Voor het beschikbaar stellen van deze website en de goede werking ervan maken we gebruik van cookies. Indien we cookies ook voor andere doeleinden mogen gebruiken, klik dan hier. Informatie over het deactiveren van cookies en gegevensbescherming
HF-generator TruPlasma RF 3006
HF-generator TruPlasma RF 3006
Plasma-opwekkingen
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF-serie 1000 / 3000 (G2/13)

Stabiele processen voor de hoogste productiviteit

HF-generatoren van de nieuwste generatie

Bij de coating of structurering van oppervlakken is een stabiele en reproduceerbare plasmastroomtoevoer van essentieel belang. Hiervoor bieden de met moderne vermogenselektronica uitgevoerde HF-generatoren van de TruPlasma RF-serie 1000 / 3000 (G2/13) de beste voorwaarden: dankzij hun stabiele uitgangsvermogen en hoge regelnauwkeurigheid verzekeren ze u van de beste resultaten bij een hoge productiviteit.

Hoge nauwkeurigheid en reproduceerbaarheid

CombineLine-technologie: optimale procesprestaties dankzij een echte 50 ohm-uitgangsimpedantie.

Onafhankelijkheid van de HF-kabellengte

Geen aanpassing van de kabellengte meer nodig – een absolute noviteit op het gebied van hoogfrequentie!

Robuustheid en veiligheid

CombineLine-technologie: betrouwbare bescherming tegen gereflecteerd vermogen bij slechte aanpassingen.

Efficiëntie en zuinigheid

Rendementen tot 80% maken een verlaging van de energiekosten met max. 50% mogelijk.

Ventilatorloos koelconcept

Geen verwarming of verontreiniging van de omgevingslucht, waardoor gebruik in een cleanroom mogelijk is.

HF-generator TruPlasma RF 3006

Ideaal voor het coaten van flatscreens

De HF-generatoren uit de TruPlasma-serie RF 1000 / 3000 (G2/13) zijn ideaal voor plasmaprocessen zoals RIE, ALD, PECVD en RF-sputteren. Deze processen worden onder andere gebruikt bij de productie van halfgeleidercomponenten en micromechanische systemen (MEMS) en bij de coating van flatscreens en zonnecellen.

Fabricage van zonnecellen

Typisch toepassingsgebied: de zonne-industrie

Typische toepassingsgebieden van de TruPlasma RF-serie 1000 / 3000 (G2/13) zijn veeleisende PECVD-, ets- en HF-sputterprocessen bij de productie van zonnecellen.

Uitermate geschikt voor ets- en coatingprocessen

Halfgeleiderproductie

Bij de productie van halfgeleiders worden verschillende plasmaprocessen gebruikt, van afneemprocessen en droogetsen tot vloeibarezonesmeltprocessen bij de productie van zuiver silicium. De generatoren uit de TruPlasma RF-serie 1000 / 3000 (G2/13) bieden alle voorwaarden voor een stabiele en optimaal aan het betreffende proces aangepaste stroomtoevoer, zodat u uitstekende, reproduceerbare resultaten bereikt.

- / -
TruPlasma RF 1002
TruPlasma RF 1003
TruPlasma RF 3006
RF uitgang      
Uitgangsvermogen 2 kW 3 kW 6 kW
Nominaal vermogen 2 kW 3 kW 6 kW
Nominale lastimpedantie 50 Ω 50 Ω 50 Ω
Uitgangsfrequentie 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Netaansluitgegevens      
Netspanning 200 - 480 V 200 - 480 V 200 - 480 V
Netfrequentie 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz
Opnamevermogen net 3,1 kVA 4,3 kVA 7,9 kVA
Vermogensfactor 0,95 0,95 0,95
Communicatie-interfaces      
Sync interfaces Ja Ja Ja
Analoog/digitaal Ja Ja Ja
RS 232/RS 485 Ja Ja Ja
PROFIBUS Ja Ja Ja
EtherCAT Ja Ja Ja
DeviceNet Ja Ja Ja
Behuizing      
Gewicht 18 kg 18 kg 38 kg
Beschermingsgraad IP 30 30 30
Koelingsvereisten      
Max. waterdruk 7 bar 7 bar 7 bar
Min. drukverschil 1,1 bar 1,1 bar 1,1 bar
Min. doorstroomhoeveelheid 4 l/min 4 l/min 8 l/min
Temperatuur koelmiddel 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1
Algemeen      
Totaal rendement 80 % 80 % 80 %
Certificaten/standaards Semi S2, SEMI F47, UL, CSA, CE, RoHs Semi S2, SEMI F47, UL, CSA, CE, RoHs Semi S2, SEMI F47, UL, CSA, CE, RoHs
Omgevingsvoorwaarden      
Buitentemperatuur 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
Luchtvochtigheid 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
Barometrische druk 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa
PDF <1MB
Technisch informatieblad

De technische gegevens van alle productvarianten als download.

Geïntegreerde CombineLine-technologie

Optimale aanpassing aan uw proces

Het efficiënte realtime matchen van de TruPlasma RF-serie 1000 / 3000 (G2/13) zorgt voor een snelle en directe impedantie-aanpassing aan 50 Ohm. Plasmaschommelingen en verontreinigingen worden door de gepatenteerde CombineLine-technologie op betrouwbare wijze voorkomen, het ventilatorloze koelconcept verlaagt het uitvalpercentage, verhoogt de efficiëntie en maakt gebruik in cleanrooms mogelijk.

