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플라즈마 발전기 | TRUMPF
DC 플라즈마 발전기 기술도

플라즈마 발전기

TRUMPF Hüttinger의 플라즈마 발전기는 많은 하이테크 산업에 필수적인 프로세스 에너지를 공급하고 이를 통해 태양전지와 마이크로 칩, 건축물 유리의 큰 면적의 기능성 코팅을 가능하게 해주며 반도체 부품과 평면 화면의 제조도 가능하게 합니다. 탁월한 정밀성, 높은 에너지 효율성, 그리고 뛰어난 프로세스 안정성 더군에 이 발전기는 시장에서 선도적인 위치를 차지하고 있습니다.

중간 포맷 플라즈마 발전기

탁월한 정밀성과 생산성 덕분에 플라즈마 여기에서의 다양한 어플리케이션에 대한 이상적인 솔루션을 제공합니다.

펄스 DC 플라즈마 발진기

TRUMPF Hüttinger의 펄스 DC 플라즈마 발진기는 수많은 반응 공정에 사용하기에 적합한 제품입니다.

직류 플라즈마 발전기

TRUMPF Hüttinger의 직류 발진기는 DC 플라즈마 여기의 대표적인 제품입니다.

HF 플라즈마 발전기

반도체 부품, 마이크로 칩, 태양 전지 또는 평면 화면과 같이 복잡한 어플리케이션에 가장 적합한 사양입니다.

중간 포맷 플라즈마 발전기

바이폴라 발진기 TruPlasma Bipolar 4040

TruPlasma Bipolar 4000 시리즈(G2.1)

유연한 출력 신호와 정교한 아크 관리 기능을 갖춘 TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) 프로세스 전원 공급 장치는 반도체 및 솔라셀 제조, 장식 및 내마모 코팅, 건축용 유리 코팅 분야에서 우수한 결과를 제공합니다. 차세대 발진기는 반응 스퍼터링, PVD 및 PECVD와 같은 까다로운 플라즈마 프로세스에 적합합니다.

TruPlasma MF 7000(G2) 시리즈

TruPlasma MF 7000(G2) 시리즈

MF 발진기 TruPlasma MF 7000(G2) 시리즈는 항상 완전한 프로세스 제어가 가능합니다. 그 덕분에 면적이 큰 까다로운 코팅 작업 시에도 탁월한 품질 및 최고의 생산성을 제공합니다. 90 % 이상의 피크 효율을 바탕으로 이 최신 전원 공급장치는 매우 경제적으로 작동합니다.

펄스 DC 플라즈마 발진기

TruPlasma Highpulse 4000 시리즈 발진기

TruPlasma Highpulse 시리즈 4000 (G2)

TruPlasma Highpulse 시리즈 4000의 (G2) 프로세스 전원 공급 장치는 특히 내부식성 및 내마모성 경질재 코팅을 제공하며 HiPIMS 어플리케이션에 대한 최상의 선택입니다. TruPlasma Highpulse 시리즈 4000(G2)이 분극된 기판과 함께 사용되면, 반도체 분야에 사용될 수 있습니다(예: 에칭, 표면 전처리, 트렌치 필링)

TruPlasma 고펄스 시리즈 4000 발진기

TruPlasma Highpulse 4000 시리즈

TruPlasma 고펄스 4000 시리즈의 발진기는 HIPIMS-어플리케이션을 위한 최상의 선택으로, 부식에 매우 강하고 마모가 적은 경질재 코팅을 제공합니다. TruPlasma 고펄스 4000 시리즈가 분극된 기판과 함께 사용되면, 반도체 어플리케이션에 사용될 수 있습니다(예: 에칭, 표면 전처리, 트렌치 필링)

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma 직류 시리즈 4000 (G2)

TruPlasma DC 4000 (G2) 시리즈는 TRUMPF Hüttinger의 탁월한 아크 처리를 직류 펄스 테크놀로지의 장점과 결합시켰습니다. 이렇게 이 시리즈는 증착율을 증대하면서 결함이 적은 향상된 코팅 결과를 달성했습니다. 결과는 우수한 표면과 높은 생산 출력입니다.

