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安定した電圧管理及び迅速なアーク管理を備えたバイアスジェネレータ
安定した電圧管理及び迅速なアーク管理を備えたバイアスジェネレータ
プラズマ励起
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bias 4000シリーズ

高い安定性と多様性

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    スパッタリングプロセス用ユニバーサルジェネレータ

    TruPlasma Bias 4000シリーズは、最新のパルス直流バイアスジェネレータの製品群です。最大100 kHzまでのパルス周波数並びに連続的バイアス出力が可能です。ジェネレータは、半導体技術または硬い材料のコーティングなどで使用される、特に外観的で金属性のコーティングアプリケーションに対応しています。それに加えて、電圧と電流に対する要件が類似しているあらゆるアプリケーションに適しています。

    高電圧及び低電圧モード

    基板エッチングプロセス 1200 V
    バイアスサポートによるコーティングプロセス 300 V

    迅速なアーク管理

    このため、液滴の付着と基板の損傷がさらに低下します。

    安定性と再現性の高いプロセス結果

    最新のDSPテクノロジーとFPGA信号評価による卓越したアーク管理。

    TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2) の典型的な使用領域: 耐摩耗性コーティングの製造

    耐摩耗性コーティングの製造

    TruPlasma Bias 4000シリーズのジェネレータでは、安定したプラズマプロセスとそれに伴う最適な膜品質が保証されます。

    広い面積に及ぶコーティングに理想的

    広い面積に及ぶコーティング

    広い面積に及ぶコーティングをプラズマプロセスで行う際には、プロセス電力供給に対する要件が極めて高くなります。TruPlasma Bias 4000シリーズのジェネレータは、各プロセスに合わせて最適に調整され、安定した電力供給を確保する必要条件をすべて備えているため、再現性のある優れた結果が得られます。

    TruPlasma Bias 4000シリーズのジェネレータ

    ソーラーセル製造

    TruPlasma Bias 4000シリーズのジェネレータは、あらゆる重要なPVD及びPECVDプロセスで実績を残しており、各プロセスに合わせて最適に調整され、安定した電力供給を確保する必要条件をすべて備えているため、再現性のある優れた結果が得られます。

    TruPlasma Bias 4012
    TruPlasma Bias 4018
    TruPlasma Bias 4026
    出力      
    定格出力 12 kW 18 kW 26 kW
    最大出力電流 40 A eff 60 A eff 87 A eff
    最大出力電圧 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff
    定格動作周波数 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz
    アークパラメータ      
    最大アークレート 50 1/s 50 1/s 50 1/s
    アーク処理時間 <0.5 µs <0.5 µs <0.5 µs
    電源接続データ      
    供給電圧 3x 360 V - 440 V 3x 360 V - 440 V 3x 360 V - 440 V
    電源周波数 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz
    通信インターフェース      
    アナログ/デジタル はい はい はい
    RS 232 / RS 485 - はい -
    PROFIBUS はい - はい
    EtherCAT いいえ いいえ いいえ
    ハウジング      
    重量 70 kg 70 kg 71 kg
    保護タイプ IP IP 20 IP 20 IP 20
    冷却要件      
    冷媒 空気 空気 空気
    冷媒温度 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C
    一般      
    全体効率 90 % 90 % 90 %
    証明書 / 標準 CE CE CE
    環境条件      
    外部温度 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C
    湿度 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    気圧 860 kPa - 1060 kPa 860 kPa - 1060 kPa 860 kPa - 1060 kPa
    PDF <1MB
    Technical data sheet

    Download the technical data of all product variants.

    建築用ガラス

    良好なプロセス条件を確実に維持

    特別な出力及び制御デザインにより、膜品質と安定したプロセスにとって決定的な意味を持つ確かな電圧安定性が実現します。DSP技術に基づいて設計され、FPGA信号評価が装備されたTruPlasma Bias 4000シリーズには、比類のない精度と繰り返し精度を可能にする最新のアーク管理が備わっています。両パラメータの圧倒的な値により、最適なプロセス安定化がもたらされます。

    硬い材料のコーティング

    簡単なシステム操作 ― わずか1台の装置で複数のプロセスが可能

    TruPlasma Bias 4000シリーズには、最大1200 Vまでの高電圧モードと最大300 Vまでの低電圧モードの、2つの独立した電圧モードが備わっています。両モードは、半導体技術又は硬い材料のコーティングなどで使用される、特に外観的で金属性のコーティングアプリケーションに対応しています。それに加えて、電圧と電流に対する要件が類似しているあらゆるアプリケーションに適しています。

    アーク管理

    完璧なプロセスによる最適な膜品質

    TruPlasma Bias 4000シリーズのジェネレータには、アークエネルギーが極めてわずかなフルデジタルアーク管理とCompensateLineが備わっているため、高い膜品質と成膜率が可能になります。それにより、液滴の付着と基板の損傷がさらに低下し、プロセスと製品が向上します。

    使いやすいソフトウェア PVD Power

    PVD Power

    使いやすく、複数の言語に対応するソフトウェアPVD Powerにより、プロセス品質の最適化と効果的なトラブルシューティングを目的として、様々な操作、構成及び診断を行うことができます: 関連する全プロセスパラメータの実測値、警告、アラームメッセージの表示、オペレータによる規定値の指定、及び高い時間分解能による重要な運転パラメータの記録と可視化 (オシロスコープ機能)。

    国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で機械を入手できるかどうかを確認してください。

    お客様向け情報

    Services_Electronics_Technical_Support
    比類のないサービス

    的確なサービス契約により、ジェネレータの稼働率を最高レベルに到達させ、同時にメンテナンス/運転コストを把握することができます。

    Bias Generator mit stabilem Spannungs- und schnellem Arc-Management
    最適なパルスプロセス

    TruPlasma Bias 3000シリーズのジェネレータには、2つの作業モードとフルデジタルアーク管理が備わっているため、高い膜品質と析出率が実現します。

    Services_Electronics_Training
    当社の強みである顧客向けカスタマイズ研修

    内容を受講者のニーズに合わせて構成した上で、経験豊かなサービスエンジニアが確かな知識を伝授します。

    問い合わせ

    Klaus Nock
    販売 (プラズマ)
    Fax: +49 761 89711150
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    TruPlasma Bias 3000 / 4000シリーズカタログ
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