Aby udostępniać treści i zapewnić funkcjonalność tej witryny, wykorzystujemy pliki cookies. Aby zezwolić na wykorzystywanie przez nas plików cookies także w innych celach, kliknij tutaj. Informacje dotyczące dezaktywacji plików "cookies" i ochrony danych
Rozwiązanie systemowe RF: układ dopasowujący dla maksymalnej stabilności procesu
Rozwiązanie systemowe RF: układ dopasowujący dla maksymalnej stabilności procesu
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13)

Inteligentne dopasowanie przez pomiar w czasie rzeczywistym

Kompleksowe rozwiązanie systemowe RF z jednego źródła

Nowe układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) są idealnym uzupełnieniem zasilaczy wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger. Całościowe rozwiązanie powstaje dzięki inteligentnemu algorytmowi dopasowania i cyfrowej platformie kontroli do monitorowania procesów. Optymalna współpraca wszystkich komponentów - system TRUMPF RF.

Inteligentny algorytm dopasowania

Szybkie, stabilne i powtarzalne dopasowanie impedancji do 50 omów, nawet w krytycznych procesach.

Optymalna współpraca całego systemu

Zaawansowane oprogramowanie i ulepszona komunikacja między zasilaczem a siecią dopasowywania.

Pomiar mocy wysokiej częstotliwości (HF) w czasie rzeczywistym

Szybkie śledzenie każdej zmiany impedancji sieci dopasowywania i obciążenia.

Zamknięty obwód sterowania

Optymalne monitorowanie parametrów procesu oraz system wczesnego rozpoznawania łuku.

Łatwa w obsłudze kontrola procesu

Graficzny interfejs użytkownika i wydajne narzędzia (wykres Smitha, oscyloskop czasu rzeczywistego).

Rozwiązanie systemowe RF: układ dopasowujący dla maksymalnej stabilności procesu

Produkcja półprzewodników, ogniw słonecznych i płaskich ekranów

W produkcji półprzewodników, ogniw słonecznych i płaskich ekranów kluczowa jest stabilność procesów plazmowych. We współpracy z zasilaczami wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger, układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) zapewniają kompleksowe rozwiązanie dla maksymalnej stabilności i wydajności procesu.

Wsparcie przy nakładaniu warstw utwardzających: Sieci dopasowywania TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13)

Nanoszenie warstw utwardzających i warstw odpornych na ścieranie

Dzięki zastosowaniu funkcjonalnych powłok bardzo obciążone przedmioty obrabiane zyskują zwiększoną twardość mechaniczną oraz lepszą stabilność termiczną i chemiczną. Sieci dopasowywania TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13) w połączeniu z zasilaczem wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger zapewniają doskonałą jakość warstw.

Idealne do powlekania dużych powierzchni: Sieci dopasowywania TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13)

Obróbka ubytkowa i powlekanie powierzchni

Układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) znajdują zastosowanie we wszystkich typowych procesach plazmowych do powlekania lub obróbki ubytkowej powierzchni - na przykład: trawienie plazmowe, reaktywne trawienie jonowe, ALD, PECVD, rozpylanie lub spopielanie w plazmie. W połączeniu z zasilaczem wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger można osiągnąć optymalne wyniki procesu.

- / -
Wyjście RF        
moc wyjściowa 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Moc znamionowa 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
Częstotliwość wyjściowa 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Dane przyłącza sieciowego        
Napięcie sieciowe (±10%) 23,5 V - 24,5 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 23,5 V - 24,5 V
Częstotliwość sieciowa 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz 50 Hz - 60 Hz
Złącza komunikacyjne        
Złacza Sync Tak Tak Tak Tak
Analogowe/cyfrowe Tak Tak Tak Tak
RS 232 / RS 485 Tak Tak Tak Tak
PROFIBUS Tak Tak Tak Tak
EtherCAT Tak Tak Tak Tak
DeviceNet Nie Nie Nie Nie
Obudowa        
Masa 8 kg 27 kg 30 kg 15 kg
Stopień ochrony IP 21 21 21 21
Wymagania dot. chłodzenia        
Maks. ciśnienie wody - 6 bar 6 bar -
Min. różnica ciśnień - 1,5 bar 1,5 bar -
Min. natężenie przepływu - 3,5 l/min 5 l/min -
Temperatura medium chłodzącego - 10 °C - 30 °C 1 10 °C - 30 °C 1 -
Informacje ogólne        
Certyfikaty/standardy CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47
Warunki otoczenia        
Temperatura zewnętrzna 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C
Wilgotność powietrza 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 %
Ciśnienie barometryczne 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa
PDF <1MB
Karta danych technicznych

Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.

Gwarantuje zawsze pełną moc zasilacza wysokiej częstotliwości.

Doskonała kontrola procesu w każdej chwili

Układ dopasowujący zawsze gwarantuje szybkie i bezpośrednie dopasowanie impedancji do 50 omów - pozwala to uzyskać pełną moc generatora HF oddaną do procesu. Komunikacja między układem dopasowania i zasilaczem umożliwia optymalne monitorowanie procesu oraz wczesne rozpoznawanie łuku.