직류 플라즈마 발전기

TruPlasma DC 3040 직류 발진기

TruPlasma 직류 시리즈 3000 (G2)

차세대 직류 발진기인 TruPlasma DC 3000 (G2) 은 다양한 DC 스퍼터링 프로세스에 적합합니다. 진화된 아크 관리 및 내장된 워터 쿨링 덕분에 이 직류 발진기는 펄스 직류 발진기의 경제적인 대안으로 관심을 받습니다. 이외에도 매우 컴팩트한 구조는 기존 어플리케이션에 간단하게 통합될 수 있도록 합니다.

TruPlasma Arc 시리즈 3000의 Arc 발진기

TruPlasma Arc 시리즈 3000

TruPlasma Arc 시리즈 3000 발진기는 메인 코팅 및 장식용 코팅에서 특히 빛이 납니다. 컴팩트한 구조와 에어 쿨링을 통해 귀중한 사용 공간을 확실히 최적으로 이용할 수 있고 새로운 시스템 또는 기존 시스템과의 통합을 쉽게 할 수 있습니다.

RF 플라즈마 발전기

TruPlasma RF Air 1000 시리즈

공랭식의 고주파 발진기 TruPlasma RF 1001 Air는 매우 정교한 분해능(100 mW 단위)을 통해 정확하고, 재생산 가능한 HF 에너지를 제공합니다(최대 1000 Watt까지). 그렇기 때문에 다양한 플라즈마 어플리케이션에 적합합니다. 반도체 제조, 솔라셀 제조, 디스플레이 제조, 그 어떠한 제조에서도 – 특허를 받은 TRUMPF Hüttinger 테크놀로지는 최신식의 공정 기능 덕분에 최고의 가용성과 최적의 공정 결과를 보장합니다.

TruPlasma RF 3006 고주파 발진기

TruPlasma RF 1000 / 3000 시리즈 (G2/13)

TruPlasma RF 1000 / 3000 시리즈(G2/13)는 최신 고주파 발진기입니다. 특허 받은 CombineLine 커플링 테크놀로지 또는 모든 공정 파라미터의 실시간 측정과 같은 혁신적인 기능 덕분에 까다로운 플라즈마 공정에서도 안전한 전원 공급이 보장되는데, 이는 재현 가능한 결과 및 높은 생산성을 위한 최적화된 전제조건입니다.

TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006 고주파 발진기

TruPlasma RF 3000 시리즈

TruPlasma RF 3000시리즈의 고성능 고주파 발진기는 최고의 효율성 및 공정 안정성이 특징입니다. 이 발진기는 평면 디스플레이, 솔라셀 또는 반도체 제조 등에 사용되며 까다로운 플라즈마 프로세스에 매우 이상적입니다. 임피던스 조정을 위해 발진기와 정확하게 상호 조화를 이루는 Matchbox는항상 발진기로부터 플라즈마로 안정적이면서 최적으로 출력을 전송할 수 있도록 합니다.

VHF 발진기 시리즈 3000

TruPlasma VHF 시리즈 3000

귀하의 프로세스를 위한 최고 성능: TruPlasma VHF 시리즈 3000은 매우 까다로운 프로세스 요건 조차도 충족시킬 수 있는 혁신적인 플랫폼 컨셉에 기반을 두고 있습니다. VHF 발진기의 순수 수냉식 모듈 구조는 최대 80 kW의 전력 출력 스케일링을 매우 작은 공간에서 가능하게 합니다!

RF 시스템 솔루션: 최고의 공정 안정성을 위한 Matchbox

TruPlasma Match 시리즈 1000(G2/13)

플라즈마 프로세스의 최적화된 가이드를 위해서는 고주파 발진기의 출력 임피던스를 정확하게 조정하는 것이 중요합니다. TruPlasma Match 시리즈 1000(G2/13)의 Matchbox는발진기와 프로세스 사이의 연결요소로서 이를 실행합니다. 이러한 방식으로 TRUMPF RF 시스템은 귀사의 프로세스 전원 공급을 위한 총체적인 솔루션이 됩니다.

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