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高周波RFジェネレータ TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006
高周波RFジェネレータ TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006
プラズマ励起
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF 3000シリーズ

妥協のない高周波テクノロジー

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TruPlasma RF 3000シリーズ

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    優れたプロセス結果を保証

    確実で信頼性の高い高周波RFジェネレータ: TruPlasma RF 3000シリーズの長所は、頑強な構造と高い効率です。そのため、フラットパネルディスプレイ、ソーラーセルまたは半導体の製造などで使用される、安定した再現性のあるプラズマプロセスに最適です。世界中の何千というアプリケーションに設置されたこのジェネレータは、高い生産性と卓越したプロセス結果を保証します。

    効率と経済性

    最大80 %の効率により、エネルギー費用を最大50 %まで削減可能。

    優れたRFアーク管理

    要件が高く新しいプロセスでも安全に制御

    高い強靭性とプロセス安定性

    CombineLineテクノロジー: 誤調整時の反射電力に対する信頼性の高い保護。

    最高のフレキシビリティー

    連続出力あるいはパルス出力に対応するため、多様に使用可能

    エッチング/コーティングプロセスに理想的

    エッチング/コーティングプロセス

    TruPlasma RF 3000シリーズの高周波ジェネレータは、プラズマエッチング、反応性イオンエッチング、ALDやPECVDなどのエッチング及びコーティングプロセスに特に適しています。

    金属ワークピースへのコーティングに最適

    金属ワークピースへのコーティングに最適

    プラズマプロセスにより、物体の表面での材料の蒸着と剥離を行うことができます。その例として、金属ワークピースへの摩耗保護層のコーティング、プラズマエッチングによる電子部品の構造化やフォトレジストプラズマアッシングなどがあります。

    フラットパネルディスプレイのコーティング向けの最高クラスの中周波電力供給

    フラットパネルディスプレイとソーラーセルのコーティング

    TruPlasma RF 3000シリーズの高周波ジェネレータは、RIE、ALD、PECVD、RFスパッタリングなどのプラズマプロセスに最適です。これらの手法は、半導体部品および微小電気機械システム (MEMS) の製造、ならびにフラットパネルディスプレイ及びソーラーセルのコーティングなどで利用されます。

    高周波出力          
    出力 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
    定格出力 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
    定格負荷のインピーダンス 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω
    出力周波数 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz
    電源接続データ          
    供給電圧 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V
    電源周波数 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz 50/60 Hz 50/60 Hz
    電源入力電力 16.6 kVA 28.1 kVA 33.3 kVA 80 kVA 100 kVA
    出力係数 0.93 0.93 0.93 - -
    通信インターフェース          
    同期インターフェース はい はい はい はい はい
    アナログ/デジタル はい はい はい はい はい
    RS 232 / RS 485 はい はい はい はい はい
    PROFIBUS はい はい はい はい はい
    EtherCAT はい はい はい いいえ いいえ
    DeviceNet はい はい はい はい はい
    ハウジング          
    重量 57 kg 117 kg 117 kg 1000 kg 1200 kg
    保護タイプ IP 20 20 20 54 54
    冷却要件          
    最大水圧 7 bar 7 bar 7 bar 6 bar 6 bar
    最小圧力差 2 bar 2 bar 2 bar 2.5 bar 2.5 bar
    最小流量 10 l/min 20 l/min 20 l/min 46 l/min 56 l/min
    冷媒温度 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1
    一般          
    全体効率 78 % 75 % 75 % - -
    証明書 / 標準 SEMI F47、CE、RoHs SEMI F47、CE、RoHs SEMI F47、CE、RoHs CE、SEMI F47 CE、SEMI F47
    環境条件          
    外部温度 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
    湿度 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    気圧 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    Technical data sheet

    Download the technical data of all product variants.

    統合されたCombineLineテクノロジー

    最高の効率とプロセス安定性

    出力ロスの半減と、優れた効率による冷却水の使用量削減 – これにより運転コストが最小限に抑えられます。ジェネレータの構造は極めて頑強であるため、注意を要するプロセスにおいても長い運転時間が可能になり、その結果コーティング率が上昇します。真の50 Ω出力インピーダンスを実現するCombineLineテクノロジーにより、プラズマ変動を効果的に防止 – こうして完全に安定したプロセスが可能になります。

    高周波RFジェネレータ TruPlasma RF 3012

    あらゆる状況下で確保できる安全性

    強靭な構造により、プロセスにおける最大限の信頼性と生産性を実現します。100 %の不整合保護は、負荷状態が限界に近づいた場合でも確実な運転を保証します。連続的またはパルスから選択可能な出力放出により、幅広いプロセス要件に対応します。世界中で既に20,000以上のユニットが設置されており、この数を超えるプラズマ電力供給装置は他にはありません。

