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EUV 리소그래피 관련 기사 | TRUMPF
EUV 리소그래피 항목 모음

미디어의 거울: EUV 리소그래피

반도체 노출에 사용되는 극자외 레이저(EUV)는 의심의 여지 없이 반도체 산업의 차기 주제입니다. 전문 언론에서뿐 아니라 대중 언론에서도 일정 주기마다 이 주제에 관심을 갖고 기술력 개발에 대한 끈질긴 열정을 보이는 것은 놀랄 일이 아닙니다. 이 페이지에서는 일부 국가 및 국제 하이라이트 기사를 볼 수 있습니다.

삼성, 5나노미터 EUV 프로세스 개발 완료

Golem.de에서 발췌한 이 기사에서 작성자인 Marc Sauter는 삼성 파운드리가 극자외선을 이용하여  5나노미터 프로세스  개발을 완료했으며 고객의 주문을 받고 있다고 전합니다. 새 프로세스를 통해 트랜지스터 집적도가 25% 증가하며, 동시에 소비 전력이 20% 감소, 즉 처리 능력이 10% 향상됩니다.

출처: www.golem.de
저자: Marc Sauter
발표일: 2019년 4월
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삼성, EUV 노출을 도입한 7 나노미터 칩 생산해

Heise.de는 이 기사에서 삼성이 2018년 가을 자사의 첫번째 7NM 공장에서 ASML의 EUV 리소그래피 시스템을 사용하여 반도체 노출을 시행하여 생산성을 향상시켰다고 전한다.출처: www.heise.de
저자: Nico Ernst
발표일: 2018년 10월
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before time

TRUMPF 연간 보고서 2017/2018에서는 레이저 및 EUV 리소그래피가 빛의 힘을 활용하여 인공지능, 자율주행 및 네트워크 공장과 같은 미래 기술의 기반을 어떻게 제공할 것인지에 대해 설명하고 있습니다.

출처: TRUMPF 연간 보고서 GJ 2017/2018
저자: TRUMPF GmbH + Co. KG
발표일: 2018년 10월
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EUV 스캐너 가용성 85까지 향상돼

golem.de에 실린 이 기사는 ASML이 자사의 NXW:3400B 시스템을 대폭 개선하여 극자외 레이저를 통해 머지않아 비용과 시간이 효율적으로 단축되는 대량 생산 체제 구축을 달성할 수 있다고 발표했습니다.출처: www.golem.de
저자: Marc Sauter
발표일: 2018년 7월
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EUV 세대의 비밀

LaserFocusWorld는 이 기사에서 20년 이상 진행된 EUV 기술의 발달과정을 추적하고 2015년 극복해야 했던 장애물과 도전 과제들을 설명하고 있습니다.

출처: LaserFocusWorld
저자: Andreas Thoss
발표일: 2017년 11월
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TRUMPF, Access Laser와 협력하여 EUV 리소그래피 공급 체인 강화해

"Produktion" 저널의 이 보고서는 TRUMPF가 Access의 과반수를 인수한 것에 대한 내용을 다루고 있습니다. Low Power CO2 Laser의 제조사인 Access Laser는 TRUMPF의 EUV 사업 분야에서 가장 중요한 협력 업체 중 하나입니다. 출처: www.optics.org
저자: n.N.
발표일: 2017년 10월
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TRUMPF, 반도체 산업을 흔들겠다

슈투트가르터 차이퉁 신문사는 레이저 증폭기 공급업체였던 TRUMPF가 어떻게 반도체 산업에 진입했고, 또 반도체 사업을 위한 새로운 자회사를 설립했는지까지의 내용을 기술하고 있습니다. 출처: 슈투트가르터 차이퉁
저자: Michael Heller
발표일: 2017년 5월
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EUV 기술, IC 제조 분야에 도입

전자공학 전문 주간지 "Markt&Technik"에 실린 기사는 EUV 리소그래피가 마침내 업계에 도입되었음을 입증하는 ASML의 현재 매출 및 계획 판매량을 요약하고 있습니다. 출처: Markt&Technik
저자: Heinz Arnold
발표일: 2017년 7월
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본 주제에 흥미를 가질 수 있습니다.

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