HF-Generatoren der neuen Generation
Bei der Beschichtung oder Strukturierung von Oberflächen kommt es entscheidend auf eine stabile und reproduzierbare Plasmastromversorgung an. Hierfür bieten die mit moderner Leistungselektronik ausgestatteten HF-Generatoren der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) die besten Voraussetzungen: Dank ihrer stabilen Ausgangsleistung und hohen Regelgenauigkeit sichern sie Ihnen beste Ergebnisse bei zugleich hoher Produktivität.
CombineLine-Technologie: optimale Prozessleistung dank echter 50-Ohm-Ausgangsimpedanz.
Keine Kabellängenanpassung mehr notwendig – ein absolutes Novum im HF-Bereich!
CombineLine-Technologie: zuverlässiger Schutz gegen reflektierte Leistung bei Fehlanpassung.
Wirkungsgrade bis zu 80 % ermöglichen eine Reduktion der Energiekosten um bis zu 50 %.
Keine Erwärmung oder Verunreinigung der Umgebungsluft, daher Betrieb im Reinraum möglich.
Ideal zur Beschichtung von Flachbildschirmen
Die HF-Generatoren der TruPlasma Serie RF 1000 / 3000 (G2/13) eignen sich ideal für Plasmaprozesse wie RIE, ALD, PECVD und RF-Sputtern. Diese Verfahren kommen unter anderem bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und mikromechanischen Systemen (MEMS) sowie bei der Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen zur Anwendung.
Typisches Anwendungsgebiet: die Solarindustrie
Typische Anwendungsgebiete der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) sind anspruchsvolle PECVD-, Ätz- und HF-Sputterprozesse in der Solarindustrie.
Halbleiterherstellung
Bei der Herstellung von Halbleitern kommen unterschiedliche Plasmaprozesse zum Einsatz, von Abtragungsprozessen durch Trockenätzen bis zum Zonenziehen bei der Herstellung von Reinsilizium. Die Generatoren der TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) bieten alle Voraussetzungen für eine stabile und optimal an den jeweiligen Prozess angepasste Stromversorgung, sodass Sie exzellente, reproduzierbare Ergebnisse erzielen.
Alle Komponenten des TRUMPF RF-Systems sind optimal aufeinander abgestimmt.
Perfekt aufeinander abgestimmt: das TRUMPF RF-System
Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.
Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.
