革新的、モジュール式でスケーラブル: TRUMPF Hüttingerの新ジェネレータプラットフォーム
TruPlasma VHF 3000シリーズのジェネレータは、最高の出力密度を可能にし、難度の高いプロセス要件を満たす、革新的なプラットフォームコンセプトに基づいています。モジュール式で水冷のみによる構造であるため、出力を最大80 kWまで拡大できます。それに加えてこのコンパクトなVHFジェネレータは、高い経済性と堅牢なデザインという長所を備えています。
既存の信号とマルチレベルパルス幅変調に加え、最高のプラズマプロセス制御も提供します。
これにより、ジェネレータの点火動作を非常に柔軟に制御できます。
自動周波数調整により、VHFジェネレータとマッチボックスの最適な連携を実現できます。
高精度のデジタル周波数変調により再現可能な卓越したプロセス結果を得ることができます。
プロセス変更時も高周波ケーブルの長さを調整する必要はないため、セットアップ時間が短くなります。
CombineLineテクノロジーにより、誤調整時もジェネレータは高い信頼性で機能します。
ソーラーセルの製造
太陽光発電の分野におけるオーダーメイドのプロセスエネルギーには、多数の使用領域があります。ここでは材料の成膜及び除去を行うため、スパッタリング、PECVD、エッチングプロセスなど、様々なプラズマプロセスが使用されます。TruPlasma VHF 3000シリーズのジェネレータは、各プロセスに合わせて最適にカスタマイズすることが可能で、迅速なアーク管理により安定したプラズマ制御を実現できます。このため、優れたプロセス結果と高い生産性が保証されます。
半導体製造
半導体製造の際には、ドライエッチングによる除去プロセスから、純珪素製造における浮遊帯溶融法に至るまで、様々なプラズマプロセスが実行されます。TruPlasma VHF 3000シリーズのジェネレータは、各プロセスに合わせて最適に調整され、安定した電力供給を確保する必要条件をすべて備えているため、再現性のある優れた結果が得られます。
フラットパネルディスプレイのコーティングに理想的
TruPlasma VHF 3000シリーズのジェネレータは、RIE、ALD、PECVD、RFスパッタリングなどのプラズマプロセスに最適です。これらの手法は、半導体部品および微小電気機械システム (MEMS) の製造、ならびにフラットパネルディスプレイ及びソーラーセルのコーティングなどで利用されます。
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Truplasma VHF 1000-2.5/60
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TruPlasma VHF 3000-5/40
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TruPlasma VHF 3000-10/40
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|---|---|---|---|
| 高周波出力 | |||
| 出力 | 2.5 kW | 5 kW | 10 kW |
| 定格出力 | 2.5 kW | 5 kW | 10 kW |
| 定格負荷のインピーダンス | 50 Ω | 50 Ω | 50 Ω |
| 出力周波数 | 60 MHz | 40.68 MHz | 40.68 MHz |
| 電源接続データ | |||
| 供給電圧 | 200 - 480 V | 200 - 480 V | 200 - 480 V |
| 電源周波数 | 50-60 Hz | 50-60 Hz | 50-60 Hz |
| 電源入力電力 | 4 kVA | 9.3 kVA | 18.6 kVA |
| 出力係数 | 0.95 | 0.95 | 0.95 |
| 通信インターフェース | |||
| 同期インターフェース | はい | はい | はい |
| アナログ/デジタル | はい | はい | はい |
| RS 232 / RS 485 | はい | はい | はい |
| PROFIBUS | いいえ | いいえ | いいえ |
| EtherCAT | はい | はい | はい |
| DeviceNet | はい | はい | はい |
| ハウジング | |||
| 重量 | 23 kg | 32 kg | 53 kg |
| 保護タイプ IP | 30 | 30 | 30 |
| 冷却要件 | |||
| 最大水圧 | 7 bar | 7 bar | 7 bar |
| 最小圧力差 | 2 bar | 2 bar | 2 bar |
| 最小流量 | 8 l/min | 8 l/min | 10 l/min |
| 冷媒温度 | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C 1 | 5 °C - 35 °C |
| 一般 | |||
| 全体効率 | 70 % | 70 % | 70 % |
| 証明書 / 標準 | Semi S2, SEMI F47,UL, CE, RoHs | Semi S2、SEMI F47、UL、CE、RoHs | Semi S2, SEMI F47,UL, CE, RoHs |
| 環境条件 | |||
| 外部温度 | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C |
