You have selected 日本. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

直流パルスプラズマジェネレータ | TRUMPF
直流パルスプラズマジェネレータ技術のイメージ

直流プラズマジェネレータ

TRUMPF Hüttingerの直流パルスプラズマジェネレータは、多数の反応性プロセスでの使用に理想的です。単純な直流ジェネレータとは異なり、パルス直流であるため酸化物などの半導電性材料や絶縁材料も加工することができます。パルスジェネレータが頻繁に使用されるアプリケーションには、硬い材料のコーティング並びに半導体製造でのエッチングとコーティングプロセスがあります。

TruPlasma Highpulse 4000シリーズのジェネレータ

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズ

HIPIMSアプリケーションに打って付けのTruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズのプロセス電力供給装置では、硬い材料のコーティングにおいて、特に高い耐腐食性及び耐摩耗性が得られます。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズは、分極した基板と組み合わせることで、トレンチフィリング、表面の前処理やエッチングなどの半導体アプリケーションにも使用できます。

TruPlasma Highpulse 4000シリーズのジェネレータ

TruPlasma Highpulse 4000シリーズ

HIPIMSアプリケーションにおける第一候補であるTruPlasma Highpulse 4000シリーズの直流ジェネレータは、特に耐腐食性及び耐摩耗性のハードコーティングを提供します。TruPlasma Highpulse 4000シリーズは、分極した基板と組み合わせることで、エッチング、表面の前処理、トレンチフィリングなどの半導体アプリケーションにも使用できます。

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズ

TruPlasma DC 4000 (G2) シリーズは、TRUMPF Hüttingerの優れたアーク処理とDCパルステクノロジーの利点を兼ね備えています。このため、コーティングの仕上がりがさらに向上し、損傷を少なくすると同時に高い蒸着率を実現します。その結果、鮮やかな表面と高い生産能力を得ることができます。

サービス & お問い合わせ