HF-generator voor parallelle trillingskringen

Maximale efficiëntie en flexibiliteit

Dankzij het hoge rendement van max. 80% dalen uw energiekosten in vergelijking met traditionele generatoren met max. 50%. De talrijke beschikbare interfaces (configureerbare analoge interface, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) vereenvoudigen de integratie in bestaande installaties, technische aanpassingen zijn dankzij de geïntegreerde wereldstekkers (200 - 480 VAC) niet nodig. De ondanks de hoge energiedichtheid compacte bouwvorm (19 inch- of ½-19 inch-insteekeenheid) maakt plaatsbesparende integratie in elke productie-installatie mogelijk.

TruPlasma RF_Systemport

TRUMPF SystemPort

De SystemPort maakt een gesloten regelcircuit mogelijk door het meten van het RF-signaal rechtstreeks op de in- en uitgang van het aanpassingsnetwerk. Voor de RF-generator zijn alle meetwaarden beschikbaar. Daardoor kunnen procesparameters beter worden bewaakt, het aanpassingsnetwerk worden beschermd en een tijdige vlamboogherkenning worden gewaarborgd. Het volledige RF-systeem kan daardoor via een enkele generatorinterface worden bediend.

Verschillende opties maken een optimale aanpassing van de HF-generator aan uw toepassing mogelijk.

HF-vlamboogbeheer

Het doordachte vlamboogbeheer is de ideale module voor de beste controle van het plasmaproces. Een gerichte vlamboogherkenning garandeert de beste productiviteit en beschermt tegelijkertijd het product en de installatie.

Auto frequency tuning

De gepatenteerde oplossing Auto Frequency Tuning maakt een gelijktijdige en snelle frequentieaanpassing mogelijk en garandeert een optimaal samenspel tussen generator en aanpassingsnetwerk. Door deze gepatenteerde techniek vormt een plaatselijk minimum geen hindernis meer: het RF-systeem wordt optimaal gehouden en maakt daardoor de beste procesresultaten en een hoge reproduceerbaarheid mogelijk.

Alle componenten van het TRUMPF-RF-systeem zijn optimaal op elkaar afgestemd.

RF-systeemoplossing: aanpassingsnetwerk voor optimale processtabiliteit
Aanpassingsnetwerk van de TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

TruPlasma Match-aanpassingsnetwerken zorgen voor een optimale vermogensoverdracht van de generator naar de plasmaontlading. Het gebruik van het aanpassingsnetwerk kan zelfstandig of via een slimme verbinding tussen generator en aanpassingsnetwerk, de zogenaamde SystemPort, plaatsvinden.

Masteroscillator voor stabilisatie van kritische synchrone plasmaprocessen
Masteroscillatoren

Met behulp van masteroscillatoren kunnen kritische synchrone plasmaprocessen worden gestabiliseerd en geoptimaliseerd. Een geïntegreerde digitale frequentie- en fasesynthesizer zorgt voor een hoge frequentie- en fasestabiliteit en maakt het instellen van de faseverhouding met een heel klein increment mogelijk. Voor de frequentie 13,56 MHz en voor verschillende combinaties van frequenties kan worden gekozen uit verschillende uitvoeringen van de masteroscillator.

HF-omschakelaars voor het gebruik van een HF-generator bij flexibele plasmasystemen
HF-omschakelaars

Een HF-omschakelaar maakt het meervoudig gebruik van een HF-generator voor verschillende plasmaprocesstations mogelijk, bijvoorbeeld voor de stroomtoevoer van sequentiële processen of voor systemen met verschillende toegangspunten. Er zijn verschillende HF-shifts in twee vermogensklassen en met 2, 3 of 4 uitgangen beschikbaar.

Coaxkabels voor overdracht van het gespecificeerde vermogen
Coaxkabels

Voor de HF-vermogensoverdracht biedt TRUMPF Hüttinger-coaxkabels aan, die speciaal zijn ontwikkeld voor gebruik in 50 Ohm-systemen.

Generator en aanpassingsnetwerk: een perfect op elkaar afgestemde systeemoplossing

Perfect op elkaar afgestemd: het TRUMPF-RF-systeem

Plasmaprocessen gedragen zich als een complexe, variabele belasting die constant moet worden gevoed door de generator. Hier zorgen actieve aanpassingsnetwerken voor, die op elk moment een nauwkeurige aanpassing aan de optimale impedantie van 50 Ohm waarborgen. Zo ontstaat een perfect op elkaar afgestemde systeemoplossing; het TRUMPF RF-systeem. Via diverse interfaces, waaronder EtherCAT, kunt u de generator en het aanpassingsnetwerk heel eenvoudig in uw bestaande procesomgeving integreren en door een intelligente verbinding tussen generator en aanpassingsnetwerken, de zgn. SystemPort, bereikt u een optimale systeemoplossing.

Afhankelijk van het land kunnen het productaanbod en deze gegevens afwijken. Wijzigingen in techniek, uitvoering, prijs en aanbod van accessoires voorbehouden. Neem contact op met uw contactpersoon ter plaatse om te vragen of het product in uw land verkrijgbaar is.

Voetnoten
  • De koelwatertemperatuur moet het dauwpunt van de kamertemperatuur overschrijden om condensatie te voorkomen.

Deze onderwerpen vindt u misschien ook interessant

Contact

Klaus Nock
Verkoop plasma
Fax +49 761 89711150
E-mail

Downloads

Brochure TruPlasma RF Serie 1000 3000
Brochure TruPlasma RF Serie 1000 3000
pdf - 337 KB
Brochure TruPlasma RF-systeem
pdf - 6 MB
Service & contact

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Netherlands . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Netherlands
United States

Or select a country or region.