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RF 시스템 솔루션: 최고의 공정 안정성을 위한 매칭 네트워크
RF 시스템 솔루션: 최고의 공정 안정성을 위한 매칭 네트워크
플라즈마 여기
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Match 시리즈 1000(G2/13)

실시간 측정을 통한 스마트 매칭

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    싱글 소스 RF 시스템 솔루션

    TruPlasma Match 시리즈 1000(G2/13)의 새로운 매칭 네트워크는 TRUMPF의 고주파 발진기를 이상적으로 보완합니다. 프로세스 모니터링을 위한 스마트 매칭 알고리즘과 디지털 제어 플랫폼 덕택에 모든 컴포넌트가 최적의 상호 작용을 하는 총체적인 솔루션인 TRUMPF RF 시스템이 만들어집니다.

    스마트 매칭 알고리즘

    까다로운 공정에서도 빠르고 안정적이며 재현 가능한 50 Ohm 임피던스 매칭

    전체 시스템의 최적화된 상호 작용

    발진기와 Matchbox 간의 진보적인 소프트웨어와 향샹된 통신

    고주파 출력 실시간 측정

    Matchbox의 모든 임피던스 변화에서 신속한 시스템 추적

    닫힌 회로

    최적화된 공정 파라미터 모니터링 및 아크 조기 인식

    사용자 친화 프로세스 컨트롤

    그래픽 사용자 인터페이스 및 효율적인 툴(스미스 차트, 실시간 오실로스코프)

    RF 시스템 솔루션: 최고의 공정 안정성을 위한 매칭 네트워크

    반도체, 솔라셀 및 평면 디스플레이 제조

    반도체, 솔라셀 및 평면 디스플레이 제조 시 안정적인 플라즈마 공정이 매우 중요합니다. TruPlasma Match 시리즈 1000(G2/13)의 매칭 네트워크는 TRUMPF 고주파 발진기와 결합하여 최고의 공정 안정성 및 생산성을 위한 총체적인 솔루션을 제공합니다.

    하드 코팅 지원: TruPlasma Match 시리즈 1000 (G2/13)의 Matchbox

    경질 코팅 및 마모 방지 코팅 도포

    기능성 코팅을 도포하는 것을 통해 스트레스가 높은 공작물의 기계적 강도가 증가되고 열 및 화학적 안정성이 개선됩니다. TruPlasma Match 시리즈 1000(G2/13)의 Matchbox는 TRUMPF 고주파 발진기와 결합하여 완벽한 코팅 품질을 보증합니다.

    넓은 코팅면에 이상적으로 적합: TruPlasma Match 시리즈 1000 (G2/13)의 Matchbox

    표면 코팅 및 제거

    TruPlasma Match 시리즈 1000(G2/13) 매칭 네트워크는 표면 코팅 또는 제거를 위한 모든 플라즈마 공정에서 사용될 수 있습니다(예: 플라즈마 에칭, 반응성 이온 에칭, ALD, PECVD, RF 스퍼터링 또는 감광 플라즈마 애싱). TRUMPF 고주파 발진기와 결합하여 최적의 공정 결과를 얻게 됩니다.

    RF 아웃풋        
    전력 출력 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
    정격 출력 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
    출력 주파수 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz
    전원 연결 데이터        
    전원 전압 (±10%) 23.5 V - 24.5 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 23.5 V - 24.5 V
    전원 주파수 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz 50 Hz - 60 Hz
    통신 인터페이스        
    동기 인터페이스
    아날로그/디지털
    RS 232 / RS 485
    PROFIBUS
    EtherCAT
    DeviceNet 아니오 아니오 아니오 아니오
    하우징        
    중량 8 kg 27 kg 30 kg 15 kg
    보호등급 IP 21 21 21 21
    냉각 요건        
    최대 수압 - 6 bar 6 bar -
    최소 차압 - 1.5 bar 1.5 bar -
    최소 유량 - 3.5 l/min 5 l/min -
    냉매 온도 - 10 °C - 30 °C 1 10 °C - 30 °C 1 -
    일반        
    인증서 / 표준 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47
    주변 조건        
    외부온도 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C
    공기습도 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 %
    기압계 압력 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa
    PDF <1MB
    Technical data sheet

    Download the technical data of all product variants.

    고주파 발진기의 최대 출력을 항상 보증

    언제든지 완벽하게 공정 제어

    Matchbox를 통해 임피던스는 언제나 50 Ohm으로 빠르고 직접적으로 정합되므로 프로세스 중 고주파 발진기의 최대 출력이 항상 보증됩니다. Matchbox와 발진기 간의 끊김 없는 통신은 최적의 프로세스 모니터링 및 조기 아크 인식을 가능하도록 합니다.

    사용자 친화적인 TruControl Power 소프트웨어

    파라미터 살펴 보기

    고주파 전력 입출력의 실시간 측정을 통해 역동적인 임피던스가 나타나고 냉각 센서를 통해 손실 전력을 정확하게 예상할 수 있습니다. 복잡한 그래프 옵션이 있는 운영 소프트웨어(스미스 차크, 실시간 오실로스코프)를 통해 언제든지 모든 관련 파라미터를 살펴 볼 수 있습니다.

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort는 Matchbox의 입출력 단에서 직접 RF 신호를 측정하여 제어 가능하게 합니다. RF 발진기에서 모든 측정값을 사용할 수 있습니다. 이를 통해서 공정 파라미터의 모니터링이 향상될 수 있으며, Matchbox가 보호될 수 있으며, 조기 아크 인식을 보장할 수 있습니다. 전체 RF 시스템은 개별적인 발진기 인터페이스를 통해 제어될 수 있습니다.

