Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookies. Jeśli osoba odwiedzająca stronę korzysta z niej nadal bez dokonywania zmian w ustawieniach w plikach cookies, zakładamy, że wyraża ona zgodę na stosowanie tych plików.
Technologiebild RF Plasmageneratoren

Generatory plazmowe HF

Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma TRUMPF Hüttinger oferują najwyższą stabilność procesu wszystkich zasilaczy do wzbudzania plazmy. Technologia wysokich częstotliwości jest zatem szczególnie odpowiednia do procesów, które wymagają wysokiego stopnia dokładności i powtarzalności. Pod względem efektywności energetycznej i solidności nasze zasilacze wysokiej częstotliwości są jednymi z najlepszych produktów na rynku – są więc najlepszym wyborem dla wymagających zastosowań, takich jak wytwarzanie urządzeń półprzewodnikowych, mikroprocesorów, ogniw słonecznych lub płaskich ekranów.

Zasilacz wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3006

TruPlasma RF Seria 1000 / 3000 (G2/13)

TruPlasma RF Seria 1000 / 3000 (G2/13) to zasilacze wysokich częstotliwości najnowszej generacji. Dzięki innowacyjnym funkcjom, takim jak opatentowana technologia sprzężenia CombineLine lub pomiar w czasie rzeczywistym wszystkich parametrów procesu zasilanie jest zapewnione także w trudnych procesach plazmowych - optymalne warunki dla powtarzalnych wyników i wysokiej produktywności.

Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3024/3012/3006

TruPlasma RF Seria 3000

Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF Serii 3000 charakteryzują się wysoką wydajnością i stabilnością procesów. Dlatego są one idealnym rozwiązaniem dla wymagających procesów plazmowych, stosuje się je do wytwarzania płaskich ekranów, kolektorów słonecznych lub elementów półprzewodnikowych. Układy dopasowujące dokładnie dostosowane do generatora dla dopasowania impedancji w każdej chwili zapewniają optymalne i stabilne przenoszenie mocy z generatora do plazmy.

Zasilacz VHF Seria 3000

TruPlasma VHF Seria 3000

Maksymalna moc dla procesu: zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 oparte są na innowacyjnej koncepcji platformy, która spełnia nawet najwyższe wymagania procesowe. Modułowa, chłodzona wodą konstrukcja zasilaczy VHF umożliwia uzyskiwanie mocy wyjściowej do 80 kW - i to przy zachowaniu kompaktowych rozmiarów.

Rozwiązanie systemowe RF : układ dopasowujący dla zapewnienia najwyższej stabilności procesu

TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13)

Optymalne sterowanie procesu plazmowego wymaga dokładnego dopasowania impedancji wyjściowej zasilacza wysokiej częstotliwości (HF). Dbają o to układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) jako łączniki między zasilaczem a procesem. W ten sposób powstaje całościowe rozwiązanie dla mocy procesowej - system TRUMPF RF.

Serwis i kontakt