Łatwe w obsłudze oprogramowanie TruControl Power

Kontrola wszystkich parametrów

Pomiar w czasie rzeczywistym mocy wejściowej i wyjściowej HF sygnalizuje dynamiczne zmiany impedancji. Czujniki chłodzenia umożliwiają niezawodne przewidywanie strat mocy. Dzięki graficznemu oprogramowaniu do obsługi z kompleksową wizualizacją w czasie rzeczywistym (wykres Smitha, oscyloskop) wszystkie istotne parametry procesu są zawsze pod kontrolą.

TruPlasma RF_Systemport

TRUMPF SystemPort

SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania. Zasilacz RF ma dostęp do wszystkich zmierzonych wartości. Dzięki temu można lepiej monitorować parametry procesu, chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku. Kompletnym systemem RF można sterować poprzez jeden interfejs zasilacza.

Różne opcje pozwalają na adaptację systemu TRUMPF RF do danego zastosowania.

Pomiar prądu HF

Precyzyjny pomiar prądu AC do wykrywania anomalii plazmowych umieszczony w układzie dopasowującym w bezpośrednim sąsiedztwie procesu.

System detekcji łuków

Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjne rozpoznawanie łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.

Interfejsy

Opcjonalnie dostępne są interfejsy: analogowy / cyfrowy, PROFIBUS i EtherCAT. Standardowe interfejsy to: EtherNet, SystemPort i RS232/485.

Łatwe w obsłudze oprogramowanie TruControl Power

TruControl Power

Łatwe w obsłudze oprogramowanie sterujące TruControl Power pozwala na wygodne i niezawodne uruchomienie monitoringu generatora HF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.

Łatwe w obsłudze oprogramowanie TruControl Power

Graficzne oprogramowanie do obsługi

Kompleksowe wykresy umożliwiają kontrolę wszystkich istotnych parametrów procesowych. Impedancja obciążenia i układu dopasowującego może być wizualizowana za pomocą wykresu Smith, moc wejściowa i wyjściowa HF wraz z położeniem częstotliwości i fazy za pomocą oscyloskopu, w czasie rzeczywistym.

System TRUMPF RF, składający się z zasilacza HF i układu dopasowującego, tworzy idealnie dopasowany system pozwalający uzyskać optymalne wyniki procesu.

Łatwe w obsłudze oprogramowanie TruControl Power
Graficzny interfejs oprogramowania sterującego

Kompleksowe wykresy umożliwiają kontrolę wszystkich istotnych parametrów procesowych. Impedancja obciążenia i układu dopasowującego może być wizualizowana za pomocą wykresu Smitha, moc wejściowa i wyjściowa HF wraz z położeniem częstotliwości i fazy za pomocą oscyloskopu. Dane przedstawiane są w czasie rzeczywistym.

Oscylator matrycowy do ustabilizowania krytycznych synchronicznych procesów plazmowych
Oscylatory matrycowe

Oscylatory matrycowe pozwalają ustabilizować i zoptymalizować krytyczne synchroniczne procesy plazmowe. Zintegrowany cyfrowy syntezator częstotliwości i fazy zapewnia wysoką częstotliwość i stabilność fazową i umożliwia regulację położenia faz o bardzo małej wielkości kroku. Istnieją różne wersje oscylatorów wzorcowych do wyboru dla częstotliwości 13,56 MHz oraz różne kombinacje częstotliwości.

Przełącznik HF do wykorzystania generatora HF w elastycznych systemach plazmowych
Przełącznik HF

Przełącznik HF pozwala na wielokrotne użycie generatora HF na różnych stacjach obróbki plazmowej, na przykład do zasilania prądowego procesów sekwencyjnych lub systemów o różnych punktach zasilania. Dostępne są różne przełączniki HF w dwóch poziomach mocy oraz z 2, 3 lub 4 wyjściami.

Przewód koncentryczny do transmisji określonej mocy
Kabel koncentryczny

Do przesyłu energii HF TRUMPF oferuje kabel koncentryczny Hüttinger specjalnie zaprojektowany do eksploatacji w systemach 50-omowych.

Zasilacz i sieć dopasowywania: idealnie dobrane rozwiązanie systemowe

Optymalne sterowanie procesem plazmowym

Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort, uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.

W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Skontaktuj się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Twoim kraju.

Przypisy
  • Temperatura wody chłodzącej musi być wyższa niż temperatura punktu rosy w pomieszczeniu, aby zapobiec kondensacji.

Także te tematy mogą Państwa zainteresować

Kontakt

TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
Faks +48 22 761 38 01
E-mail

Pliki do pobrania

Broszura dotycząca TruPlasma RF System
Broszura dotycząca TruPlasma RF System
pdf - 6 MB
Serwis i kontakt

Close

Country and language selection

Please note

You have selected Poland . Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Poland
United States

Or select a country or region.