1990년 이후부터 TRUMPF Hüttinger는 TRUMPF 그룹에 속합니다

마이크로칩, 평면 스크린 및 솔라셀 – 이 모두는 혁신적인 플라즈마 기술의 생산 물품입니다. 많은 하이테크 제품은 나노미터 수준의 얇은 층을 전제조건으로 하여 특정한 재료 공급 또는 재료 제거의 프로세스를 거쳐야만 합니다. 그러나 플라즈마 기술이 없다면 플라즈마도 없습니다. TRUMPF Hüttinger의 발진기는 폭넓은 출력 및 주파수 스펙트럼을 제공하며 플라즈마가 안전하게 점화하고 안정적으로 연소할 수 있도록 해줍니다.

유도식 가열 장치는 높은 수준의 열처리 기술을 위한 솔루션이자 모든 가열 프로세스 중 가장 효율성이 높은 장치입니다. 사용자는 원하는 온도에 따라 극도로 유연하게 사용할 수 있습니다. 왜냐하면 유도식 가열 시 스펙트럼에 거의 한계가 없기 때문입니다. TRUMPF Hüttinger 발진기는 유도 경화, 봉인 등의 전통적인 프로세스 뿐만 아니라 결정 인상법 등의 특수 방식에도 사용할 수 있습니다.

모듈식 구조 덕분에 양방향 인버터는  킬로와트에서 메가와트 까지의 매우 다양한 출력 저장 솔루션에서 사용될 수 있습니다.전기접점 용접 시에도 TRUMPF 레이저가 사용됩니다. 혁신적인 테크놀로지 컨셉은 산업용 어플리케이션에서 가정용 스토리지 시스템까지의 모든 적용 범위에서 최고의 효율성으로 최적화된 동작점에서 배터리 시스템이 가동하도록 허용합니다.

TRUMPF Hüttinger 마이크로웨이브 부스터는 입자 가속기에서 사용됩니다. 이 장치는 최신 반도체 기술을 바탕으로 하여 전자, 이온 또는 양자 등과 같은 입자를 가속하기 위해 필요한 출력을 제공합니다. 다양한 출력 등급으로 맞춤형 제공되는 시스템 솔루션을 선택하십시오: MHz ~ GHz 주파수 대역에서 낮은 kW 및 수백 kW 사이로 제공되는 출력을 경험해보십시오.

산업용 가열 공정을 위한 TRUMPF Hüttinger의 콤팩트 하이엔드 마이크로웨이브 발진기는 반도체를 기반으로 까다로운 비접촉식 가열 공정에 적합합니다. 이 설비는 균일하고 정확하며 반복 가능한 결과를 제공합니다.

산업 분야의 어플리케이션에서는 이산화탄소를 레이저 매질로 사용하는 CO2 레이저가 광범위하게 사용되고 있습니다. CO2 레이저의 강력한 광선 또는 광 펄스는 매우 단단한 소재의 해당 부분을 용융 또는 기화시킵니다. CO2 레이저의 광이 방사될 수 있도록 하려면 에너지 공급에 의해 자극을 받아야 합니다. TRUMPF의 CO2 레이저는 TRUMPF Hüttinger의 고성능 고주파 발진기를 통해 필요한 에너지를 공급받습니다.