뛰어난 공정 결과 보장
고주파 발진기를 사용하여 안전책을 강구할 수 있습니다. TruPlasma RF 3000 시리즈는 견고한 구조와 고효율을 특징으로 합니다. 따라서 평면 디스플레이, 솔라셀 또는 반도체 제조 등에 사용되는 바와 같이 안정적이고 재현 가능한 플라즈마 프로세스에 가장 적합합니다. 이 발진기는 전세계에 설치된 수 천개의 어플리케이션에서 높은 생산성과 놀라운 공정 결과를 보증합니다.
최대 80 %의 에너지 효율로 인하여 비용을 최대 50 %까지 절감할 수 있습니다.
까다로운 요건 및 새로운 방식의 프로세스 역시 안전하게 가이드
CombineLine 테크놀로지: 불일치 시 반사된 출력으로부터 안전하게 보호.
연속 전원 출력 또는 펄스 전원 출력을 선택할 수 있어서 매우 다양하게 사용될 수 있습니다.
에칭 및 코팅 프로세스
TruPlasma RF 시리즈 3000 고주파 발진기는 특히 에칭 및 코팅 공정에 적합합니다(예: 플라즈마 에칭, 반응성 이온 에칭, ALD 및 PECVD).
금속 가공품 코팅
예를 들어, 마모 방지 코팅으로 금속 가공품을 코팅하거나 플라즈마 에칭 또는 포토 레지스터의 플라즈마 애싱을 이용해 전자 부품을 구조화시키는 것과 같이 플라즈마 프로세스를 통해 재료를 표면에 도포하거나 제거할 수 있습니다.
평면 디스플레이와 솔라셀 코팅
TruPlasma RF 3000 시리즈의 RF-발진기는 RIE, ALD, PECVD 및 RF 스퍼터링과 같은 플라즈마 프로세스에 매우 적합합니다. 본 프로세스는 특히 평면 스크린 및 솔라셀 코팅 시에 사용됩니다.
|
TruPlasma RF 3012
|
TruPlasma RF 3020
|
TruPlasma RF 3024
|
|
|---|---|---|---|
| RF 아웃풋 | |||
| 전력 출력 | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
| 정격 출력 | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
| 정격 부하 임피던스 | 50 Ω | 50 Ω | 50 Ω |
| 출력 주파수 | 13.56 MHz | 13.56 MHz | 13.56 MHz |
| 전원 연결 데이터 | |||
| 전원 전압 | 400 - 480 V | 400 - 480 V | 400 - 480 V |
| 전원 주파수 | 50-60 Hz | 50-60 Hz | 50-60 Hz |
| 정격 소비전력 | 16.6 kVA | 28.1 kVA | 33.3 kVA |
| 출력 계수 | 0.93 | 0.93 | 0.93 |
| 통신 인터페이스 | |||
| 동기 인터페이스 | 예 | 예 | 예 |
| 아날로그/디지털 | 예 | 예 | 예 |
| RS 232 / RS 485 | 예 | 예 | 예 |
| PROFIBUS | 예 | 예 | 예 |
| EtherCAT | 예 | 예 | 예 |
| DeviceNet | 예 | 예 | 예 |
| 하우징 | |||
| 중량 | 57 kg | 117 kg | 117 kg |
| 보호등급 IP | 20 | 20 | 20 |
| 냉각 요건 | |||
| 최대 수압 | 7 bar | 7 bar | 7 bar |
| 최소 차압 | 2 bar | 2 bar | 2 bar |
| 최소 유량 | 10 l/min | 20 l/min | 20 l/min |
| 냉매 온도 | 5 °C - 35 °C 1 | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C 1 |
| 일반 | |||
| 총효율 | 78 % | 75 % | 75 % |
| 인증서 / 표준 | SEMI F47,CE, RoHs | SEMI F47,CE, RoHs | SEMI F47,CE, RoHs |
| 주변 조건 | |||
| 외부온도 | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C |
| 공기습도 | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
| 기압계 압력 | 79.5 kPa - 106 kPa | 79.5 kPa - 106 kPa | 79.5 kPa - 106 kPa |
모든 제품군에 대한 기술 데이터 다운로드
높은 효율과 공정 안정성
손실 전력의 반감과 뛰어난 효율에 따른 냉각수 비용의 저하를 통해 가동 비용이 최소화됩니다. 매우 견고한 발진기의 구조를 통해 어려운 공정에서도 더욱 긴 시간 동안 작동할 수 있으므로 코팅율이 더욱 상승합니다. True 50 Ohm 출력 임피던스를 통한 CombineLine 테크놀로지로 플라즈마 변동을 효과적으로 방지하기 때문에 완전히 안정적인 프로세스를 실행할 수 있습니다.
