広大な対象領域に直接均一な熱処理を施せることと、反射光に対する高い耐性を有していることがユーザーにとってのメリットです。照射強度も100 W/cm²以上と高いため、高いプロセス速度が得られます。
VCSEL Infrared Power Systems
VCSELアレイに基づいたレーザー装置は、広い面積を調整済みの波長選択型赤外線で加熱することができます。このVCSEL加熱システムは、多数の工業用加熱プロセスで使用されています。高価な光学ユニットやスキャナーシステムなしで処理面に直接照射することが可能であるため、従来のレーザー装置に対してコスト面での大きな優位性が実現します。このシステムの比類のない特長として、正確な制御と赤外線出力の素早い切替に加えて、レーザーモジュールの小セグメントの独立制御により、立体的加熱形状が任意にプログラミング可能であることが挙げられます。動作中に加熱パターンを動的に変化させることさえも可能です。これにより、例を見ないプロセス柔軟性が実現します。
出力がkW範囲でスケーラブルであることからメリットがもたらされます。
照射強度100 W/cm²を誇るため、高いプロセス速度が得られます。
VCSELレーザー装置の個々の放射ゾーンはそれぞれ独立制御が可能です。
堅牢でコンパクトなレーザーモジュールは、工業設備と生産プロセスに簡単に統合可能です。

PPM412-12-980-24
2.4 kW VCSEL工業用加熱モジュール

PPM412-24-980-48
4.8 kW VCSEL工業用加熱モジュール

PPM412-48-980-96
9.6 kW VCSEL工業用加熱モジュール

PPM417-10-980-20
2.0 kW VCSEL、集光工学系および2枚の保護フロントガラス付き

PPM420-24-980-48
限定空間向けの4.8 kWフラットモジュール
国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。