Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookies. Jeśli osoba odwiedzająca stronę korzysta z niej nadal bez dokonywania zmian w ustawieniach w plikach cookies, zakładamy, że wyraża ona zgodę na stosowanie tych plików.
Rozwiązanie systemowe RF: układ dopasowujący dla maksymalnej stabilności procesu
Rozwiązanie systemowe RF: układ dopasowujący dla maksymalnej stabilności procesu
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13)

Inteligentne dopasowanie przez pomiar w czasie rzeczywistym

    - / -
    • Przegląd
    • Zastosowania
    • Dane techniczne
    • Korzyści dla klienta
    • Opcje
    • Oprogramowanie
    • Komponenty systemu
    • System RF
    • Więcej Mniej
    Kompleksowe rozwiązanie systemowe RF z jednego źródła

    Nowe układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) są idealnym uzupełnieniem zasilaczy wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger. Całościowe rozwiązanie powstaje dzięki inteligentnemu algorytmowi dopasowania i cyfrowej platformie kontroli do monitorowania procesów. Optymalna współpraca wszystkich komponentów - system TRUMPF RF.

    Inteligentny algorytm dopasowania

    Szybkie, stabilne i powtarzalne dopasowanie impedancji do 50 omów, nawet w krytycznych procesach.

    Optymalna współpraca całego systemu

    Zaawansowane oprogramowanie i ulepszona komunikacja między zasilaczem a siecią dopasowywania.

    Pomiar mocy wysokiej częstotliwości (HF) w czasie rzeczywistym

    Szybkie śledzenie każdej zmiany impedancji sieci dopasowywania i obciążenia.

    Zamknięty obwód sterowania

    Optymalne monitorowanie parametrów procesu oraz system wczesnego rozpoznawania łuku.

    Łatwa w obsłudze kontrola procesu

    Graficzny interfejs użytkownika i wydajne narzędzia (wykres Smitha, oscyloskop czasu rzeczywistego).

    Rozwiązanie systemowe RF: układ dopasowujący dla maksymalnej stabilności procesu

    Produkcja półprzewodników, ogniw słonecznych i płaskich ekranów

    W produkcji półprzewodników, ogniw słonecznych i płaskich ekranów kluczowa jest stabilność procesów plazmowych. We współpracy z zasilaczami wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger, układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) zapewniają kompleksowe rozwiązanie dla maksymalnej stabilności i wydajności procesu.

    Wsparcie przy nakładaniu warstw utwardzających: Sieci dopasowywania TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13)

    Nanoszenie warstw utwardzających i warstw odpornych na ścieranie

    Dzięki zastosowaniu funkcjonalnych powłok bardzo obciążone przedmioty obrabiane zyskują zwiększoną twardość mechaniczną oraz lepszą stabilność termiczną i chemiczną. Sieci dopasowywania TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13) w połączeniu z zasilaczem wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger zapewniają doskonałą jakość warstw.

    Idealne do powlekania dużych powierzchni: Sieci dopasowywania TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13)

    Obróbka ubytkowa i powlekanie powierzchni

    Układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) znajdują zastosowanie we wszystkich typowych procesach plazmowych do powlekania lub obróbki ubytkowej powierzchni - na przykład: trawienie plazmowe, reaktywne trawienie jonowe, ALD, PECVD, rozpylanie lub spopielanie w plazmie. W połączeniu z zasilaczem wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger można osiągnąć optymalne wyniki procesu.

    Wyjście RF        
    moc wyjściowa 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
    Moc znamionowa 6 kW 12 kW 24 kW 3 kW
    Częstotliwość wyjściowa 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
    Dane przyłącza sieciowego        
    Napięcie sieciowe (±10%) 23,5 V - 24,5 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 87 V - 264 V (±10%) 23,5 V - 24,5 V
    Częstotliwość sieciowa 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz 50 Hz - 60 Hz
    Złącza komunikacyjne        
    Złacza Sync Tak Tak Tak Tak
    Analogowe/cyfrowe Tak Tak Tak Tak
    RS 232 / RS 485 Tak Tak Tak Tak
    PROFIBUS Tak Tak Tak Tak
    EtherCAT Tak Tak Tak Tak
    DeviceNet Nie Nie Nie Nie
    Obudowa        
    Masa 8 kg 27 kg 30 kg 15 kg
    Stopień ochrony IP 21 21 21 21
    Wymagania dot. chłodzenia        
    Maks. ciśnienie wody - 6 bar 6 bar -
    Min. różnica ciśnień - 1,5 bar 1,5 bar -
    Min. natężenie przepływu - 3,5 l/min 5 l/min -
    Temperatura medium chłodzącego - 10 °C - 30 °C 1 10 °C - 30 °C 1 -
    Informacje ogólne        
    Certyfikaty/standardy CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47
    Warunki otoczenia        
    Temperatura zewnętrzna 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C 10 °C - 35 °C
    Wilgotność powietrza 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 % 20 % - 75 %
    Ciśnienie barometryczne 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa 800 kPa - 1013 kPa
    PDF <1MB
    Karta danych technicznych

    Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.

    Gwarantuje zawsze pełną moc zasilacza wysokiej częstotliwości.

    Doskonała kontrola procesu w każdej chwili

    Układ dopasowujący zawsze gwarantuje szybkie i bezpośrednie dopasowanie impedancji do 50 omów - pozwala to uzyskać pełną moc generatora HF oddaną do procesu. Komunikacja między układem dopasowania i zasilaczem umożliwia optymalne monitorowanie procesu oraz wczesne rozpoznawanie łuku.

