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高周波RFジェネレータ TruHeat HF 7010
高周波RFジェネレータ TruHeat HF 7010
誘導加熱
TRUMPF Hüttinger

TruHeat HF 7000シリーズ

実績のあるチューブテクノロジーを採用した高性能ジェネレータ

要求の高い加熱プロセス向けの信頼性のある高出力

500 kHz以上の高周波でも、TruHeat HF 7000シリーズは一定した高い出力を供給 – 半導体や太陽電池産業における中断のない長時間のプロセスや、熱処理請負業者に応じて変動する要件に対応するために最適です。どんな状況にも対応できる信頼性の高いジェネレータです。

実績のあるチューブテクノロジー

周波数が500 kHzを超えても確実なプロセス結果を保証します。

安定性のある高出力

最大周波数3000 kHzまでの場合500 kW

幅広い出力幅

10 kW~500 kWにわたる7種の出力段階により、多様な誘導加熱アプリケーションをカバーします。

幅広い周波数範囲

周波数は400 kHz~3000 kHzに対応可能、多様な加熱プロセスに合わせて最適に調整できます。

フローティングゾーン法

困難なプロセスでも高い長期安定性

超高純度シリコン製造向けのフローティングゾーン法 (FZ)。

誘導結合プラズマ (ICP)

多様なアプリケーション

誘導結合プラズマ (ICP)。

-/-
出力              
定格出力 10 kW 30 kW 60 kW 100 kW 120 kW - - - - - - - -
最大出力電圧 5000 V eff 6300 V eff 6300 V eff 6600 V eff 7000 V eff - - - - - - - -
定格動作周波数 400 kHz - 3000 kHz 400 kHz - 3000 kHz 400 kHz - 3000 kHz 400 kHz - 3000 kHz 400 kHz - 3000 kHz - - - - - - - -
電源ケーブル長さ 3 m - 20 m 3 m - 20 m 3 m - 20 m 3 m - 4 m 3 m - 4 m - - - - - - - -
電源接続データ              
供給電圧 (±10%) 200 V - 480 V (±10%) 200 V - 480 V (±10%) 200 V - 480 V (±10%) 200 V - 480 V (±10%) 200 V - 480 V - - - - - - - -
電源周波数 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz - - - - - - - -
電源入力電力 21 kVA 63 kVA 126 kVA 210 kVA 252 kVA - - - - - - - -
ハウジング              
重量 900 kg 1200 kg 1200 kg 1500 kg 1500 kg - - - - - - - -
保護タイプ IP IP54 IP54 IP54 IP54 IP54 - - - - - - - -
冷却要件              
最大水圧 6 bar 6 bar 6 bar 6 bar 6 bar - - - - - - - -
最小圧力差 3.5 bar 3.5 bar 3.5 bar 3.5 bar 3.5 bar - - - - - - - -
最小流量 10 l/min 30 l/min 60 l/min 100 l/min 120 l/min - - - - - - - -
冷媒温度 - 35 °C - 35 °C - 35 °C - 35 °C - 35 °C - - - - - - - -
外円              
保護タイプ IP IP54 IP54 IP54 IP54 IP54 - - - - - - - -
一般              
証明書 / 標準 CE適合宣言書 CE適合宣言書 CE適合宣言書 CE適合宣言書 CE適合宣言書 - - - - - - - -
環境条件              
外部温度 10 °C - 45 °C 10 °C - 45 °C 10 °C - 45 °C 10 °C - 45 °C 10 °C - 45 °C - - - - - - - -
アプリケーション環境で直接ジェネレータを操作

お客様のアプリケーションにベストパフォーマンスを

堅牢な設計のジェネレータは産業環境でも恒久的に使用できるため、安定した連続運転が可能となり、困難な長期プロセスでも驚くような生産性を発揮します。

実績のある管球技術により、最大出力周波数と最大出力電圧が生成され、統合されたサイリスタ技術は、迅速で正確な出力調整を実現します。ジェネレータと共振回路は、作業ステーションのスペースを最適化するために、別々のモジュールとして入手可能です。

様々なオプションを使用することにより、高周波RFジェネレータを異なるシステム環境に合わせて最適に調整できます。

マッチング回路

外部回路とも呼ばれるマッチング回路を使用して、負荷 (誘導コイル + 加工品) を高周波RFジェネレータに合わせて調整することができるため、ジェネレータは常に最大出力を発揮することができます。異なるアプリケーションで様々なマッチング回路を使用できます。

リモートコントロールユニット

リモートコントロールユニットの機能範囲は、ジェネレータの操作パネルと同様の機能を備えています。このため、アプリケーション環境で直接ジェネレータを操作でき、同時に加熱プロセスを監視することができます。

適切なシステムコンポーネントを選択できるため、高周波RFジェネレータを所定のアプリケーションに合わせて最適にカスタマイズできます。

誘導加熱装置の優れた設計により最高のプロセス結果を実現
誘導加熱装置

誘導加熱装置のジオメトリは、各加熱プロセスに合わせて調整できます (リング、ライン、フォームの各種誘導加熱装置)。

様々な表面における非接触式温度測定用パイロメータ
パイロメータ

パイロパイロメータは、表面温度が2000 °C以下の非接触測定に使用します。接続されているプログラムコントローラにより、温度プロファイルを精密に移動できます。

加熱プロセス向けの専門的な冷却装置: ホース付き冷却ユニット
冷却ユニット

冷却ユニットは、プロセス熱を確実に放散させます。様々な出力範囲に対応する仕様が提供されています。

国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。

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Nikolas Hunzinger
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