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VHFジェネレータ3000シリーズ
VHFジェネレータ3000シリーズ
プラズマ励起
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma VHF 3000シリーズ

あらゆる要求に対応

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    革新的、モジュール式でスケーラブル: TRUMPF Hüttingerの新ジェネレータプラットフォーム

    TruPlasma VHF 3000シリーズのジェネレータは、最高の出力密度を可能にし、難度の高いプロセス要件を満たす、革新的なプラットフォームコンセプトに基づいています。モジュール式で水冷のみによる構造であるため、出力を最大80 kWまで拡大できます。それに加えてこのコンパクトなVHFジェネレータは、高い経済性と堅牢なデザインという長所を備えています。

    精密で迅速な任意のパルス形

    既存の信号とマルチレベルパルス幅変調に加え、最高のプラズマプロセス制御も提供します。

    最低ランプタイム < 150 ns

    これにより、ジェネレータの点火動作を非常に柔軟に制御できます。

    スマートな自動周波数チューニング

    自動周波数調整により、VHFジェネレータとマッチボックスの最適な連携を実現できます。

    信頼性が高く洗練されたプロセスコントロール

    高精度のデジタル周波数変調により再現可能な卓越したプロセス結果を得ることができます。

    ケーブル長は無関係

    プロセス変更時も高周波ケーブルの長さを調整する必要はないため、セットアップ時間が短くなります。

    堅牢なデザイン

    CombineLineテクノロジーにより、誤調整時もジェネレータは高い信頼性で機能します。

    TruPlasma VHF 3000シリーズの典型的な用途: ソーラーセル製造

    ソーラーセルの製造

    太陽光発電の分野におけるオーダーメイドのプロセスエネルギーには、多数の使用領域があります。ここでは材料の成膜及び除去を行うため、スパッタリング、PECVD、エッチングプロセスなど、様々なプラズマプロセスが使用されます。TruPlasma VHF 3000シリーズのジェネレータは、各プロセスに合わせて最適にカスタマイズすることが可能で、迅速なアーク管理により安定したプラズマ制御を実現できます。このため、優れたプロセス結果と高い生産性が保証されます。

    エッチング/コーティングプロセスに理想的

    半導体製造

    半導体製造の際には、ドライエッチングによる除去プロセスから、純珪素製造における浮遊帯溶融法に至るまで、様々なプラズマプロセスが実行されます。TruPlasma VHF 3000シリーズのジェネレータは、各プロセスに合わせて最適に調整され、安定した電力供給を確保する必要条件をすべて備えているため、再現性のある優れた結果が得られます。

    フラットパネルディスプレイのコーティング向けの最高クラスの中周波電力供給

    フラットパネルディスプレイのコーティングに理想的

    TruPlasma VHF 3000シリーズのジェネレータは、RIE、ALD、PECVD、RFスパッタリングなどのプラズマプロセスに最適です。これらの手法は、半導体部品および微小電気機械システム (MEMS) の製造、ならびにフラットパネルディスプレイ及びソーラーセルのコーティングなどで利用されます。

    TruPlasma VHF 3005
    高周波出力  
    出力 5 kW
    定格出力 5 kW
    定格負荷のインピーダンス 50 Ω
    出力周波数 40.68 MHz
    電源接続データ  
    供給電圧 200 - 480 V
    電源周波数 50-60 Hz
    電源入力電力 18 kVA
    出力係数 0.95
    通信インターフェース  
    同期インターフェース はい
    アナログ/デジタル はい
    RS 232 / RS 485 はい
    PROFIBUS はい
    EtherCAT はい
    DeviceNet はい
    ハウジング  
    重量 55 kg
    保護タイプ IP 30
    冷却要件  
    最大水圧 7 bar
    最小圧力差 2 bar
    最小流量 8 l/min
    冷媒温度 5 °C - 35 °C 1
    一般  
    全体効率 75 %
    証明書 / 標準 Semi S2、SEMI F47、UL、CE、RoHs
    環境条件  
    外部温度 5 °C - 40 °C
    湿度 5 % - 85 %
    気圧 79.5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    Technical data sheet

    Download the technical data of all product variants.

    TruPlasma VHF 3000シリーズのCombineLineテクノロジー

    プロセスに合わせて柔軟にカスタマイズ

    TruPlasma VHF 3000シリーズのモジュール式プラットフォームコンセプトでは、出力を最大80 kWにまで拡大することが可能です。CombineLineテクノロジーの採用により、ジェネレータは不整合の場合も非常に強靭に反応します。周波数範囲が幅広く、供給電圧及びケーブル長が可変であるため、様々なアプリケーションや使用国に合わせて柔軟にカスタマイズできます。

    並列LC回路向け高周波RFジェネレータ

    最高の効率と経済性

    TruPlasma VHF 3000シリーズの高周波RFジェネレータは、最新の半導体技術とLDMOSパワートランジスタをフル活用した構造になっています。高度に統合化されたプラナー構造技術により、最高の出力密度が得られるだけでなく、同時にエネルギー効率も上昇するため、冷却出力が低下します。この製品群は、この周波数範囲では前例のない経済性を提供しており、市場における通常の運転コストよりも低価格で動作します。

    TruPlasma RF、システムポート

    TRUMPF SystemPort

    SystemPortは、マッチボックスの入力/出力で直接RF信号を測定することにより、クローズドループ制御を可能にします。高周波RFジェネレータに、全ての測定値が提供されます。これによりプロセスパラメータの監視が改善され、マッチボックスの保護及び早期アーク検出を保証することができます。つまり、RFシステム全体を単一のジェネレータインタフェースで制御することができます。

