このウェブサイトを提供するにあたり、当社はクッキーを使用しています。クッキーの設定を変更せずにこのウェブサイトを引き続き閲覧された場合には、クッキーの使用に同意したものとみなされます。
MF Plasmageneratoren

中周波プラズマジェネレータ

TRUMPF Hüttingerの中周波プラズマジェネレータは、特にデュアルマグネトロンスパッタリングなどデュアルカソードシステムにおいて使用されます。中周波ジェネレータは出力及びプロセス安定性が高いため、析出率の高い建築用ガラス大面積コーティングと、半導体やソーラーセルにおける超薄い均一な膜の蒸着の両方に適しています。卓越した精度と生産性を誇る当社の中周波プロセス電力供給装置は、プラズマ励起による多数のアプリケーション向けの理想的なソリューションです。

バイポーラジェネレータ TruPlasma Bipolar 4040

TruPlasma Bipolar 4000 (G2) シリーズ

TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2) の電力供給装置は、反応性スパッタリング、PVDやPECVDなど難度の高いプラズマプロセスに理想的です。柔軟に構成可能な出力信号及び洗練されたアーク管理により、半導体やソーラーセルの製造や建築用ガラスのコーティング、あるいは装飾的で耐摩耗性のコーティングを施す際に、極めて優れた結果を提供します。

TruPlasma MF 7000 (G2) シリーズ

TruPlasma MF 7000シリーズ

TruPlasma MF 7000 (G2) シリーズの中周波ジェネレータでは常にプロセスを制御可能 – その結果、要件の高い大面積のコーティング用途でも卓越したコーティング品質と最高の生産性を得ることができます。ピーク効率は90 %を超える電力供給を備えた最新世代のジェネレータは、運転中も優れた経済性を確保できます。

サービス & お問い合わせ