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TruPlasma DC 4000シリーズのパルスジェネレータ
TruPlasma DC 4000シリーズのパルスジェネレータ
プラズマ励起
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma DC 4000シリーズ

ガラスのように透明: 完璧な表面を生み出すパルスプロセス

viewport test images /w Retina support
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TruPlasma DC 4000シリーズ

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難度が高いプラズマプロセスでの第一候補

TruPlasma DC 4000シリーズのジェネレータは、難度が高いプラズマプロセスでの第一候補です。幅広い負荷適合範囲を活用して、フル出力を提供します。そのため、高度技術によるスパッタアプリケーションや追加としての標準またはパルス直流プラズマアプリケーションに適しています。非パルスジェネレータと同様に、卓越したアーク管理を搭載しています。

安定したプロセスで一定の結果を獲得

最新のDSP制御技術により、アーク関連の時間のロスを最低限に抑えることができます。

優れたアーク管理

液滴の付着と基板の損傷がさらに低下するため結果も向上。

1つのジェネレータで多数のプロセスに対応

広範囲にわたる出力と最大100 kHzのパルス周波数により柔軟に使用可能。

TruPlasma DC 4000シリーズのパルスジェネレータ

難度の高い材料の反応性スパッタリング

TruPlasma DC 4000シリーズのパルスジェネレータは、難度の高い材料の反応性スパッタリング専用に開発されました。このジェネレータは、ソーラーセル及び半導体の製造または硬い材料のコーティングなど、あらゆる重要なPVDとPECVDプロセスで優れた実績を残しています。

金属ワークピースへのコーティングに最適

難度が高いプラズマプロセス

TruPlasma DC 4000シリーズのジェネレータは、難度が高いプラズマプロセスでの第一候補です。幅広い負荷適合範囲を活用して、フル出力を提供します。そのため、高度技術によるスパッタアプリケーションや追加としての標準またはパルス直流プラズマアプリケーションに適しています。非パルスジェネレータと同様に、卓越したアーク管理を搭載しています。

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アーク管理

高効率

フルデジタルアーク管理は、極めてわずかなアークエネルギーで、高い膜品質と析出率を実現します。それにより、液滴の付着と基質の損傷がさらに低下します。アークの残留エネルギーが極めて低いことも手伝って、プロセス及び最終製品の向上に直接つながります。プロセス所要時間が安定して一定しており、プロセス中断が極めて短いため、高い生産性が保証されます。

TruPlasma DC 4000シリーズのパルスジェネレータ

操作しやすいプロセス適合

TruPlasma DC 4000シリーズのジェネレータには、同期化されたアーク管理、パルス周波数及び移相器が搭載されています。周波数及びパルスパラメータは自在にカスタマイズ可能であるため、多数のプロセスを1台の装置で操作することができます。複数のTruPlasma DC 4000ジェネレータでの同期パルスも可能です。

操作しやすいソフトウェア PVD Power

PVD Power

使いやすく、複数の言語に対応するソフトウェアPVD Powerにより、プロセス品質の最適化と効果的なトラブルシューティングを目的として、様々な操作、構成及び診断を行うことができます: 関連する全プロセスパラメータの実測値、警告、アラームメッセージの表示、オペレータによる規定値の指定、及び高い時間分解能による重要な運転パラメータの記録と可視化 (オシロスコープ機能)。

国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で機械を入手できるかどうかを確認してください。

お客様向け情報

問い合わせ

Klaus Nock
販売 (プラズマ)
Fax: +49 761 89711150
Eメール

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TruPlasma DC 4000シリーズリーフレット
TruPlasma DC 4000シリーズリーフレット
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