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie TruControl Power

    Kontrola wszystkich parametrów

    Pomiar w czasie rzeczywistym mocy wejściowej i wyjściowej HF sygnalizuje dynamiczne zmiany impedancji. Czujniki chłodzenia umożliwiają niezawodne przewidywanie strat mocy. Dzięki graficznemu oprogramowaniu do obsługi z kompleksową wizualizacją w czasie rzeczywistym (wykres Smitha, oscyloskop) wszystkie istotne parametry procesu są zawsze pod kontrolą.

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania. Zasilacz RF ma dostęp do wszystkich zmierzonych wartości. Dzięki temu można lepiej monitorować parametry procesu, chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku. Kompletnym systemem RF można sterować poprzez jeden interfejs zasilacza.

    Różne opcje pozwalają na adaptację systemu TRUMPF RF do danego zastosowania.

    Pomiar prądu HF

    Precyzyjny pomiar prądu AC do wykrywania anomalii plazmowych umieszczony w układzie dopasowującym w bezpośrednim sąsiedztwie procesu.

    System detekcji łuków

    Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjne rozpoznawanie łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.

    Interfejsy

    Opcjonalnie dostępne są interfejsy: analogowy / cyfrowy, PROFIBUS i EtherCAT. Standardowe interfejsy to: EtherNet, SystemPort i RS232/485.

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie TruControl Power

    TruControl Power

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie sterujące TruControl Power pozwala na wygodne i niezawodne uruchomienie monitoringu generatora HF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie TruControl Power

    Graficzne oprogramowanie do obsługi

    Kompleksowe wykresy umożliwiają kontrolę wszystkich istotnych parametrów procesowych. Impedancja obciążenia i układu dopasowującego może być wizualizowana za pomocą wykresu Smith, moc wejściowa i wyjściowa HF wraz z położeniem częstotliwości i fazy za pomocą oscyloskopu, w czasie rzeczywistym.

    System TRUMPF RF, składający się z zasilacza HF i układu dopasowującego, tworzy idealnie dopasowany system pozwalający uzyskać optymalne wyniki procesu.

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie TruControl Power
    Graficzny interfejs oprogramowania sterującego

    Kompleksowe wykresy umożliwiają kontrolę wszystkich istotnych parametrów procesowych. Impedancja obciążenia i układu dopasowującego może być wizualizowana za pomocą wykresu Smitha, moc wejściowa i wyjściowa HF wraz z położeniem częstotliwości i fazy za pomocą oscyloskopu. Dane przedstawiane są w czasie rzeczywistym.

    Oscylator matrycowy do ustabilizowania krytycznych synchronicznych procesów plazmowych
    Oscylatory matrycowe

    Oscylatory matrycowe pozwalają ustabilizować i zoptymalizować krytyczne synchroniczne procesy plazmowe. Zintegrowany cyfrowy syntezator częstotliwości i fazy zapewnia wysoką częstotliwość i stabilność fazową i umożliwia regulację położenia faz o bardzo małej wielkości kroku. Istnieją różne wersje oscylatorów wzorcowych do wyboru dla częstotliwości 13,56 MHz oraz różne kombinacje częstotliwości.

    Przełącznik HF do wykorzystania generatora HF w elastycznych systemach plazmowych
    Przełącznik HF

    Przełącznik HF pozwala na wielokrotne użycie generatora HF na różnych stacjach obróbki plazmowej, na przykład do zasilania prądowego procesów sekwencyjnych lub systemów o różnych punktach zasilania. Dostępne są różne przełączniki HF w dwóch poziomach mocy oraz z 2, 3 lub 4 wyjściami.

    Przewód koncentryczny do transmisji określonej mocy
    Kabel koncentryczny

    Do przesyłu energii HF TRUMPF oferuje kabel koncentryczny Hüttinger specjalnie zaprojektowany do eksploatacji w systemach 50-omowych.

    Zasilacz i sieć dopasowywania: idealnie dobrane rozwiązanie systemowe

    Optymalne sterowanie procesem plazmowym

    Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort, uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.

    W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Skontaktuj się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Twoim kraju.

    Przypisy
    • Temperatura wody chłodzącej musi być wyższa niż temperatura punktu rosy w pomieszczeniu, aby zapobiec kondensacji.

    Także te tematy mogą Państwa zainteresować

    TruPlasma RF 1003: Hochfrequenzgenerator für maximale Produktivität
    Minimalne koszty przy maksymalnych rezultatach

    TruPlasma RF Seria 1000 / 3000 (G2/13) to zasilacze wysokiej częstotliwości najnowszej generacji, zapewniające najlepsze warunki do stabilnego zasilania prądem plazmy.

    VHF Generator Serie 3000
    Wysoka ekonomiczność w solidnej obudowie

    Innowacyjne, modułowe, skalowalne: nowe kompaktowe zasilacze VHF marki TRUMPF Hüttinger imponują wysoką ekonomicznością i solidną obudową.

    Services_Electronics_Training
    Naszym atutem są indywidualne szkolenia klientów

    Doświadczeni technicy serwisowi zapewniają gruntowną wiedzę, a przekazywane treści są dostosowane do potrzeb uczestników.

    Kontakt

    TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
    Faks: +48 22 761 38 01
    E-mail

    Pliki do pobrania

    Broszura dotycząca TruPlasma RF System
    Broszura dotycząca TruPlasma RF System
    pdf - 6 MB
    Serwis i kontakt