    様々なオプションにより、VHFジェネレータをご自分のアプリケーションに合わせて最適にカスタマイズできます。

    スマート自動周波数チューニング

    特許取得済みの自動周波数チューニングソリューションでは、同時に高速で周波数調整を行うことができ、ジェネレータとマッチボックスの最適な連携作業を実現します。この特許取得済みの技術は、極小でもはや障害となることはありません。RFシステムは最適化され、最高の再現性を可能にします。

    アーク管理

    熟考されたアーク管理は、最高のプラズマプロセス制御には理想的なモジュールです。狙いを定めたアーク検出は、最大限に可能な生産性を保証すると同時に、製品と設備を保護します。

    パルス波の柔軟な形成

    パルス波の柔軟な形成: 出力信号の形状は、各プロセス要件に合わせて任意に調整することができます。

    操作しやすいソフトウェア TruControl Power

    TruControl Power

    TRUMPF使いやすい制御ソフトウェアTruControl Powerにより、快適に運転開始を行い、高周波RFジェネレータもしくはTRUMPF RFシステム全体を、プロセスの進行中に確実に監視することが可能になります。

    適したシステムコンポーネントを選択することで、VHFジェネレータをご自分のアプリケーション要件に合わせて最適にカスタマイズできます。

    RFシステムソリューション: マッチボックスによる最高のプロセス安定性
    マッチボックス

    TruPlasma Matchのマッチング回路により、ジェネレータからプラズマ放電への最適な出力伝達が保証されます。マッチボックスの動作は独立して実現するか、またはいわゆるSystemPortと呼ばれるインテリジェントなジェネレータマッチボックス接続ポートを介して実現することができます。

    TruPlasma VHFシリーズのアクセサリーセット
    アクセサリセット

    個のジェネレータには、水接続部用アダプタ、HARTING交流電力供給用セット、インターロック機能用ジャンパ、LEMO EPLからBNCメスコネクタへの取付用アダプタ (クロックとパルスの同期プラグ) が含まれています。

    極めて難度の高いプラズマプロセスの安定化を担うマスターオシレータ
    マスターオシレータ

    マスターオシレータを使用することで、極めて重要な同期プラズマプロセスを安定させて、最適化することができます。統合されたデジタル周波数シンセサイザおよび位相シンセサイザにより、高い周波数と相の安定性が実現され、極小単位で相状態を設定することが可能になります。周波数13.56 MHzならびに異なる周波数組み合わせに対応する、様々な仕様のマスターオシレータからお選びいただけます。

    VHFジェネレータ3000シリーズ
    高周波スイッチ

    高周波スイッチにより、シーケンスプロセスへの、または複数の供給点を持つシステムへの電力供給など、複数のプラズマプロセスステーションで高周波RFジェネレータを多重使用できるようになります。高周波スイッチは、2、3または4点の出力を搭載した2種類の出力クラスで提供されています。

    指定された出力送信用の同軸ケーブル
    同軸ケーブル

    TRUMPF Hüttingerでは、高周波出力伝達のために、50 Ωシステムでの運転専用に設計された同軸ケーブルを提供しています。

    ジェネレータとマッチボックス: 完璧に相互調整されたシステムソリューション

    完璧に相互調整されたTRUMPF RFシステム

    プラズマプロセスは、複雑な変動性負荷のような挙動を示し、ジェネレータからの継続的な電力供給を必要とします。この役割を担うアクティブな調整ネットワーク、いわゆるマッチボックスにより、50 Ωの最適なインピーダンスへの正確な調整が常に保証されます。こうして、完璧に相互調整されたシステムソリューションであるTRUMPF RFシステムが実現されます。EtherCATなど様々なインタフェースを介して、ジェネレータとマッチボックスを既存のプロセス環境に極めて容易に統合することができます。いわゆるSzstemPortと呼ばれるインテリジェントなジェネレータマッチボックス接続ポートにより、最適化されたシステムソリューションが可能になります。

    国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で機械を入手できるかどうかを確認してください。

    脚注
    • 結露を防止するため、冷却水の温度は室温の露点を超えてはいけません。

    お客様向け情報

    Ideal geeignet für Großflächenbeschichtung
    プラズマプロセス向け電力供給

    TRUMPF Hüttingerでは、幅広い範囲の出力と周波数を備えたプラズマジェネレータを提供しています。こちらでは当社製品についてご紹介しています。

    RF-Systemlösung : Matchbox für höchste Prozessstabilität
    リアルタイム測定によるインテリジェントなマッチング

    TruPlasma Match 1000 (G2/13) シリーズの新型マッチボックスは、高周波RFジェネレータを最適に補完し、TRUMPF RFシステムというトータルソリューションの実現に貢献します。

    Services_Electronics_Training
    当社の強みである顧客向けカスタマイズ研修

    内容を受講者のニーズに合わせて構成した上で、経験豊かなサービスエンジニアが確かな知識を伝授します。

    問い合わせ

    Klaus Nock
    販売 (プラズマ)
    Fax: +49 761 89711150
    Eメール

    ダウンロード

    TruPlasma RFシステムカタログ
    TruPlasma RFシステムカタログ
    pdf - 6 MB
    TruPlasma VHF 3000シリーズパンフレット
    pdf - 1 MB
    Whitepaper LDMOS
    pdf - 3 MB
    Whitepaper Precision in Processing
    pdf - 2 MB
    サービス & お問い合わせ