    다양한 옵션을 통해 TRUMPF RF 시스템을 어플리케이션에 최적으로 조정할 수 있습니다.

    고주파 전류 측정

    플라즈마 이상을 감지하는 초정밀 AC 전류 측정 장치는 프로세스에 근접해 있고 직접 챔버와 연결되어 있는 매칭 네트워크 안에 위치합니다.

    아크 관리

    정밀한 아크 관리는 최선의 플라즈마 공정 컨트롤을 위한 이상적인 모듈입니다. 적합한 아크 인식은 최고의 생산성을 보장하고, 제품 및 설비를 동시에 보호합니다.

    인터페이스

    인터페이스 옵션으로는 아날로그/디지털, 프로피버스 및 EtherCAT이 있습니다. 이더넷, SystemPort 및 RS232/485가 표준입니다.

    사용자 친화적인 TruControl Power 소프트웨어

    TruControl Power

    사용자 친화적인 제어 소프트웨어 TruControl Power를 통해 고주파 발진기 또는 작동 중인 모든 TRUMPF RF 시스템을 간편하게 작동하고 안전하게 모니터링할 수 있습니다.

    사용자 친화적인 TruControl Power 소프트웨어

    그래픽 운영 소프트웨어

    복잡한 그래프를 통해 모든 관련 공정 파라미터를 포괄적으로 제어할 수 있습니다. 부하와 매칭 네트워크 임피던스는 스미스 차트를 통해 시각화되고 주파수 및 위상 위치가 포함된 고주파 전력 입출력은 실시간 오실로스코프를 통해 시각화됩니다.

    고주파 발진기와 매칭 네트워크로 구성된 TRUMPF RF 시스템은 최상의 공정 결과를 위해 완벽하게 상호 작용하는 전체 시스템을 구성합니다.

    사용자 친화적인 TruControl Power 소프트웨어
    그래픽 운영 소프트웨어

    복잡한 그래프를 통해 모든 관련 공정 파라미터를 포괄적으로 제어할 수 있습니다. 부하와 매칭 네트워크 임피던스는 스미스 차트를 통해 시각화되고 주파수 및 위상 위치가 포함된 고주파 전력 입출력은 실시간 오실로스코프를 통해 시각화됩니다.

    중요한 동기 플라즈마 프로세스 안정화를 위한 마스터 오실레이터
    마스터 오실레이터

    마스터 오실레이터는 중요한 동기 플라즈마 프로세스를 안정화시키고 최적화시킵니다. 통합된 디지털 주파수 합성기 및 위상 합성기를 통해 주파수 및 위상의 안정성이 상승하고 위상 위치가 아주 미세하게 증가하도록 설정할 수 있습니다. 주파수 13.56 MHz 및 다양한 주파수 결합에 적합한 다양한 마스터 오실레이터 버전을 선택할 수 있습니다.

    유연한 플라즈마 시스템에서 고주파 발진기 사용을 위한 고주파 전환 장치
    고주파 전환 장치

    고주파 전환 장치를 통해 RF-발진기를 다양한 플라즈마 프로세스 스테이션에서 다목적으로 사용할 수 있습니다(예: 순차 프로세스 전원 공급용 또는 다양한 공급점을 가진 시스템에 사용). 고주파 전환 장치는 2개의 전력 등급 또는 아웃풋 2, 3, 4에서 사용할 수 있습니다.

    특수 출력의 전송을 위한 동축 케이블
    동축 케이블

    고주파 전력 전달을 위해 50 Ohm 시스템 내 가동에 맞게 특수 고안된 TRUMPF Hüttinger 동축 케이블이 제공됩니다.

    발진기와 Matchbox: 완벽하게 상호 조화가 된 시스템 솔루션

    최적의 플라즈마 공정 제어

    플라즈마 공정은 발진기를 통해 전원 공급을 지속적으로 추적해야 하는 복잡하고 가변적인 부하와 같이 작동합니다. 플라즈마 공정은 최적화된 임피던스를 항상 50 Ohm으로 정확하게 조정하는 소위 매칭 Matchbox 라 하는 활성화된 조정 네트워크를 제공합니다. 이렇게 TRUMPF RF 시스템은 완벽한 상호 조화를 이루는 시스템 솔루션입니다. EtherCAT 등의 다양한 인터페이스를 통해 발진기와 MatchBOX는 매우 간단하게 사용자의 프로세스 환경에 통합될 수 있으며, 지능형 발진기 MatchBOX는 연결, 이른바 SystemPort를 통해서 최적화된 시스템 솔루션을 달성합니다.

    국가에 따라 이 제품 분류 및 기재 사항이 다를 수 있습니다. 기술, 사양, 가격 및 액세서리 제공 품목이 변경될 수 있습니다. 귀하의 국가에서 사용할 수 있는 기계에 대해서는 현지 담당자에게 문의하십시오.

    각주
    • 냉각수 온도는 응축수 방지를 위해 실온의 노점보다 높아야 합니다.

    본 주제에 흥미를 가질 수 있습니다.

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    개별적인 고객 교육 프로그램이야 말로 당사의 강점입니다.

    숙련된 서비스 기술자가 참가자의 니즈에 적합하게 구성된 내용의 기본 지식을 전달합니다.

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    Klaus Nock
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