절대적인 안전
견고한 구조는 귀사의 프로세스에 최대 신뢰성 및 생산성을 제공합니다. 100 % 불균형 보호를 통해 위험 하중에서도 안전하게 가동될 수 있습니다. 연속 전원 출력 또는 펄스 전원 출력을 선택할 수 있어 공정 요건의 폭 넓은 값 범위를 지원합니다. 세계적으로 이미 20,000대 이상의 유닛이 설치되었습니다. 이는 다른 플라즈마 전원 공급 장치를 넘어서는 수치입니다.
TRUMPF SystemPort
SystemPort는 Matchbox의 입출력 단에서 직접적인 RF 신호 측정을 통해 하나의 제어 시스템을 가능하게 합니다. RF 발진기에서 모든 측정값을 사용할 수 있습니다. 이를 통해서 공정 파라미터의 모니터링이 향상될 수 있으며, Matchbox가 보호될 수 있으며, 조기 아크 인식을 보장할 수 있습니다. 전체 RF 시스템은 개별적인 발진기 인터페이스를 통해 제어될 수 있습니다.
다양한 옵션을 통해 사용 시 RH 발진기를 최적으로 조정할 수 있습니다.
정밀한 아크 관리는 최선의 플라즈마 프로세스 컨트롤을 위한 이상적인 모듈입니다. 아크 인식은 최고의 생산성을 보장하며, 제품 및 설비를 동시에 보호합니다.
TruControl Power
사용자 친화적인 제어 소프트웨어 TruControl Power를 통해 고주파 발진기 또는 작동 중인 모든 TRUMPF RF 시스템을 간편하게 작동하고 안전하게 모니터링할 수 있습니다.
TRUMPF RF 시스템의 모든 컴포넌트는 이상적인 상호 조화를 이룹니다.
TruPlasma Match 매칭 네트워크를 통해 발진기로부터 플라즈마 방전으로 전력을 최적으로 전송할 수 있습니다. 매칭 네트워크 운전은 독립적이거나 지능형 발진기 매칭 네트워크 연결, 이른바 SystemPort를 통해 진행할 수 있습니다
마스터 오실레이터는 중요한 동기 플라즈마 프로세스를 안정화시키고 최적화시킵니다. 통합된 디지털 주파수 합성기 및 위상 합성기를 통해 주파수 및 위상의 안정성이 상승하고 위상 위치가 아주 미세하게 증가하도록 설정할 수 있습니다. 주파수 13.56 MHz 및 다양한 주파수 결합에 적합한 다양한 마스터 오실레이터 버전을 선택할 수 있습니다.
고주파 전환 장치를 통해 RF-발진기를 다양한 플라즈마 프로세스 스테이션에서 다목적으로 사용할 수 있습니다(예: 순차 프로세스 전원 공급용 또는 다양한 공급점을 가진 시스템에 사용). 고주파 전환 장치는 2개의 전력 등급 또는 아웃풋 2, 3, 4에서 사용할 수 있습니다.
고주파 전력 전달을 위해 50 Ohm 시스템 내 가동에 맞게 특수 고안된 TRUMPF Hüttinger 동축 케이블이 제공됩니다.
완벽한 상호 조화: 발진기와 매칭 네트워크
플라즈마 공정은 발진기를 통해 전원 공급을 지속적으로 추적해야 하는 복잡하고 가변적인 부하와 같이 작동합니다. 플라즈마 공정은 최적화된 임피던스를 항상 50 Ohm으로 정확하게 조정하는 소위 매칭 네트워크라 하는 활성화된 조정 네트워크를 제공합니다. 이렇게 TRUMPF RF 시스템은 완벽한 상호 조화를 이루는 시스템 솔루션입니다. 특히 EtherCAT과 같은 다양한 인터페이스를 통해 발진기와 매치 박스는 매우 간단하게 사용자의 프로세스 환경에 통합될 수 있으며, 지능형 발진기 매칭 네트워크 연결, 이른바 SystemPort를 통해서 최적화된 시스템 솔루션을 달성합니다.
국가에 따라 이 제품 분류 및 기재 사항이 다를 수 있습니다. 기술, 사양, 가격 및 액세서리 제공 품목이 변경될 수 있습니다. 제품이 귀하의 국가에서 사용 가능한지에 대한 여부는 현지 담당자에게 문의하십시오.
각주-
냉각수 온도는 응축수 방지를 위해 실온의 노점보다 높아야 합니다.
