Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookies. Jeśli osoba odwiedzająca stronę korzysta z niej nadal bez dokonywania zmian w ustawieniach w plikach cookies, zakładamy, że wyraża ona zgodę na stosowanie tych plików.
Visual Elektronik

Elektronika

Szybsze, mniejsze, wydajniejsze: postęp w mikroelektronice jest ściśle sprzęgnięty z techniką laserową.

Utrzymujący się trend miniaturyzacji i produkowania bardzo dużych ilości sztuk to dwie z najważniejszych specyficznych cech przemysłu elektronicznego. Dzięki nieosiągalnej dotąd dokładności i możliwości automatyzacji technika laserowa proponuje przemysłowe rozwiązania odpowiadające tym wyzwaniom. Lasery firmy TRUMPF odgrywają elementarną rolę w produkcji układów scalonych komputerowych najnowszej generacji. Dodatkowo laser umożliwia cały szereg innych etapów procesu, jak cięcie i wiercenie wafli krzemowych, obwodów drukowanych lub całych modułów elektronicznych. Oprócz tego zasilacze marki TRUMPF Hüttinger niezawodnie i precyzyjnie dostarczają energię procesową do procesów powlekania i wytrawiania w produkcji wafli krzemowych.

Wysokowydajne układy scalone przyszłości

TruFlow Laser-Amplifier für EUV-Anwendungen

Powstanie mikroelektroniki a więc podstawy naszych dzisiejszych komputerów i smartfonów byłoby nie do pomyślenia bez techniki laserowej. układy scalone z układami logicznymi i pamięcią posiadają struktury mierzone w nanometrach i mogą być wytwarzane tylko w drodze skomplikowanych procesów naświetlania promieniowaniem laserowym. Konwencjonalna metoda z ultrafioletowym promieniowaniem laserowym z laserów ekscymerowych coraz częściej okazuje się już niewystarczająca. Mniejsze struktury będzie można generować w przyszłości tylko z użyciem jeszcze krótszych długości fal w zakresie skrajnego ultrafioletu (EUV). Aby wygenerować takie promieniowanie, konieczny jest jednak innowacyjny proces, w którym wysokowydajne lasery CO2 będą ostrzeliwały mikroskopijne kropelki cyny, wytwarzając w ten sposób świecącą plazmę. Część promieniowania plazmowego, o długości fali 13,5 nm, będzie można wykorzystać do naświetlania układów scalonych: litografia EUV. Razem z największym producentem systemów litograficznych ASML oraz specjalistą w dziedzinie układów optycznych Zeiss firma TRUMPF podczas wieloletniej i intensywnej współpracy opracowała unikalny w skali światowej system laserowy CO2. Ponadto produkty marki TRUMPF są używane w procesach powlekania i trawienia w produkcji wafli krzemowych. Dlatego w przyszłości w wielu wysokowydajnych układach scalonych będzie tkwił kawałek technologii TRUMPF.

Precyzyjna obróbka na zimno układów scalonych, obudów obwodów drukowanych i obwodów drukowanych

Laserbohren einer Leiterplatte mit einem Laser der TruMicro Serie 5000.

Kolejnym, po naświetlaniu i budowie układów połączeń na waflach krzemowych, wyzwaniem dla łańcucha procesów elektronicznych, jest rozdzielanie na osobne układy scalone. Aby uzyskać jak najmniejsze szczeliny cięć i wysoką jakość krawędzi oraz nie uszkodzić wrażliwych układów scalonych pod wpływem wysokich temperatur, przy rozdzielaniu używa się laserów TRUMPF o ultrakrótkich impulsach. Umożliwiają one obróbkę materiału bez niepożądanego wpływu ciepła oraz najwyższą dokładność obróbki laserowej. Te lasery nadają się też do okrawania laserowego wrażliwych modułów (System-in-Package), obróbki wielomateriałowych obwodów drukowanych oraz wiercenia tak zwanych mikrootworów w krzemie i szkle. Ponadto branża wykorzystuje lasery firmy TRUMPF do kontrolowanego zdejmowania warstw, cięcia folii oraz opisywania.

Hodowla kryształów

Zone Floating Process

Syntetyczna produkcja kryształów jest podstawą przemysłu półprzewodnikowego – a zatem bazą całej techniki komunikacyjnej i multimedialnej. Warstwy monokrystaliczne wyrastają przy tym na monokrystalicznych podłożach tego samego materiału, zachowując identyczny porządek krystalograficzny. Proces jest wykorzystywany między innymi w produkcji diod świetlnych. Zasilacze indukcyjne marki TRUMPF Hüttinger umożliwiają jednorodny i stabilny rozdział temperatury dzięki szybkiej i precyzyjnej regulacji wielkości wyjściowych.

Kontakt

Serwis i kontakt