    TruPlasma RF、システムポート

    TRUMPF SystemPort

    SystemPortは、マッチボックスの入力/出力で直接RF信号を測定することにより、クローズドループ制御を可能にします。高周波RFジェネレータに、全ての測定値が提供されます。これによりプロセスパラメータの監視が改善され、マッチボックスの保護及び早期アーク検出を保証することができます。つまり、RFシステム全体を単一のジェネレータインタフェースで制御することができます。

    様々なオプションにより、高周波RFジェネレータをご自分のアプリケーションに合わせて最適にカスタマイズできます。

    アーク管理

    熟考されたアーク管理は、最高のプラズマプロセス制御には理想的なモジュールです。狙いを定めたアーク検出は、最大限に可能な生産性を保証すると同時に、製品と設備を保護します。

    操作しやすいソフトウェア TruControl Power

    TruControl Power

    使いやすい制御ソフトウェアTruControl Powerにより、快適に運転開始を行い、高周波RFジェネレータもしくはTRUMPF RFシステム全体を、プロセスの進行中に確実に監視することが可能になります。

    TRUMPF RFシステムの全コンポーネントは、最適に相互調整されています。

    RFシステムソリューション: マッチボックスによる最高のプロセス安定性
    TruPlasma Match 1000 (G2/13) シリーズ

    TruPlasma Matchのマッチング回路により、ジェネレータからプラズマ放電への最適な出力伝達が保証されます。マッチボックスの動作は独立して実現するか、またはいわゆるSystemPortと呼ばれるインテリジェントなジェネレータマッチボックス接続ポートを介して実現することができます。

    極めて難度の高いプラズマプロセスの安定化を担うマスターオシレータ
    マスターオシレータ

    マスターオシレータを使用することで、極めて重要な同期プラズマプロセスを安定させて、最適化することができます。統合されたデジタル周波数シンセサイザおよび位相シンセサイザにより、高い周波数と相の安定性が実現され、極小単位で相状態を設定することが可能になります。周波数13.56 MHzならびに異なる周波数組み合わせに対応する、様々な仕様のマスターオシレータからお選びいただけます。

    柔軟なプラズマシステムにおける高周波RFジェネレータの使用向け高周波スイッチ
    高周波スイッチ

    高周波スイッチにより、シーケンスプロセスへの、または複数の供給点を持つシステムへの電力供給など、複数のプラズマプロセスステーションで高周波RFジェネレータを多重使用できるようになります。高周波スイッチは、2、3または4点の出力を搭載した2種類の出力クラスで提供されています。

    指定された出力送信用の同軸ケーブル
    同軸ケーブル

    TRUMPF Hüttingerでは、高周波出力伝達のために、50 Ωシステムでの運転専用に設計された同軸ケーブルを提供しています。

    ジェネレータとマッチボックス: 完璧に相互調整されたシステムソリューション

    完璧に相互調整されたジェネレータとマッチボックス

    プラズマプロセスは、複雑な変動性負荷のような挙動を示し、ジェネレータからの継続的な電力供給を必要とします。この役割を担うアクティブな調整ネットワーク、いわゆるマッチボックスにより、50 Ωの最適なインピーダンスへの正確な調整が常に保証されます。こうして、完璧に相互調整されたシステムソリューションであるTRUMPF RFシステムが実現されます。EtherCATなど様々なインタフェースを介して、ジェネレータとマッチボックスを既存のプロセス環境に極めて容易に統合することができます。いわゆるSzstemPortと呼ばれるインテリジェントなジェネレータマッチボックス接続ポートにより、最適化されたシステムソリューションが可能になります。

    国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で機械を入手できるかどうかを確認してください。

    脚注
    • 結露を防止するため、冷却水の温度は室温の露点を超えてはいけません。

    お客様向け情報

    Services_Electronics_TQZ_TRUMPF_Tower
    テスト/品質検査センター

    経験豊富なアプリケーションエンジニアが当社のテスト/品質検査センター (TQZ) で、製品品質の継続的な最適化に日々取り組んでいます。

    TruPlasma RF 1003: Hochfrequenzgenerator für maximale Produktivität
    最低限の費用で最大限の結果

    TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) シリーズは、最新世代の高周波RFジェネレータであり、安定したプラズマ電力供給にとって最高の前提条件を提供します。

    Services_Electronics_Training
    当社の強みである顧客向けカスタマイズ研修

    内容を受講者のニーズに合わせて構成した上で、経験豊かなサービスエンジニアが確かな知識を伝授します。

    問い合わせ

    Klaus Nock
    販売 (プラズマ)
    Fax: +49 761 89711150
    Eメール

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    TruPlasma RF 3000シリーズカタログ
    TruPlasma RF 3000シリーズカタログ
    pdf - 1 MB
    TruPlasma RFシステムカタログ
    pdf - 6 MB
    サービス & お問い合わせ