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펄스 직류 플라즈마 발전기 | TRUMPF
Technologiebild DC gepulste Plasmageneratoren

직류 플라즈마 발전기

TRUMPF Hüttinger의 펄스 직류 플라즈마 발진기는 수 많은 반응 공정에서 사용하기에 적합합니다. 예컨대 일반 직류 발진기와 달리 펄스 직류를 통해 산화물과 같은 반도체 또는 부도체 재료를 가공할 수 있습니다. 펄스 발진기는 특히 경질재 코팅 및 반도체 제조에서 에칭 및 코팅 공정에서 자주 사용됩니다.

TruPlasma Highpulse 4000 시리즈 발진기

TruPlasma Highpulse 시리즈 4000 (G2)

TruPlasma Highpulse 시리즈 4000의 (G2) 프로세스 전원 공급 장치는 특히 내부식성 및 내마모성 경질재 코팅을 제공하며 HiPIMS 어플리케이션에 대한 최상의 선택입니다. TruPlasma Highpulse 시리즈 4000(G2)이 분극된 기판과 함께 사용되면, 반도체 분야에 사용될 수 있습니다(예: 에칭, 표면 전처리, 트렌치 필링)

TruPlasma 고펄스 시리즈 4000 발진기

TruPlasma Highpulse 4000 시리즈

TruPlasma 고펄스 4000 시리즈의 발진기는 HIPIMS-어플리케이션을 위한 최상의 선택으로, 부식에 매우 강하고 마모가 적은 경질재 코팅을 제공합니다. TruPlasma 고펄스 4000 시리즈가 분극된 기판과 함께 사용되면, 반도체 어플리케이션에 사용될 수 있습니다(예: 에칭, 표면 전처리, 트렌치 필링)

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma 직류 시리즈 4000 (G2)

TruPlasma DC 4000 (G2) 시리즈는 TRUMPF Hüttinger의 탁월한 아크 처리를 직류 펄스 테크놀로지의 장점과 결합시켰습니다. 이렇게 이 시리즈는 증착율을 증대하면서 결함이 적은 향상된 코팅 결과를 달성했습니다. 결과는 우수한 표면과 높은 생산 출력입니다.

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