| 湿度 | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
| 気圧 | 79.5 kPa - 106 kPa | 79.5 kPa - 106 kPa | 79.5 kPa - 106 kPa |
ダウンロード形式で用意された全製品バリエーションの技術データ。
プロセスに合わせて柔軟にカスタマイズ
TruPlasma VHF 3000シリーズのモジュール式プラットフォームコンセプトでは、出力を最大80 kWにまで拡大することが可能です。CombineLineテクノロジーの採用により、ジェネレータは不整合の場合も非常に強靭に反応します。周波数範囲が幅広く、供給電圧及びケーブル長が可変であるため、様々なアプリケーションや使用国に合わせて柔軟にカスタマイズできます。
最高の効率と経済性
TruPlasma VHF 3000シリーズの高周波RFジェネレータは、最新の半導体技術とLDMOSパワートランジスタをフル活用した構造になっています。高度に統合化されたプラナー構造技術により、最高の出力密度が得られるだけでなく、同時にエネルギー効率も上昇するため、冷却出力が低下します。この製品群は、この周波数範囲では前例のない経済性を提供しており、市場における通常の運転コストよりも低価格で動作します。
TRUMPF SystemPort
SystemPortは、マッチボックスの入力/出力で直接RF信号を測定することにより、クローズドループ制御を可能にします。高周波RFジェネレータに、全ての測定値が提供されます。これによりプロセスパラメータの監視が改善され、マッチボックスの保護及び早期アーク検出を保証することができます。つまり、RFシステム全体を単一のジェネレータインタフェースで制御することができます。
様々なオプションにより、VHFジェネレータをご自分のアプリケーションに合わせて最適にカスタマイズできます。
特許取得済みの自動周波数チューニングソリューションでは、同時に高速で周波数調整を行うことができ、ジェネレータとマッチボックスの最適な連携作業を実現します。この特許取得済みの技術は、極小でもはや障害となることはありません。RFシステムは最適化され、最高の再現性を可能にします。
熟考されたアーク管理は、最高のプラズマプロセス制御には理想的なモジュールです。狙いを定めたアーク検出は、最大限に可能な生産性を保証すると同時に、製品と設備を保護します。
パルス波の柔軟な形成: 出力信号の形状は、各プロセス要件に合わせて任意に調整することができます。
TruControl Power
TRUMPF使いやすい制御ソフトウェアTruControl Powerにより、快適に運転開始を行い、高周波RFジェネレータもしくはTRUMPF RFシステム全体を、プロセスの進行中に確実に監視することが可能になります。
適したシステムコンポーネントを選択することで、VHFジェネレータをご自分のアプリケーション要件に合わせて最適にカスタマイズできます。
TruPlasma Matchのマッチング回路により、ジェネレータからプラズマ放電への最適な出力伝達が保証されます。マッチボックスの動作は独立して実現するか、またはいわゆるSystemPortと呼ばれるインテリジェントなジェネレータマッチボックス接続ポートを介して実現することができます。
個のジェネレータには、水接続部用アダプタ、HARTING交流電力供給用セット、インターロック機能用ジャンパ、LEMO EPLからBNCメスコネクタへの取付用アダプタ (クロックとパルスの同期プラグ) が含まれています。
マスターオシレータを使用することで、極めて重要な同期プラズマプロセスを安定させて、最適化することができます。統合されたデジタル周波数シンセサイザおよび位相シンセサイザにより、高い周波数と相の安定性が実現され、極小単位で相状態を設定することが可能になります。周波数13.56 MHzならびに異なる周波数組み合わせに対応する、様々な仕様のマスターオシレータからお選びいただけます。
高周波スイッチにより、シーケンスプロセスへの、または複数の供給点を持つシステムへの電力供給など、複数のプラズマプロセスステーションで高周波RFジェネレータを多重使用できるようになります。高周波スイッチは、2、3または4点の出力を搭載した2種類の出力クラスで提供されています。
TRUMPF Hüttingerでは、高周波出力伝達のために、50 Ωシステムでの運転専用に設計された同軸ケーブルを提供しています。
完璧に相互調整されたTRUMPF RFシステム
プラズマプロセスは、複雑な変動性負荷のような挙動を示し、ジェネレータからの継続的な電力供給を必要とします。この役割を担うアクティブな調整ネットワーク、いわゆるマッチボックスにより、50 Ωの最適なインピーダンスへの正確な調整が常に保証されます。こうして、完璧に相互調整されたシステムソリューションであるTRUMPF RFシステムが実現されます。EtherCATなど様々なインタフェースを介して、ジェネレータとマッチボックスを既存のプロセス環境に極めて容易に統合することができます。いわゆるSzstemPortと呼ばれるインテリジェントなジェネレータマッチボックス接続ポートにより、最適化されたシステムソリューションが可能になります。
国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。
脚注-
結露を防止するため、冷却水の温度は室温の露点を超えてはいけません。
