ソーラーセル製造

ソーラーセルだけでなく、フラットスクリーン及びタッチスクリーンにも、電気的なプロパティを変化させるために、透明導電性酸化物 (TCO) がコーティングされます。TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズのパルスジェネレータは、アークエネルギーが極めてわずかであるため、このコーティングに最適です。

建築用ガラス

建築用ガラス

建築用ガラスの広い面積に及ぶコーティングをPVDプラズマプロセスで行う際には、プロセス電力供給に対する要件が極めて高くなります。TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズのパルスジェネレータは、高品質なコーティング結果を得るための理想的な必要条件を備えています。

TruPlasma DC 4010 (G2)
TruPlasma DC 4020 (G2)
TruPlasma DC 4040 (G2)
出力      
定格出力 10 kW 20 kW 40 kW
最大出力電流 33 A eff 67 A eff 133 A eff
最大出力電圧 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff
定格動作周波数 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz
アークパラメータ      
最大アークレート 20000 1/s 20000 1/s 20000 1/s
アークエネルギー <0.3 mJ/kW <0.3 mJ/kW <0.3 mJ/kW
アーク処理時間 <0.1 µs <0.1 µs <0.1 µs
照射圧力      
照射サポートを含む 1750 V 1750 V 1750 V
照射サポートを含まない 1250 V 1250 V 1250 V
電源接続データ      
供給電圧 3x 360 V - 528 V 3x 360 V - 528 V 3x 360 V - 528 V
電源周波数 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz
通信インターフェース      
アナログ/デジタル はい はい はい
RS 232 / RS 485 はい はい はい
PROFIBUS はい はい はい
EtherCAT いいえ いいえ いいえ
DeviceNet はい はい はい
ハウジング      
重量 65 kg 75 kg 150 kg
保護タイプ IP 40 40 40
冷却要件      
冷媒
最大水圧 7 bar 7 bar 7 bar
最小圧力差 3 bar 3 bar 3 bar
最小流量 8 l/min 8 l/min 16 l/min
冷媒温度 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C
DC 接続データ      
ターミナル数 3 3 3
公称電流 / ターミナル 25 A 45 A 85 A
一般      
全体効率 90 % 90 % 90 %
証明書 / 標準 CE CE CE
環境条件      
外部温度 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C
湿度 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
気圧 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa
アーク管理

高いコーティング品質と生産性

迅速なアーク処理と直流パルス技術の組み合わせにより、液滴付着率が低下し、表面の欠陥が減少します。アークに関連するプロセス中断が最小限に抑えられ、成膜率が著しく向上します。

プロセスをサポートする洗練されたモニタリングツール

プロセスに合わせて柔軟にカスタマイズ

パルス周波数は幅広い範囲で調整可能であり、さらに直流ジェネレータのバイアス運転も可能です。これにより、同じ装置を多数のアプリケーションに使用することができます。プロセス最適化の際には、洗練されたモニタリングツールをサポートとしてご利用ください。

様々なオプションにより、パルス直流ジェネレータをご自分のアプリケーションに合わせて最適にカスタマイズできます。

並列運転と同期化

TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズの複数の直流ジェネレータは、同期運転することができます。このモードでは、異なるターゲットを対象とした複数のジェネレータのアーク検出を同期化できます。パルスモードの同期も実行できます。

操作しやすいソフトウェア PVD Power

PVD Power

使いやすく、複数の言語に対応するソフトウェアPVD Powerにより、プロセス品質の最適化と効果的なトラブルシューティングを目的として、様々な操作、構成及び診断を行うことができます: 関連する全プロセスパラメータの実測値、警告、アラームメッセージの表示、オペレータによる規定値の指定、及び高い時間分解能による重要な運転パラメータの記録と可視化 (オシロスコープ機能)。

国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。

お客様向け情報

TRUMPF Hüttinger IoTサービス

当社のIoTサービスはお客様の装置稼働率を最大化し、サービスサポートをより予測可能で計画的なものにします。

 

Bipolar-Generator TruPlasma Bipolar 4040
フレキシブルなソリューション及び極めて優れた精度

TruPlasma Bipolar 4000 G2シリーズは、フルデジタルアーク管理と極めてわずかなアークエネルギーで高い膜品質と析出率を実現するため、常に卓越した結果が得られます。

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