Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookies. Jeśli osoba odwiedzająca stronę korzysta z niej nadal bez dokonywania zmian w ustawieniach w plikach cookies, zakładamy, że wyraża ona zgodę na stosowanie tych plików.
Zasilacz Bias ze stabilnym napięciem i szybkim systemem detekcji łuków
Zasilacz Bias ze stabilnym napięciem i szybkim systemem detekcji łuków
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bias Seria 3000

Stabilny i wszechstronny

    - / -
    • Przegląd
    • Zastosowania
    • Korzyści dla klienta
    • Oprogramowanie
    • Więcej Mniej
    Uniwersalne zasilacze do procesów rozpylania magnetronowego

    Zasilacze TruPlasma Bias Serii 3000 wspierają procesy nanoszenia powłok optycznych i metalicznych, używanych na przykład w przemyśle półprzewodnikowym czy utwardzania powierzchni materiałów. Ponadto nadają się do wszystkich zastosowań o podobnych wymaganiach dla wartości napięcia i prądu.

    Tryb wysokiego i niskiego napięcia

    1200 V dla procesów wytrawiania podłoża,
    300 V dla procesów powlekania z zastosowaniem polaryzacji podłoża (Bias).

    Szybki system detekcji łuków

    Bardzo niska energia resztkowa łuku, a dzięki temu mniejsze uszkodzenia podłoża i stabilniejsze procesy.

    Stabilne i powtarzalne wyniki procesu

    Wyjątkowa dokładność dzięki nowoczesnej technologii DSP i analizie sygnału FPGA.

    Idealne do pokrywania dużych powierzchni

    Powłoka dekoracyjna

    Powlekanie dużych powierzchni w procesie plazmowym stawia szczególnie wysokie wymogi względem mocy procesowej. Zasilacze TruPlasma Bias Serii 3000 spełniają wszystkie wymagania dla stabilnego i optymalnego w każdych warunkach procesowych zasilania prądowego. Pozwala to uzyskać doskonałe, powtarzalne wyniki.

    Idealne do procesów wytrawiania i powlekania

    Technologia półprzewodnikowa

    Zasilacze TruPlasma Bias Serii 3000 znajdują zastosowanie we wszystkich krytycznych procesach PVD i PECVD, zapewniając stabilne zasilanie prądowe. Optymalne dostosowanie do danego procesu pozwala uzyskać doskonałe, powtarzalne wyniki.

    Generator TruPlasma Bias serii 3000 w użyciu

    Zapewnia konsekwentnie dobre warunki procesowe

    Specjalna konstrukcja zasilania i sterowania zapewnia stabilność napięcia, co ma kluczowe znaczenie dla jakości powierzchni i stabilnego procesu. Zaprojektowany w technologii DSP i wyposażony w analizę sygnału FPGA, TruPlasma Bias Serii 3000 posiada nowoczesny system detekcji łuków, który gwarantuje niespotykaną dokładność i powtarzalność pracy. Imponujące wartości obu parametrów zapewniają optymalną stabilizację procesu.

    Typowy obszar zastosowania TruPlasma Bipolar Serii 4000 (G2): Produkcja powłok odpornych na zużycie

    Uproszczona obsługa systemu za pomocą jednego urządzenia do wielu procesów

    TruPlasma Bias Serii 3000 posiada dwa oddzielne tryby napięcia: tryb wysokiego napięcia do 1200 woltów i tryb niskiego napięcia do 300 woltów. Tryby wspierają procesy nanoszenia powłok optycznych i metalicznych, używanych na przykład w przemyśle półprzewodnikowym czy utwardzania powierzchni materiałów. Ponadto nadają się do wszystkich zastosowań o podobnych wymaganiach dla wartości napięcia i prądu.

    Typowe zastosowanie TruPlasma Bias Serii 3000: Produkcja ogniw fotowoltaicznych

    Optymalna jakość warstwy dzięki stabilnemu procesowi

    Zasilacze TruPlasma Bias Serii 3000 posiadają w pełni cyfrowy system detekcji łuków o bardzo małej energii łuku, pozwalający uzyskać wysokiej jakości powłoki i dużą szybkość osadzania. Pozwala to na większe ograniczenie uszkodzeń podłoża. Proces i produkt końcowy ulegają poprawie.

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie PVD Power

    PVDPower

    Przyjazne dla użytkownika, wielojęzyczne oprogramowanie PVD Power oferuje różne możliwości działania, konfiguracji i diagnostyki w celu optymalizacji jakości procesu i skutecznego rozwiązywania problemów: wyświetlanie rzeczywistych wartości wszystkich istotnych parametrów procesu, jak również ostrzeżeń i alarmów, ustawianie żądanej wartości przez operatora, nagrywanie i wizualizacja ważnych parametrów pracy z wysoką rozdzielczością czasową (oscyloskop).

    W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Skontaktuj się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Twoim kraju.

    Także te tematy mogą Państwa zainteresować

    Bias Generator mit stabilem Spannungs- und schnellem Arc-Management
    Sprawdzone zasilacze impulsowe DC-Bias

    Zasilacze TruPlasma Bias Seria 4000 wspierają procesy nanoszenia powłok optycznych i metalicznych na przykład w przemyśle półprzewodnikowym.

    Services_Electronics_Technical_Support
    Serwis jak żaden inny

    Dzięki precyzyjnie dostosowanej umowie serwisowej zyskacie Państwo maksymalną dostępność zasilaczy przy dających się szybko oszacować kosztach konserwacji i eksploatacji.

    Services_Electronics_Training
    Naszym atutem są indywidualne szkolenia klientów

    Doświadczeni technicy serwisowi zapewniają gruntowną wiedzę, a przekazywane treści są dostosowane do potrzeb uczestników.

    Kontakt

    TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
    Faks: +48 22 761 38 01
    E-mail

    Pliki do pobrania

    Broszura
    Broszura dotycząca TruPlasma Bias Seria 3000 / 4000
    Broszura dotycząca TruPlasma Bias Seria 3000 / 4000
    pdf - 1 MB
    Serwis i kontakt